论文摘要为了提高不锈钢双极板的耐蚀性与导电性能,使用非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢表面制备TiN、CrN、TiCrN镀层。使用X射线衍射仪(XRD)表征镀层的结构,使用扫...
论文摘要磁控溅射作为一种环保的新型低温高速溅射技术,广泛应用于织物的涂层。文章介绍了织物金属化涂层常用的方法,综述了磁控溅射技术在安全防护、医疗卫生、环境保护和电子工业等领域的...
论文摘要采用直流反应磁控溅射法,在玻璃衬底上生长了沿(002)择优取向的AlN薄膜,用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对AlN薄膜结构和表面形貌进行表征,并测量...
论文摘要为研究N2压强以及流量在磁控溅射中对TiN薄膜生长的影响,通过改变N2气压以及流量使用射频磁控溅射设备在基片温度为300℃,时长2h下生长TiN薄膜。采用电子扫描显微镜...
论文摘要目的提高铜互连扩散阻挡层的失效温度。方法采用磁控溅射方法制备了不同氮气流量下的Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系,使用真空退火炉对Cu/AlCrTaT...
论文摘要采用直流磁控溅射法制备(CoCrFeNi)Nx高熵薄膜,研究了氮流量比对薄膜的力学性能和电磁性能的影响。结果表明,在不同氮流量比条件下制备的(CoCrFeNi)Nx薄膜...
论文摘要采用磁控溅射方法在ZrCuAl非晶涂层中掺杂不同含量N,采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、原子力显微镜等对涂层的显微结构进行表征,采用纳米压痕仪、显微硬...
论文摘要通过磁控溅射技术制备了CrN薄膜,使用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法研究了N2分压、溅射功率以及夹杂物数量对CrN薄膜结构、成分、耐蚀性能的影响。结果表...
论文摘要采用高功率脉冲复合直流磁控溅射技术,以工作气压、基底偏压和靶电压为影响因素设计正交试验进行类金刚石(DLC)薄膜的制备研究,采用扫描电镜(SEM)、纳米硬度计、拉曼光谱...
论文摘要综述了高熵合金的概念与特性,介绍了高熵合金涂层的设计和制备手段。重点讨论了激光熔覆、磁控溅射和热喷涂这3种制备高熵合金涂层的技术手段的原理、特点及国内外的研究现状,展望...
论文摘要自旋是电子除电荷与质量外的另一个基本属性,基于电子自旋的自旋电子学器件也受到研究工作者越来越多的关注。本文应用磁控溅射和高温氮化技术在半导体材料GaN上制备了铁磁性的ε...
论文摘要采用磁控溅射法,通过改变氩氮比率,在Si(100)衬底上成功制备了W2N薄膜,当氩氮比率为20∶6时薄膜的结晶性最好.为了改善W2N薄膜的力学和摩擦学性能,采用射频和直...
论文摘要从三元含Mo的Cr-Mo-N、Mo-Si-N、Mo-C-N薄膜到四元Cr-Mo-Si-N、Mo-Si-C-N薄膜,综述多元系列薄膜的结构、力学及摩擦学性能的研究进展;分...
论文摘要通过改变W靶电流,采用磁控溅射技术在M2工具钢表面制备不同W含量的CrAlWN薄膜,利用SEM、EDS、XRD、纳米压痕仪和摩擦磨损试验仪研究了不同W含量的CrAlWN...
论文摘要采用磁控溅射方法沉积了Al/Si薄膜,通过自然氧化形成中间层,再结合快速光热退火制备出微晶硅.研究了铝诱导非晶硅晶化的两个热力学过程:Si的扩散和Si的形核长大.利用拉...
论文摘要采用非平衡磁控溅射法制备得到不同厚度的铜膜和铝膜,采用扫描电镜(SEM)、台阶仪以及阻抗分析仪进行表征,并对其电爆性能进行测试。实验结果表明,金属薄膜在溅射过程中,溅射...
论文摘要采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnMgO∶Ti透明导电薄膜。利用SEM、XRD、双光束紫外可见分光光度计和四探针法系统研究了靶基距对薄膜形貌及光电性能的影响。结果...
论文摘要同步辐射广泛使用Au薄膜作为反射镜膜层,降低Au薄膜的粗糙度以减小散射信号仍是难点。基于国内外对Au薄膜的研究,本文采用在Au薄膜中插入Pt间隔层的方法,制备了新型Au...
论文摘要利用射频磁控溅射法和快速热退火处理,在高电阻Si基片上制备了具有较低介电损耗的MgO掺杂Ba0.25Sr0.75TiO3(BST)铁电薄膜。通过XRD和SEM,分别对B...
论文摘要采用磁控射频(RF)与磁控直流(DC)分别溅射金属铝靶,制备了润滑RF-Al-Ti/MoS2和DC-Al-Ti/MoS2复合涂层,并在真空条件下对制备涂层进行热处理以提...