一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置，首先利用涂胶装置一、涂胶装置二将压印胶苄基硫醇钯均匀涂抹到衬底一、衬底二表面，然后压印装置一、压印装置二分别对衬底一、衬底二进行压印得到带有纵向光栅结构的衬底一、带有横向光栅结构的衬底二，对衬底一进行高温处理一小时使苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅，然后在压印装置三的作用下横向光栅脱离衬底二，并粘附到纵向光栅上形成叠堆结构，再进行一小时的高温处理使横向苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅，得到超疏水微结构。本实用新型通过使用辊对辊压印，使用纳米压印与化学相结合的方法制备超疏水微结构，可轻易制备出复合结构，避免衬底多次取放，减少制备时间与对准误差，成本大大降低。
申请码:申请号:CN201921067339.8
申请日:2019-07-10
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:82(吉林)
授权编号:CN209879250U
授权时间:20191231
主分类号:G03F7/00
专利分类号:G03F7/00;G03F7/16
范畴分类:申请人:长春工业大学
第一申请人:长春工业大学
申请人地址:130012 吉林省长春市延安大街2055号
发明人:谷岩;陈斯;康洺硕;徐贞潘;颜家瑄;戴得恩;徐宏宇;李先耀;张昭杰;冯开拓;易正发;刘骜;卢发祥;段星鑫;辛成磊
第一发明人:谷岩
当前权利人:长春工业大学
代理人:代理机构:代理机构编号:优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计
本文来源: https://www.lunwen90.cn/article/6e33611bf42d8a7c3fa8ce8d.html