高功率脉冲磁控溅射论文
高功率脉冲磁控溅射制备非晶碳薄膜研究进展
论文摘要非晶碳薄膜主要由sp~3碳原子和sp~2碳原子相互混杂的三维网络构成,具有高硬度、低摩擦系数、耐磨损、耐腐蚀以及化学稳定性等优异性能。然而传统制备方法难以实现薄膜结构及...高功率脉冲和脉冲直流磁控共溅射CrAlN薄膜的研究
论文摘要目的通过掺杂适量Al元素来固溶强化CrN薄膜,从而提高薄膜的抗氧化性能和热稳定性。方法采用高功率脉冲磁控溅射和脉冲直流磁控溅射复合镀膜技术制备了CrAlN薄膜,利用XR...外扩型电磁场控制筒形阴极内等离子体放电输运特性的仿真研究
论文摘要筒形阴极由于具有向内放电的特性,可改善高功率脉冲磁控溅射技术放电不稳定、溅射材料离化率差异大等缺陷.然而其产生的等离子体仅能依靠浓度差扩散的方式向基体运动,沉积速率并没...高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体放电时空特性研究进展
论文摘要高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电凭借着高离化率优势,已经成为物理气相沉积(PVD)领域的核心技术。鉴于HiPIMS放电具有复杂的物理场配置和兆瓦级的峰值功率,其产...