抛光过程中光学元件表面划痕的形成和控制

论文摘要

通过在石英玻璃的抛光过程中引入α-Al2O3颗粒,对抛光过程中石英工件表面产生的划痕类型和收尾阶段不同粒径杂质颗粒产生的划痕长度进行分析,同时研究了抛光液质量分数和抛光盘结构对石英玻璃抛光质量的影响。结果表明:杂质颗粒需要盘面提供足够大的支撑力才能在工件表面产生划痕,而杂质颗粒所受盘面的支撑力大小取决于其位置高度和共同参与受力的基质颗粒数量;杂质颗粒的位置高度很难掌控,但在相同工艺条件下,使用质量分数为6%的抛光粉和具有多微孔结构的沥青抛光盘可以有效降低划痕的产生概率,并且不会导致抛光表面粗糙度变差或过度影响抛光效率,对实际加工生产有指导意义。

论文目录

• 1 引 言
• 2 抛光过程中划痕的形成分析
•   2.1 抛光机理
•   2.2 划痕的形成条件
•   2.3 划痕的形成机理与分析
•   2.4 划痕形成的控制
• 3 实验与分析
•   3.1 实 验
•   3.2 实验结果分析
•     3.2.1 抛光粉质量分数对去除率与表面粗糙度的影响
•     3.2.2 划痕形貌
•     3.2.3 划痕长度
•     3.2.4 多微孔结构抛光盘
• 4 结 论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 汤文龙,梁尚娟,焦翔,樊全堂,尹进,朱健强

关键词: 光学制造,抛光,石英玻璃,划痕,模型,表面粗糙度

来源: 中国激光 2019年12期

年度: 2019

分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

专业: 无机化工

单位: 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室,中国科学院大学

基金: 国家自然科学基金国家重大科研仪器研制项目(61827816),国家自然科学基金面上项目(11875308),中国科学院科研仪器设备研制项目(YJKYYQ20180024)

分类号: TQ171.731

页码: 125-132

总页数: 8

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