低温一步制备氧化石墨烯及微波还原研究

论文摘要

以天然鳞片石墨为原料,通过低温一步氧化制备氧化石墨烯,经微波热还原得到低缺陷的还原氧化石墨烯。讨论了低温氧化过程中氧化剂用量、氧化时间对氧化石墨烯层间距、氧化程度的影响。结果表明:在高锰酸钾与天然鳞片石墨的质量比为1∶3,氧化温度为0℃,氧化时间为48h的条件下,制备出碳氧原子比为1.98、高C—O结构、低缺陷结构（ID∶IG=0.63）的氧化石墨烯,避免了Hummers制备过程中由于CO2的形成导致六元环断裂以及碳原子的缺失而使得氧化石墨烯的缺陷增加;经微波热还原后,得到的还原氧化石墨烯的两点平均缺陷距离LD=12nm,缺陷密度nD=2.21×1011cm-2,ID∶IG仅为0.85(ΓG=32.1cm-1),制备出低缺陷的还原氧化石墨烯。

论文目录

• 1 实验材料与方法
•   1.1 试剂
•   1.2 不同氧化程度的GO的制备
•     1.2.1 不同氧化剂用量的GO样品的制备
•     1.2.2 不同氧化时间的GO样品的制备
•   1.3 MW-rGO的制备
•   1.4 仪器和表征
• 2 结果与分析
•   2.1 GO材料的XRD分析
•   2.2 GO材料的XPS分析
•   2.3 GO和MW-rGO材料的Raman分析
•   2.4 MW-rGO材料的TEM分析
•   2.5 MW-rGO材料的AFM分析
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 宇文超,刘秉国,张立波,郭胜惠,彭金辉

关键词: 氧化石墨烯,缺陷,低温,微波

来源: 材料工程 2019年09期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 无机化工,材料科学

单位: 昆明理工大学冶金与能源工程学院,云南省特种冶金重点实验室,昆明理工大学非常规冶金省部共建教育部重点实验室

基金: 国家自然科学基金项目(51564033),云南省应用基础研究重点项目(2016FA023)

分类号: TQ127.11;TB383.1

页码: 21-28

总页数: 8

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