低应力论文

ICP-CVD设备低温制备低应力氮化硅薄膜工艺的探索
论文摘要制备低应力的氮化硅薄膜是微机械系统和集成电路中非常重要的工艺。在温度不高于80℃的条件下,采用ICP-CVD设备,利用硅烷和氮气作为前驱体沉积氮化硅介质薄膜。研究了沉积...
地球内部存在低应力长时间作用的黏性破坏吗?
论文摘要根据变形耗散理论,本文提出了一个长期以来被忽略的问题:地球内部低应力长时间作用下超塑性蠕变会导致黏性流变破坏吗?一些实验表明在纳米相合金和陶瓷中观察到高应变率下的超塑性...