射频磁控溅射论文

磁控溅射沉积制备Al掺杂ZnO薄膜的棒状晶粒生长
论文摘要Al掺杂ZnO（AZO）薄膜由于电导率高、光学透过率高、原料储量丰富、成本低廉而成为最具潜力的透明导电薄膜。本实验采用射频磁控溅射法沉积制备了30cm×30cm的AZO...
磁控溅射法制备LiTaO3薄膜及其结晶性能研究
论文摘要用射频磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si（100）基片上沉积了LiTaO3薄膜,并在氧气气氛中不同温度下进行退火。采用SEM、XRD、XPS等表征方法分析了薄膜的结...
基片偏压对磁控溅射放电特性及离子性能的影响
论文摘要磁控溅射是一种重要的薄膜沉积方法,在微电子器件的金属膜、碳氮硬质涂层、纳米复合薄膜等多种薄膜材料的制备中具有广泛的应用。为了控制薄膜生长与结构、提高薄膜性能,人们采用多...
H2O2处理对于ZnO薄膜性能的影响
论文摘要本文研究了对ZnO薄膜的光致发光、晶体缺陷、晶粒尺寸和表面形貌的影响。采用PL测试表征材料的缺陷密度,用HR-XRD缺陷显著降低,结晶情况有所改善,晶粒尺寸增大。利用H...
Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7栅绝缘层的SiO2修饰对ZnO-TFTs性能的影响
论文摘要具有高介电常数的栅绝缘层材料存在某种极化及耦合作用,使得ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应、大的电容耦合效应和低的载流子迁移率.为了解决这些问题,本文提出了一...