甚高频磁控溅射论文

ICP预离化VHF磁控溅射的放电特性及离子性能
论文摘要磁控溅射是极其重要的薄膜制备技术,在工业生产和科学研究领域都得到广泛应用。随着高端芯片制造中高离化金属膜的制备与刻蚀和具有特殊结构高生长密度薄膜的制备需求,高离化率、荷...