碱蚀刻论文

通过化学蚀刻提高Bi2WO6/Bi2MoO6光催化活性的机理探析
论文摘要Bi2WO6/Bi2MoO6复合半导体已经能够利用无模板一步水热法得到,并通过简单的化学蚀刻方法处理实现其催化性能的提升,使用氢氧化钠作为蚀刻剂.光催化测试表明碱蚀刻催...