高纯气体分子论文

投影光刻机中气相分子污染物（AMC）的控制及检测
论文摘要投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的加工质量和成品率,并会影响工作人员的身...