导读:本文包含了快速点光强计算论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:光刻,矩阵,分解,光学,快速,论文,点光强。
王国雄,史峥,严晓浪,陈志锦,高根生[1]（2003）在《用于光刻模拟的快速计算稀疏空间点光强的方法》一文中研究指出使用光刻仿真工具模拟掩模图形到硅圆片的转移成像结果 ,可以分析集成电路在工艺规则下产品的可靠性和部分电学特性 基于Gabor的“主波分解”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的迭加来近似 ,再对空间图像进行高斯卷积来模拟光刻胶的实际扩散效应 ,从而获得一种精确、快速用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法 根据光学系统的传输交叉系数的特性 ,提出和探讨了两种矩阵分解的方法(本文来源于《计算机辅助设计与图形学学报》期刊2003年07期）
[1].王国雄,史峥,严晓浪,陈志锦,高根生.用于光刻模拟的快速计算稀疏空间点光强的方法[J].计算机辅助设计与图形学学报.2003
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