离子特性论文

基片偏压对磁控溅射放电特性及离子性能的影响
论文摘要磁控溅射是一种重要的薄膜沉积方法,在微电子器件的金属膜、碳氮硬质涂层、纳米复合薄膜等多种薄膜材料的制备中具有广泛的应用。为了控制薄膜生长与结构、提高薄膜性能,人们采用多...
ICP预离化VHF磁控溅射的放电特性及离子性能
论文摘要磁控溅射是极其重要的薄膜制备技术,在工业生产和科学研究领域都得到广泛应用。随着高端芯片制造中高离化金属膜的制备与刻蚀和具有特殊结构高生长密度薄膜的制备需求,高离化率、荷...