集成电路制造论文

投影光刻机中气相分子污染物（AMC）的控制及检测
论文摘要投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的加工质量和成品率,并会影响工作人员的身...
2019年中国半导体材料业的状况分析
论文摘要分析表明,我国目前正在新建和扩建的晶圆生产线和封装生产线都将进入量产。探讨我国半导体材料市场规模,主要半导体材料产品的发展状况,包括硅晶圆片、电子级纯度的多晶硅、光掩模...