等离子增强原子层沉积论文

热ALD和等离子增强ALD沉积HfO2薄膜的比较（英文）
论文摘要以四（甲乙胺）铪（TEMAHf）作为前驱体,采用热原子层沉积（TALD）技术和等离子体增强原子层沉积（PEALD）技术分别在硅衬底上沉积二氧化铪（HfO2）薄膜。分别研...