化学机械抛光设备论文

CMP抛光设备底座系统的模态仿真分析
论文摘要设计了一种化学机械抛光设备(CMP)的底座系统,主要包括地脚、方钢管、大铝板等。针对CMP设备在使用中存在的噪声偏大,高转速下的电机转动引起的共振影响晶圆抛光质量问题,...