本实用新型公开了一种匀强电场辅助纳米压印成型装置，首先调节X向工作平台和Z向工作平台，使压印模具置于衬底的正上方，通过调节压印装置的上、下两电极板之间的电压来控制极板之间产生的匀强电场力，并以匀强电场力作为压印力进行压印，脱模时向两电极板之间反复施加正反两方向的等大可调电压，形成正反向的匀强电场力并以此作为脱模力，使压印模具与衬底分离。本实用新型采用匀强电场力作为压印力，使得压印模具受到均匀的力可使模具上的微结构更好的转印至基板上，同时以反复的正反两方向的匀强电场力作为脱模力，保证在脱模过程中图案的完整性，并且在脱模过程中通过调节水平调节装置，调节得到适宜的脱模角度，提高压印图案精度及分辨率。
申请码:申请号:CN201921067353.8
申请日:2019-07-10
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:82(吉林)
授权编号:CN209879252U
授权时间:20191231
主分类号:G03F7/00
专利分类号:G03F7/00
范畴分类:申请人:长春工业大学
第一申请人:长春工业大学
申请人地址:130012 吉林省长春市延安大街2055号
发明人:谷岩;陈斯;康洺硕;李先耀;冯开拓;张昭杰;徐宏宇;徐贞潘;颜家瑄;易正发;戴得恩;卢发祥;刘骜;段星鑫;辛成磊
第一发明人:谷岩
当前权利人:长春工业大学
代理人:代理机构:代理机构编号:优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计
本文来源: https://www.lunwen90.cn/article/f9d87ebf652b77751cefbbf6.html