一种黑硅的自动生成装置论文和设计-方超

全文摘要

本实用新型公开了属于黑硅加工设备技术领域的一种黑硅的自动生成装置，包括生产箱、放置架和分子泵，所述生产箱的内部固定有反应架，所述反应架的内部放置有注入鞘层，所述生产箱的内部底端固定有加热器，所述生产箱的一端固定有进气管；通过载重架可将需加工的硅片进行悬挂，并且通过连接的滑车在丝杠上进行滑动，并将硅片送入反应架中进行加工生成，硅片上料下料操作简单，省时省力，同时无需对生产箱进行冷却或者重新启动，节能减排，为用户使用带来了便利，通过分子泵运行可将排气管中的废气进行压缩，进而加快了排气管中废气的流速，提高了该装置的排气降压的性能，确保该装置正常进行加工使用。

主设计要求

1.一种黑硅的自动生成装置，包括生产箱(2)、放置架(11)和分子泵(14)，其特征在于：所述生产箱(2)的内部固定有反应架(4)，所述反应架(4)的内部放置有注入鞘层(5)，所述生产箱(2)的内部底端固定有加热器(6)，所述生产箱(2)的一端固定有进气管(1)，且进气管(1)贯穿所述生产箱(2)，所述生产箱(2)的顶端固定有排气管(3)，且排气管(3)贯穿所述生产箱(2)，所述放置架(11)安装固定在所述反应架(4)的一侧，所述放置架(11)的一端固定有载重架(10)，所述反应架(4)的内侧固定有网格板(12)，所述网格板(12)的顶端固定有滑轨(13)，所述反应架(4)的一端固定有等离子发射器(7)，所述分子泵(14)安装固定在所述排气管(3)的一端，所述分子泵(14)远离所述排气管(3)的一端固定有废气处理器(16)。

设计方案

2.根据权利要求1所述的一种黑硅的自动生成装置，其特征在于：所述反应架(4)的顶端固定有安装片(8)，且安装片(8)通过焊接固定。

3.根据权利要求1所述的一种黑硅的自动生成装置，其特征在于：所述放置架(11)的顶端固定有滑车(9)，且滑车(9)通过焊接固定。

4.根据权利要求1所述的一种黑硅的自动生成装置，其特征在于：所述载重架(10)的顶端固定有限位销，且限位销通过焊接固定。

5.根据权利要求1所述的一种黑硅的自动生成装置，其特征在于：所述网格板(12)的顶端固定有支撑杆，且支撑杆通过螺钉固定。

6.根据权利要求1所述的一种黑硅的自动生成装置，其特征在于：所述废气处理器(16)的内部固定有滤芯(15)，且滤芯(15)通过螺栓固定。

7.根据权利要求1所述的一种黑硅的自动生成装置，其特征在于：所述载重架(10)的底端固定有滑槽，且滑槽通过焊接固定。

8.根据权利要求1所述的一种黑硅的自动生成装置，其特征在于：所述排气管(3)的内部底端固定有汽液过滤网板，且汽液过滤网板通过螺纹固定。

设计说明书

技术领域

本实用新型属于黑硅加工设备技术领域，具体涉及一种黑硅的自动生成装置。

背景技术

黑硅是最新研究发现的一种能大幅提高光电转换效率的新型电子材料，黑硅就是把硅片弄成黑色，硅片还是原来的硅片，在表面用涂料做一层涂层，可以大量减少反射，这样硅片看起来就是黑色的了。制法就是刷涂层，让表面有一颗一颗的凸起，涂层的主要成份是二氧化硅。

现有的黑硅的自动生成装置还存在一些不足之处，该装置在进行使用的过程中，硅片上下料操作麻烦，费时费力，影响该装置生产加工作业的工作效率，为用户使用带来了不便。

实用新型内容

为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种黑硅的自动生成装置，具有使用便利，操作简单，节能环保的特点。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种黑硅的自动生成装置，包括生产箱、放置架和分子泵，所述生产箱的内部固定有反应架，所述反应架的内部放置有注入鞘层，所述生产箱的内部底端固定有加热器，所述生产箱的一端固定有进气管，且进气管贯穿所述生产箱，所述生产箱的顶端固定有排气管，且排气管贯穿所述生产箱，所述放置架安装固定在所述反应架的一侧，所述放置架的一端固定有载重架，所述反应架的内侧固定有网格板，所述网格板的顶端固定有滑轨，所述反应架的一端固定有等离子发射器，所述分子泵安装固定在所述排气管的一端，所述分子泵远离所述排气管的一端固定有废气处理器。

作为本实用新型的优选技术方案，所述反应架的顶端固定有安装片，且安装片通过焊接固定。

作为本实用新型的优选技术方案，所述放置架的顶端固定有滑车，且滑车通过焊接固定。

作为本实用新型的优选技术方案，所述载重架的顶端固定有限位销，且限位销通过焊接固定。

作为本实用新型的优选技术方案，所述网格板的顶端固定有支撑杆，且支撑杆通过螺钉固定。

作为本实用新型的优选技术方案，所述废气处理器的内部固定有滤芯，且滤芯通过螺栓固定。

作为本实用新型的优选技术方案，所述载重架的底端固定有滑槽，且滑槽通过焊接固定。

作为本实用新型的优选技术方案，所述排气管的内部底端固定有汽液过滤网板，且汽液过滤网板通过螺纹固定。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过安装了载重架和滑车，通过载重架可将需加工的硅片进行悬挂，并且通过连接的滑车在丝杠上进行滑动，并将硅片送入反应架中进行加工生成，硅片上料下料操作简单，省时省力，同时无需对生产箱进行冷却或者重新启动，节能减排，为用户使用带来了便利；

2、本实用新型通过分子泵和废气处理，通过分子泵运行可将排气管中的废气进行压缩，进而加快了排气管中废气的流速，提高了该装置的排气降压的性能，确保该装置正常进行加工使用，并且通过废气处理器，可对废气中相关化学物质成分进行中和过滤，避免其污染大气环境，节能环保。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型图1中反应架的左视结构示意图；

图3为本实用新型图1中排气管的正视结构示意图；

图中：1、进气管；2、生产箱；3、排气管；4、反应架；5、注入鞘层；6、加热器；7、等离子发射器；8、安装片；9、滑车；10、载重架；11、放置架；12、网格板；13、滑轨；14、分子泵；15、滤芯；16、废气处理器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例

请参阅图1-3，本实用新型提供以下技术方案：一种黑硅的自动生成装置，包括生产箱2、放置架11和分子泵14，生产箱2的内部通过螺栓固定有反应架4，反应架4的内部放置有注入鞘层5，生产箱2的内部底端通过螺钉固定有加热器6，生产箱2的一端通过焊接固定有进气管1，且进气管1贯穿生产箱2，生产箱2的顶端通过焊接固定有排气管3，且排气管3贯穿生产箱2，放置架11通过啮合安装固定在反应架4的一侧，放置架11的一端通过焊接固定有载重架10，反应架4的内侧通过螺钉固定有网格板12，网格板12的顶端通过焊接固定有滑轨13，反应架4的一端通过螺钉固定有等离子发射器7，分子泵14通过螺栓安装固定在排气管3的一端，分子泵14远离排气管3的一端通过螺栓固定有废气处理器16。

借助于上述技术方案，通过载重架10底端的滑槽与反应架4内侧的滑轨13啮合，然后继续推动滑车9，促使放置架11滑进反应架4中，然后关闭生产箱2的顶盖，接通该装置的外部电源，打开电源开关，促使加热器6和等离子发射器7进行通电运行，可对生产箱2内等离子液进行加热处理和促使等离子进入注入鞘层5，然后经注入鞘层5浸没进入硅片中，然后通过进气管1向生产箱2中输送带有化学成分的气体，确保硅片正常进行加工，当生产箱2中气压过大时，打开分子泵14的电源开关，通过分子泵14通电运行，可将排气管3中空气进行压缩抽离，进而可抽动该生产箱2中废气，进行排气降压处理，废气经排气管3输送至废气处理器16处，经废气处理器16中滤芯15可对废气残留化学物质成分进行中和过滤处理，避免废气污染大气环境。

另外，在本实施例中，对于上述反应架4来说，反应架4的顶端固定有安装片8，且安装片8通过焊接固定；采用该方案通过安装片8便于反应架4进行安装拆卸和更换维护，操作简单，固定牢固可靠。

另外，在本实施例中，对于上述放置架11来说，放置架11的顶端固定有滑车9，且滑车9通过焊接固定；采用该方案通过滑车9在丝杆上滑动，带动放置架11进行移动，便于待加工的硅片进行搬运和放置，省时省力，经济实用。

另外，在本实施例中，对于上述载重架10来说，载重架10的顶端固定有限位销，且限位销通过焊接固定；采用该方案通过限位销可对硅片进行限位固定，确保该硅片可安全平稳的对送入反应架4中进行加工使用便利。

另外，在本实施例中，对于上述网格板12来说，网格板12的顶端固定有支撑杆，且支撑杆通过螺钉固定；采用该方案通过支撑杆不仅加强了网格板12的结构强度，还能对硅片进行有效的支撑，确保硅片等离子浸没注入充分，提高了该硅片加工的生产质量。

另外，在本实施例中，对于上述废气处理器16来说，废气处理器16的内部固定有滤芯15，且滤芯15通过螺栓固定；采用该方案通过滤芯15可有效的对废气中残留的化学物质成分进行中和或者过滤处理，避免残留的化学物质成分污染大气环境。

另外，在本实施例中，对于上述载重架10来说，载重架10的底端固定有滑槽，且滑槽通过焊接固定；采用该方案通过滑槽与滑轨进行啮合滑动，便于对载重架10进行限位固定，同时确保对硅片放置精准。

另外，在本实施例中，对于上述排气管3来说，排气管3的内部底端固定有汽液过滤网板，且汽液过滤网板通过螺纹固定；采用该方案通过汽液过滤网板可有效的避免了反应箱中的等离子液体漏出，造成污染，经济实用。

本实施例中，加热器6为广州南才电子有限公司销售的脉冲加热电容器CSP1200A；等离子发射器7为深圳创美科技有限公司销售的等离子发生器TM-G4；分子泵14为北京振远洋真空科技有限公司销售的分子泵TYFB-3600。

综上所述，借助于本实用新型的上述技术方案，用户将待加工的硅片依次放置在放置架11的载重架10上，待放置完毕后，推动滑车9沿着丝杠滑动，进而搬运硅片，然后打开生产箱2的顶盖，并将放置架11放入，通过载重架10底端的滑槽与反应架4内侧的滑轨13啮合，然后继续推动滑车9，促使放置架11滑进反应架4中，然后关闭生产箱2的顶盖，接通该装置的外部电源，打开电源开关，促使加热器6和等离子发射器7进行通电运行，可对生产箱2内等离子液进行加热处理和促使等离子进入注入鞘层5，然后经注入鞘层5浸没进入硅片中，然后通过进气管1向生产箱2中输送带有化学成分的气体，确保硅片正常进行加工，当生产箱2中气压过大时，打开分子泵14的电源开关，通过分子泵14通电运行，可将排气管3中空气进行压缩抽离，进而可抽动该生产箱2中废气，进行排气降压处理，废气经排气管3输送至废气处理器16处，经废气处理器16中滤芯15可对废气残留化学物质成分进行中和过滤处理，避免废气污染大气环境，当该装置加工完毕后，通过放置架11将硅片取出，继续进行加工生产，待加工生产完毕后，及时关闭电源开关，切断外部电源即可。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

设计图

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设计说明书

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