基于MVC架构的CMP软件模块开发研究

论文摘要

针对化学机械抛光技术（CMP）软件系统复杂、工艺控制种类繁多、运行参数数据量大等问题,提出将MVC（Model-View-Controller）架构应用于CMP软件设计的方法;阐述了MVC架构在CMP软件设计中的应用以及在事件管理程序设计（模块3）和信息筛选中的应用;基于MVC架构的软件设计方法降低了软件模块之间的耦合性,提高了程序的复用性和可维护性。

论文目录

• 1 MVC架构原理
•   1.1 MVC架构
•   1.2 MVC架构特点
• 2 MVC架构在CMP软件中的应用
• 3 基于MVC架构的子模块设计
• 4 结束语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 孔宪越,孟晓云,杨元元

关键词: 化学机械抛光,模型视图控制器架构,软件设计方法

来源: 电子工业专用设备 2019年03期

年度: 2019

分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺,计算机软件及计算机应用

单位: 中国电子科技集团公司第四十五研究所

分类号: TP311.52;TG580.692

页码: 25-28

总页数: 4

文件大小: 1259K

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