正性胶论文_

导读:本文包含了正性胶论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译,主要关键词:密度,速率,论文,正性胶。

正性胶论文文献综述

[1](1976)在《Fe_2O_3彩色版的制备和正性胶复印》一文中研究指出近几年来,我们使用Fe_2O_3彩色版和正性胶复印光刻掩模,在一定程度上提高了掩模质量,保证了掩模版的大量供应。现将我们Fe_2O_3彩色版的制备和正性胶复印的情况介绍如下。 Fe_2O_3彩色版的制备 化学气相淀积法制备Fe_2O_3版具有设备简单,成本低,效率高和操作方便等优点。 Fe_2O_3版在使用上还有如下优点: 1.它对可见光透明而阻挡紫外光通过,因而允许在光刻时通过掩模直接观察片子上的图形。 2.正性抗蚀剂为提高光刻精度开辟了新的途径,使用彩色掩模便可减少由于使用正性抗蚀剂而采用大部分不透明的掩模给光刻对准带来的困难。 3.Fe_2O_3版由于吸收(而不是反射掉)不需要的光,因而相当地减小了晕光效应,加强了对反射性衬底的对比度,有利于精细线条光刻。减少了掩模的强烈反射光对光刻同志眼睛的刺激。 4.复印腐蚀特性比较好,在一定程度上减少了掩模缺陷。(本文来源于《半导体技术》期刊1976年03期)

正性胶论文开题报告

正性胶论文参考文献

[1]..Fe_2O_3彩色版的制备和正性胶复印[J].半导体技术.1976

论文知识图

电-光流控芯片制备工艺流程图甩胶机和光刻机Fig.5-7Spinnerandlit...行波电极的制备工艺流程制备完成的BZN/BST薄膜变容管的显微...光刻胶断面形貌的SEM图镍金属质量块的制作工艺Fig.4-1Fabri...

标签:;  ;  ;  ;  

正性胶论文_
下载Doc文档

猜你喜欢