大功率脉冲磁控溅射论文

频率和脉冲时间对大功率脉冲磁控溅射氮化钛沉积速率和形貌的影响（英文）
论文摘要采用大功率脉冲磁控溅射(HiPIMS),在不同频率(162～637Hz)和脉冲时间(60～322μs)条件下,将氮化钛薄膜沉积在硅基体上。采用响应面法研究频率和脉冲时间...