• 基片偏压对磁控溅射放电特性及离子性能的影响

    基片偏压对磁控溅射放电特性及离子性能的影响

    论文摘要磁控溅射是一种重要的薄膜沉积方法,在微电子器件的金属膜、碳氮硬质涂层、纳米复合薄膜等多种薄膜材料的制备中具有广泛的应用。为了控制薄膜生长与结构、提高薄膜性能,人们采用多...