离子束溅射宽带吸收薄膜设计与制备技术研究

论文摘要

Si薄膜在可见光和近红外波段具有一定的吸收特性,可用于宽带吸收薄膜的制备。采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了不同沉积工艺参数的Si薄膜,基于透、反射光谱和椭偏光谱的全光谱数值拟合法,计算了Si薄膜的光学常数,并研究了氧气、氮气流量对其光学特性的影响。选择Si和Ta2O5作为高折射率材料、SiO2作为低折射率,设计了吸收率为2%和10%的宽带（1 000～1 400 nm）吸收薄膜。采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了宽带吸收薄膜,对于A=2%的宽带吸收光谱,在1 064、1 200、1 319 nm的吸收率分别为2.12%、2.15%和2.22%;对于A=10%的宽带吸收光谱,在1 064、1 200、1 319 nm的吸收率分别为9.71%、8.35%和9.07%。研究结果对于吸收测量仪、光谱测试仪等仪器的定标具有重要的作用。

论文目录

• 0 引言
• 1 Si薄膜特性研究
•   1.1 Si薄膜的制备
•   1.2 Si薄膜光学常数计算
• 2 Si薄膜在多层膜中的应用
•   2.1 宽带吸收薄膜的设计
•   2.2 宽带吸收薄膜的制备和测试
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 姜玉刚,刘小利,刘华松,刘丹丹,王利栓,陈丹,姜承慧,季一勤

关键词: 离子束溅射技术,薄膜,吸收率,光学常数

来源: 红外与激光工程 2019年02期

年度: 2019

分类: 信息科技,基础科学,工程科技Ⅱ辑

专业: 物理学,工业通用技术及设备

单位: 天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室,空军驻京津地区军事代表室,哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国家级重点实验室

基金: 国家自然科学基金(61705165,61775167,61235011),天津市自然科学基金(18JCZDJC37900)

分类号: O484

页码: 254-258

总页数: 5

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