投影光刻机中气相分子污染物（AMC）的控制及检测

论文摘要

投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的加工质量和成品率,并会影响工作人员的身体健康。介绍AMC的分类、危害、控制方法及检测方法,为投影光刻机中AMC的有效控制提供参考。

论文目录

0 引言

1 AMC的分类

2 AMC的危害

3 AMC的控制

4 AMC的检测

4.1 离线采样分析

4.2 在线检测

5 结语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 李佳

关键词: 集成电路制造,光刻机分子污染物,高纯气体分子,酸分子碱凝缩物,掺杂物

来源: 电子技术 2019年01期

年度: 2019

分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑

专业: 环境科学与资源利用,无线电电子学

单位: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

基金: 上海市高科技企业技术创新课题项目

分类号: X76;X831;TN405

页码: 57-59

总页数: 3

文件大小: 1006K

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本文来源: https://www.lunwen90.cn/article/1998f19ff4d9397d12d2199b.html