• 等离子体增强原子层沉积技术制备碳化钴薄膜

    等离子体增强原子层沉积技术制备碳化钴薄膜

    论文摘要报道了一种新型PE-ALD工艺用于沉积碳化钴薄膜。以脒基钴为前驱体,在氢等离子体作用下,成功制备了碳化钴薄膜。薄膜厚度与沉积循环关系显示薄膜生长为理想的逐层生长行为,1...