调制脉冲磁控溅射论文

调制脉冲磁控溅射峰值靶功率密度对纯Ti镀层沉积行为的影响（英文）
论文摘要调制脉冲磁控溅射可通过改变强、弱离化阶段的脉冲强度和占空比等电场参量,大幅调控镀料粒子的离化率、沉积能量和数量,实现对沉积镀层形核与生长过程的精确把控。在非平衡闭合磁场...