![群浅槽超快激光刻蚀与电解刻蚀工艺对比]()
论文摘要分别采用超快激光加工设备和电解刻蚀系统,对高温合金群浅槽进行了刻蚀实验,观察了浅槽形貌及剖切金相,检测了浅槽表面粗糙度及深度。结果表明:两种加工方式均能实现群浅槽的加工...
![超疏水铜表面的制备及其润湿行为研究]()
论文摘要以铜为基体材料,采用简单的化学刻蚀法,用HCl,HNO3,HF组成的混酸溶液（化学刻蚀液A）和FeCl3,HCl组成的混合溶液（化学刻蚀液B）两种不同的刻蚀液制备具有超...
![保温时间对锰氧化物刻蚀金刚石单晶的影响]()
论文摘要研究了在不同保温时间下MnO2对金刚石单晶的表面刻蚀,通过扫描电子显微镜和拉曼光谱对刻蚀后金刚石单晶不同晶面的表面形貌和刻蚀机理的进行了表征与分析,并对腐蚀过程中金刚石...
![InAs/GaSb Ⅱ类超晶格台面的ICP刻蚀研究]()
论文摘要报道了采用Cl2/N2电感耦合等离子（ICP）组合体刻蚀工艺在InAs/GaSbⅡ类超晶格红外焦平面台面加工过程中的研究结果,实验采用分子束外延技术在GaSb衬底上生长...
![制备条件对MXene形貌、结构与电化学性能的影响]()
论文摘要以Ti3AlC2为原料,采用LiF+HCl一步刻蚀-插层制备Ti3C2Tx,进一步通过超声处理得到单层或少层的MXene.利用X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（X...
![基于铋纳米颗粒的自由沉降法制作X射线吸收光栅]()
论文摘要利用深反应离子刻蚀技术或湿法腐蚀在硅上制作光栅结构,将与光栅浸润的液体作为载体携带铋纳米颗粒进入光栅结构内,形成致密排列,从而制作出X射线吸收光栅.致密地填充了周期为4...
![(100)/(111)面金刚石膜抗氧等离子刻蚀能力]()
论文摘要使用微波等离子体技术（microwaveplasmachemicalvapordeposition,MPCVD）对膜厚100μm的（100）和（111）晶面金刚石膜进行...
![氩离子刻蚀对TFA-MOD法YBa2Cu3O7–x薄膜性能的影响研究]()
论文摘要TFA-MOD工艺制备的YBa2Cu3O7–x（YBCO）薄膜有独特的生长机制,高温晶化后的YBCO薄膜表面存在一层由Ba-Cu-O异质相及a轴生长的YBCO晶粒组成的...
