物理气相沉积论文

钛合金基体上AlCrN涂层的冲蚀磨损行为研究
论文摘要目的研究钛合金基体表面的AlCrN涂层在固体粒子冲蚀条件下的磨损性能和材料去除机制。方法采用阴极电弧离子镀物理气相沉积技术在钛合金基体表面制备AlCrN硬质涂层。利用扫...
半导体淀积工艺及其设备技术研究
论文摘要薄膜工艺是半导体工艺重要组成部分,较广泛的采用物理气相沉积和化学气相沉积方法。通常把PECVD才直接称为淀积工艺,其工艺受多方面因素影响,通过工艺和设备技术的研究,提高...
不同工艺下TaN薄膜中残余应力的研究
论文摘要笔者以TaN薄膜中的残余应力为主要研究对象,分别从实验和理论上对薄膜中的残余应力进行了分析。所研究TaN薄膜由物理气相沉积的方法制得,制备过程中以不同参数为变量,如反应...
一种用于钨薄膜物理气相沉积用加热盘的新型加热管论文和设计-庞井成
全文摘要本实用新型公开了一种用于钨薄膜物理气相沉积用加热盘的新型加热管，包括冷电极、加热管外管、绝缘导热介质和加热丝，加热丝设于加热管外管的内部，加热管外管内部填充有绝缘导热介...