![氧化石墨烯/聚酰亚胺复合薄膜的制备及阻水性能]()
论文摘要以石墨粉为原料,采用改进的Hummers法制备氧化石墨烯（GO）,采用原位聚合法制备GO/聚酰亚胺酸（PAA）前驱体,GO/PAA前驱体经高温固化处理后得到GO/聚酰亚...
![电介质储能薄膜的研究现状及提高储能密度的方法]()
论文摘要随着能源危机和环境污染问题的日益突出,新能源的研发是当前人们密切关注的重要研究领域之一。除新能源的收集外,能量的存储也日益受到人们的重视。常见的储能器件有电池、燃料电池...
![AZO透明导电薄膜及其用于GaAs基VCSEL的研究]()
论文摘要垂直腔面发射半导体激光器（VerticalCavitySurfaceEmittingLaser,VCSEL）是一种性能优良的新型光源。它能够实现芯片表面的激光发射,具有...
![CrCN基薄膜结构及在不同环境中的摩擦学特性研究]()
论文摘要本文以TC4钛合金片和单晶Si（100）片为基材,采用闭式非平衡磁控溅射系统在其表面沉积了具有不同Mo含量的CrMoCN薄膜,同时以316L不锈钢片和单晶Si（100）...
![SnSe2薄膜的侧向光伏性质研究]()
论文摘要随着生物技术和纳米科技的快速发展,基于侧向光伏效应制备成的位敏传感器件在生物医学和生物检测等方面有越来越重要的应用。新型二维层状SnSe2材料是一种n型窄禁带半导体,具...
![激光元件小尺寸损伤的性能修复研究]()
论文摘要激光元件在大功率激光系统中往往会受到强激光辐照而发生损伤,提升激光元件的负载能力,保证大功率激光系统正常运行具有重要的意义。对激光元件表面小尺寸损伤进行修复、抑制损伤增...
![金属Y和Cr共掺杂W2N薄膜的力学及摩擦学性能研究]()
论文摘要采用磁控溅射法,通过改变氩氮比率,在Si（100）衬底上成功制备了W2N薄膜,当氩氮比率为20∶6时薄膜的结晶性最好.为了改善W2N薄膜的力学和摩擦学性能,采用射频和直...
![磁偏转电子束蒸发源的研发]()
论文摘要本文介绍了自主研发的磁偏转电子束蒸发源,主要构造有电子束发射及偏转组件、水冷组件和坩埚换位组件等,设备集成在6英寸的超高真空刀口法兰上,可安装3个坩埚。整体构造通过CS...
![多元Cr-Mo-Si-C-N系列薄膜结构及摩擦学特性研究进展]()
论文摘要从三元含Mo的Cr-Mo-N、Mo-Si-N、Mo-C-N薄膜到四元Cr-Mo-Si-N、Mo-Si-C-N薄膜,综述多元系列薄膜的结构、力学及摩擦学性能的研究进展;分...
![磁场预退火对FeCo/SiO2薄膜结构和磁性的影响]()
论文摘要采用溶胶-凝胶旋涂工艺并结合氢气还原在Si（001）基片上制备FeCo/SiO2薄膜。将薄膜样品在0、800kA/m磁场中于400℃真空退火1h后于900℃在氢气气氛中...
![Cu2Sn（S,Se）3薄膜的溶液法制备及其光电性能研究]()
论文摘要采用低廉、简便及易于控制元素组成的溶液法在钠钙玻璃和钼玻璃基底上沉积Cu-Sn-S前驱体膜,随后在N2保护下硒化获得到Cu2Sn（S,Se）3薄膜,并通过调控前驱薄膜的...
![Cu元素比例对Cu2ZnSnS4薄膜光电性能的影响]()
论文摘要采用溶胶-凝胶法,以金属醇盐和硫脲为原料,并将乙二醇甲醚为溶剂在玻璃衬底上制备不同Cu组分比例的Cu2ZnSnS4薄膜材料,通过金相显微镜进行观察。结果表明:Cu元素摩...
![绕线片式电感表面金属化研究进展]()
论文摘要随着信息通信技术快速发展,绕线片式电感在3C电子行业、智能装备、航空航天、汽车能源等领域的市场需求量迅速增长,同时朝着小型化方向发展.金属化作为绕线片式电感制造过程中关...
![H2O2处理对于ZnO薄膜性能的影响]()
论文摘要本文研究了对ZnO薄膜的光致发光、晶体缺陷、晶粒尺寸和表面形貌的影响。采用PL测试表征材料的缺陷密度,用HR-XRD缺陷显著降低,结晶情况有所改善,晶粒尺寸增大。利用H...
![电沉积Sn对In2O3薄膜透光和导电性能的影响]()
论文摘要室温下利用射频磁控溅射粉末靶制备In2O3薄膜,并在其上电沉积Sn制备Sn/In2O3复合薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪、紫外可见分光光度计和霍尔效应仪等手段表征和分...
![W掺杂对CrAlN薄膜微观结构及力学性能的影响]()
论文摘要通过改变W靶电流,采用磁控溅射技术在M2工具钢表面制备不同W含量的CrAlWN薄膜,利用SEM、EDS、XRD、纳米压痕仪和摩擦磨损试验仪研究了不同W含量的CrAlWN...
![多晶硅生产中硅芯色泽异常的机理研究]()
论文摘要采用HF溶液对硅芯进行腐蚀实验,利用电子探针(EPMA)和X射线光电子能谱(XPS)方法分析成品硅芯和色泽异常硅芯表面化学成分,研究硅芯色泽异常的主要机理。研究结果表明...
![Mg掺杂InxGa1-xN薄膜的磁控溅射法制备和表征（英文）]()
论文摘要采用磁控溅射法,用In2O3靶、Ga2O3靶、Mg靶在Si片上制备出InxGa1-xN薄膜和Mg掺杂的InxGa1-xN薄膜。薄膜中的In组分随着Mg的掺杂而减少,因为...
![氧化铜及掺铟氧化铜薄膜的磁控溅射制备及研究]()
论文摘要氧化铜作为环保、无毒、廉价的直接带隙半导体材料,在诸多领域尤其太阳能电池领域有美好的应用前景。本研究采用直流磁控溅射法制备了氧化铜（CuO）及掺铟氧化铜（CuO:In）...
![同步辐射用Au-Pt多层薄膜反射镜]()
论文摘要同步辐射广泛使用Au薄膜作为反射镜膜层,降低Au薄膜的粗糙度以减小散射信号仍是难点。基于国内外对Au薄膜的研究,本文采用在Au薄膜中插入Pt间隔层的方法,制备了新型Au...
