钌粉提纯和钌靶制备的研究进展

论文摘要

钌靶在电子信息行业中具有重要的应用价值,我国的钌靶制备技术与国外相比尚存在一定差距。综述了钌提纯中传统提纯工艺和新提纯工艺的特点。对比了热压(HP)、直接热压(DHP)和放电等离子烧结(SPS)等不同工艺加工所得钌靶的差异。分析了靶材的纯度、密度、晶粒大小、晶面取向、成分和组织的均匀性等特性对溅射薄膜的影响。探讨了高品质钌靶的制约因素和发展方向。

论文目录

• 1 钌粉提纯工艺
•   1.1 靶用钌粉的纯度要求
•   1.2 几种传统提纯工艺
•   1.3 新提纯工艺的研究
• 2 钌靶的制备工艺
•   2.1 钌靶制备的技术关键
•   2.2 几种典型的钌靶制备工艺
• 3 钌靶特性对溅射薄膜品质的影响
•   3.1 纯度
•   3.2 相对密度
•   3.3 晶粒大小和晶面取向
•   3.4 成分和组织的均匀性
• 4 结语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 邓瑞,闻明,陈家林,郭俊梅,杜怡霖

关键词: 金属材料,靶材,提纯,制备,溅射薄膜

来源: 贵金属 2019年01期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 金属学及金属工艺,冶金工业,工业通用技术及设备,机械工业

单位: 贵研铂业股份有限公司稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所云南省贵金属材料重点实验室

基金: 国家重点研发计划项目(2017YFB0305503),云南省院所专项项目(2009CF003)

分类号: TF123.2;TG146.38

页码: 82-87

总页数: 6

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