一种承载台及基板清洗装置论文和设计-李佳成

全文摘要

本实用新型公开了一种承载台及基板清洗装置，涉及承载台结构设计技术领域，为解决相关技术中的承载台上容易沉积较多的灰尘颗粒并且不容易清除的问题而发明。该承载台，包括固定架、驱动装置以及多个均呈棱柱状的支撑台，每个所述支撑台均水平设置，并且均与所述固定架可转动连接，每个所述支撑台的旋转中心轴线均平行于该支撑台的侧棱，所述驱动装置用于驱动每个所述支撑台绕各自的旋转中心轴线转动，使多个所述支撑台的侧面能够位于同一平面内，以形成承载面。本实用新型可用于基板等的清洗。

主设计要求

1.一种承载台，其特征在于，包括固定架、驱动装置以及多个均呈棱柱状的支撑台，每个所述支撑台均水平设置，并且均与所述固定架可转动连接，每个所述支撑台的旋转中心轴线均平行于该支撑台的侧棱，所述驱动装置用于驱动每个所述支撑台绕各自的旋转中心轴线转动，使多个所述支撑台的侧面能够位于同一平面内，以形成承载面。

设计方案

2.根据权利要求1所述的承载台，其特征在于，每个所述支撑台的形状均呈正棱柱状，并且每个所述支撑台的旋转中心轴线距所述承载面的距离均相等；其中，所述支撑台的几何中心轴线为所述支撑台的旋转中心轴线。

3.根据权利要求1所述的承载台，其特征在于，多个所述支撑台沿一水平方向相隔排布。

4.根据权利要求3所述的承载台，其特征在于，针对位于最外侧的所述支撑台，所述支撑台的每个所述侧面上均设有对位顶针，所述对位顶针用于调整被承载物的放置位置。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的承载台，其特征在于，还包括气体通道；针对每个所述支撑台，所述支撑台的每个侧面上均开设有用于吸附被承载物的吸附孔，每个所述侧面上的吸附孔均可通过所述气体通道与真空系统相连通。

6.根据权利要求5所述的承载台，其特征在于，所述气体通道包括干路和多个支路，所述干路与所述真空系统相连通，每个所述支路的第一端均与所述干路相连通，第二端均与对应的所述侧面上的吸附孔相连通。

7.根据权利要求6所述的承载台，其特征在于，还包括多个控制阀，每个所述控制阀均设置于对应的所述支路上。

8.根据权利要求1～4中任一项所述的承载台，其特征在于，所述驱动装置包括电机和传动机构，所述电机能够通过所述传动机构驱动多个所述支撑台绕各自的旋转中心轴线同步转动。

9.根据权利要求8所述的承载台，其特征在于，多个所述支撑台的旋转中心轴线均相平行；所述传动机构为同步带传动机构，所述同步带传动机构包括同步带、多个传动轴以及多个齿轮，每个所述传动轴均可转动设置于所述固定架上，每个所述传动轴均与对应的所述支撑台固定连接，并且每个所述传动轴的中心轴线均与对应的所述支撑台的旋转中心轴线共线；每个所述齿轮均固定套设于对应的所述传动轴上，且均与所述同步带相啮合；所述电机固定在所述固定架上，且所述电机的输出轴与其中一个所述传动轴传动连接。

10.一种基板清洗装置，其特征在于，包括权利要求1～9中任一项所述的承载台。

设计说明书

技术领域

本实用新型涉及承载台结构设计技术领域，尤其涉及一种承载台及基板清洗装置。

背景技术

在显示面板的制作过程中，对基板的清洗是一道重要的工序，基板清洗主要是对基板表面的颗粒进行去除，保证基板表面的清洁，从而有利于降低显示面板在后续工序中Particle(颗粒)不良的出现概率。其中，基板的清洗是在基板清洗装置上进行的，承载台是基板清洗装置的一个重要的部件，基板清洗时需要将基板放置在承载台上，承载台设计得是否合理直接关系着清除效果以及显示面板的生产质量。

相关技术中的一种基板清洗装置的承载台为整体平面式的构造，该承载台在清洗装置未工作的时候，空气中的灰尘等颗粒很容易落在承载台的承载面上，造成承载面上沉积较多的灰尘，这样不但增加了清除的工作量，而且沉积的灰尘不容易清除彻底很容易造成灰尘颗粒的残留；在清洗装置工作的时候，承载面上残存的灰尘颗粒与基板的底面接触很容易划伤基板，或者与基板在清除的过程中发生挤压容易造成基板裂片(Crack)；此外，在基板清除完毕之后，承载面上残留的灰尘也很容易附着在基板的底面上，并随基板进入到下一道工序，容易导致后续工序出现Particle不良，影响了后续工序的良率。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种基板载台及基板清洗装置，用于解决相关技术中的承载台上容易沉积较多的灰尘颗粒并且不容易清除的问题。

为达到上述目的，第一方面，本实用新型实施例提供了一种承载台，固定架、驱动装置以及多个均呈棱柱状的支撑台，每个所述支撑台均水平设置，并且均与所述固定架可转动连接，每个所述支撑台的旋转中心轴线均平行于该支撑台的侧棱，所述驱动装置用于驱动每个所述支撑台绕各自的旋转中心轴线转动，使多个所述支撑台的侧面能够位于同一平面内，以形成承载面。

进一步地，每个所述支撑台的形状均呈正棱柱状，并且每个所述支撑台的旋转中心轴线距所述承载面的距离均相等；其中，所述支撑台的几何中心轴线为所述支撑台的旋转中心轴线。

进一步地，多个所述支撑台沿一水平方向相隔排布。

更进一步地，针对位于最外侧的所述支撑台，所述支撑台的每个所述侧面上均设有对位顶针，所述对位顶针用于调整被承载物的放置位置。

进一步地，还包括气体通道；针对每个所述支撑台，所述支撑台的每个侧面上均开设有用于吸附被承载物的吸附孔，每个所述侧面上的吸附孔均可通过所述气体通道与真空系统相连通。

更进一步地，所述气体通道包括干路和多个支路，所述干路与所述真空系统相连通，每个所述支路的第一端均与所述干路相连通，第二端均与对应的所述侧面上的吸附孔相连通。

更进一步地，还包括多个控制阀，每个所述控制阀均设置于对应的所述支路上。

进一步地，所述驱动装置包括电机和传动机构，所述电机能够通过所述传动机构驱动多个所述支撑台绕各自的旋转中心轴线同步转动。

更进一步地，多个所述支撑台的旋转中心轴线均相平行；所述传动机构为同步带传动机构，所述同步带传动机构包括同步带、多个传动轴以及多个齿轮，每个所述传动轴均可转动设置于所述固定架上，每个所述传动轴均与对应的所述支撑台固定连接，并且每个所述传动轴的中心轴线均与对应的所述支撑台的旋转中心轴线共线；每个所述齿轮均固定套设于对应的所述传动轴上，且均与所述同步带相啮合；所述电机固定在所述固定架上，且所述电机的输出轴与其中一个所述传动轴传动连接。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种基板清洗装置，包括第一方面中所述的承载台。

本实用新型实施例提供的承载台机基板清洗装置，由于每个支撑台均与固定架可转动连接，并且驱动装置用于驱动每个支撑台绕各自的旋转中心轴线转动，使多个支撑台的侧面能够位于同一平面内，以形成承载面，这样，在每个基板放置在承载面之前，驱动装置就可以驱动每个支撑台旋转，每个支撑台在绕各自的旋转中心轴线转动的过程中，其侧面上沉积的灰尘颗粒就可以在重力的作用下掉落，从而可以大大减少支撑台侧面上的灰尘沉积量，不但可以降低支撑台侧面上清除灰尘的工作量，而且更容易将支撑台侧面上的灰尘清除干净。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例中的基板清洗装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例中的基板清洗装置的承载台的俯视图；

图3为图2中A-A的剖面视图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种承载台，如图1和图2所示，包括固定架1、驱动装置2以及多个均呈棱柱状的支撑台3，每个支撑台3均水平设置，并且均与固定架1可转动连接，每个支撑台3的旋转中心轴线均平行于该支撑台3的侧棱，驱动装置2用于驱动每个支撑台3绕各自的旋转中心轴线转动，使多个支撑台3的侧面能够位于同一平面内，以形成承载面7。

其中，支撑台3的形状不但可以是三棱柱(如图1所示)，也可以是四棱柱、五棱柱、六棱柱等，在此不做具体限定；支撑台3的形状不但可以是直棱柱(如图1所示)，也可以为斜棱柱，在此也不做具体限定；支撑台3的数目可以为5个、4个等，具有可根据基板400的大小设置，在此也不做具体限定。

在基板清洗装置工作时，如图1所示，驱动装置2驱动每个支撑台3绕各自的旋转中心轴线转动，使每个支撑台3的一个侧面转到上方，以形成用于支撑基板400的承载面7，然后将一个基板400放置多个支撑台3形成的承载面7上，清洗头工作对该基板400的表面进行清除，当清除完毕后，该基板400与承载面7分离；接着，驱动装置2驱动每个支撑台3绕各自的旋转中心轴线转动一定的角度，使每个支撑台3的另一个侧面转到上方，以形成承载面7，然后，下一个基板400放置到多个支撑台3上进行下一步的清洗，以此往复下去，直至基板清洗装置工作结束。

本实用新型实施例提供的承载台，由于每个支撑台3均与固定架1可转动连接，并且驱动装置2用于驱动每个支撑台3绕各自的旋转中心轴线转动，使多个支撑台3的侧面能够位于同一平面内，以形成承载面7，这样，在每个基板400放置在承载面7之前，驱动装置2就可以驱动每个支撑台3旋转，每个支撑台3在绕各自的旋转中心轴线转动的过程中，其侧面上沉积的灰尘颗粒就可以在重力的作用下掉落，从而可以大大减少支撑台3侧面上的灰尘沉积量，不但可以降低支撑台3侧面上清除灰尘的工作量，而且更容易将支撑台3侧面上的灰尘清除干净，那么基板400放置在多个支撑台3的侧面上之后，在对基板400表面的清除的过程中，就可以大大降低了灰尘与基板400的底面相接触所造成的基板400划伤、裂片等不良，而且对基板400清除完毕之后，就可以大大减少基板400底面附着灰尘颗粒的数量，从而降低基板400在后续工序中出现Particle不良的概率，有利于保证后续工序的良率。

在该承载台中，支撑台3的形状并不唯一，比如，如图1所示，每个支撑台3的形状可以均呈正棱柱状，并且每个支撑台3的旋转中心轴线距承载面7的距离h均相等；其中，支撑台3的几何中心轴线为支撑台3的旋转中心轴线。另外，每个支撑台3的形状也可以均呈非正棱柱状，每个支撑台3的几何参数均相同，并且所有的支撑台3的旋转中心轴线共面；其中，支撑台3的重心线为支撑台3的旋转中心轴线，支撑台3的重心线为经过支撑台3的两个端面重心的轴线。相比每个支撑台3的形状均呈非正棱柱状的实施例，每个支撑台3的形状均呈正棱柱状的实施例，由于支撑台3的旋转中心轴线距支撑台3的每个侧面的距离均相等，这样更加方便使多个支撑台3的侧面更容易位于同一平面内，使的驱动装置2驱动多个支撑台3旋转的方式更加灵活，比如可以驱动装置2可以驱动一个支撑台3转θ，驱动另一个支撑台3转2θ(支撑台3的形状均呈非正棱柱状时，由于每个侧面距旋转中心轴线的距离不同，这样需要每个支撑台3的同一侧面对基板400进行支撑，也就是驱动装置2在驱动每个支撑台3的旋转角度必须相同，才能保证多个支撑台3的侧面位于同一平面内)。

在该承载台中，多个支撑台3的排布方式也不唯一，比如，如图2所示，多个支撑台3可以沿一水平方向(例如图2所示的X方向)相隔排布。另外，多个支撑台3也可以一点为中心呈放射状排布，支撑台3上设有升降支撑杆，升降支撑杆能够在竖直方向升降，以方便机械手300伸入到基板400的下方来取放基板400。相比多个支撑台3呈放射状排布的实施例，多个支撑台3沿一水平方向相隔排布的实施例中，相邻两个支撑台3具有间隙，这样搬运机器人的机械手300(fork)就很容易伸入到相邻两个支撑台3间隙中取放基板400，大大方便了机械手300伸入到基板400的下方取放基板400，那么支撑台3的每个侧面上就无需设置升降支撑杆就可以实现机械手300取放基板400，大大简化了支撑台3的结构，降低了支撑台3出现故障的概率，从而有利于降低支撑台3的维护成本；同时，由于支撑台3不同设置升降支撑杆，这样就可以避免升降支撑杆上积累的静电对基板400所造成的损坏，例如静电释放容易损坏基板400上的电路(支撑台3上如果设置升降支撑杆，在工作过程中，由于升降支撑杆与基板400摩擦产生静电荷，导致静电荷在升降支撑杆的端部积累)。

在多个支撑台3沿一水平方向相隔排布的实施例中，多个支撑台3的旋转中心轴线的位置关系也不唯一，比如，如图1和图2所示，多个支撑台3的旋转中心轴线可以均相平行。另外，相邻的两个支撑台3的旋转中心轴线也可以呈锐角设置。相比相邻的两个支撑台3的旋转中心轴线呈锐角设置的实施例，多个支撑台3的旋转中心轴线均相平行的实施例更加方便驱动装置2的设置，可以实现一个电机驱动多个支撑台3旋转，大大减少了电机的个数，不但减少了占用空间，方便了驱动，而且还可以降低该承载台的总成本。

如图2所示，针对位于最外侧的支撑台3，也就是支撑台3a和支撑台3b，支撑台3a和支撑台3b的每个侧面上均设有对位顶针4，对位顶针4用于调整基板400的放置位置。通过设置对位顶针4，这样当基板400放置在支撑台3上之后，对位顶针4就可以对基板400的位置进行微调，使基板400准确地放置在预定的区域内，以方便基板400清洗步骤的进行。

如图2所示，对位顶针4包括第一子顶针41、第二子顶针42和第三子顶针43，第一子顶针41、第二子顶针42、第三子顶针43均设置于支撑台3a、支撑台3b的每个侧面上，并且分别位于侧面的两端边缘处，第一子顶针41、第二子顶针42均连接有第一移动驱动装置，第一移动驱动装置能够驱动第一子顶针41、第二子顶针42沿第一方向Y(也就是支撑台3a或支撑台3b的旋转中心轴线的延伸方向)移动；第三子顶针43连接有第二移动驱动装置，第二移动驱动装置能够驱动第三子顶针43沿第二方向X(也就是平行于承载面7且与第一方向Y相垂直的方向)移动。这样，在基板400放置在支撑台3上之后，第一子顶针41、第二子顶针42可以将基板400夹紧，并在第一移动驱动装置的驱动下微调基板400在第一方向Y的位置；支撑台3a、支撑台3b上的第三子顶针43可以将基板400夹紧，并在第二移动驱动装置的驱动下微调基板400在第二方向X的位置。

其中，第一移动驱动装置和第二移动驱动装置可以均为微型气缸。

在基板400放置在支撑台3上之后，为了防止基板400发生偏移，如图3所示，该承载台还包括气体通道5；针对每个支撑台3，支撑台3的每个侧面上均开设有用于吸附基板400的吸附孔31，每个侧面上的吸附孔31均可通过气体通道5与真空系统相连通。这样在基板400放置在支撑台3上之后，真空系统开启，吸附孔31就可以产生吸力将基板400牢牢吸附在支撑台3上，从而防止基板400发生偏移，以保证后续基板400清洗步骤的顺利进行。

其中，气体通道5的结构组成也不唯一，比如，如图3所示，气体通道5可以包括干路51和多个支路52，干路51与真空系统相连通，每个支路52的第一端均与干路51相连通，第二端均与对应的侧面上的吸附孔31相连通。另外，气体通道5也可以包括多个子通道，每个子通道的一端与对应的侧面上的吸附孔31直接连通，另一端与真空系统直接连通。相比气体通道5包括多个子通道的实施例，气体通道5包括干路51和多个支路52的实施例，每个侧面上的吸附孔31只需实现与干路51连通就可以实现与真空系统连通，这样可以大大缩短了气体通道5的总长度，有利于降低气体通道5的设置成本。

为了方便对支撑台3上每个侧面上的吸附孔31的工作状态进行控制，如图3所示，该承载台还包括多个控制阀6，每个控制阀6均设置于对应的支路52上。这样当基板400放置在侧面a上时，与侧面a上吸附孔31连通的支路52上的控制阀6开启，其它支路52上的控制阀6关闭，这样可以防止其它侧面上的吸附孔31与干路51连通对真空度的破坏，从而可以大大提高处于工作状态下的吸附孔31(例如侧面a上吸附孔31)对基板400的吸力，使得基板400固定的更加牢固。

在该承载台中，驱动装置2的结构组成也不唯一，比如，如图2所示，驱动装置2可以包括电机21和传动机构22，电机21能够通过传动机构22驱动多个支撑台3绕各自的旋转中心轴线同步转动。另外，驱动装置2可以包括多个电机21，每个电机21均驱动对应的支撑台3绕其旋转中心轴线旋转。相比驱动装置2包括多个电机21的实施例，驱动装置2包括电机21和传动机构22的实施例，可以避免多个电机21分别驱动支撑台3旋转所造成的旋转不同步的问题，这样可以很好保证多个支撑台3的侧面位于同一平面内，保证基板400与每个支持台充分接触。

在驱动装置2包括电机21和传动机构22，并且多个支撑台3的旋转中心轴线均相平行的实施例中，传动机构22的类型也不唯一，比如，如图2所示，传动机构22可以为同步带传动机构，同步带传动机构包括同步带221、多个传动轴222以及多个齿轮223，每个传动轴222均可转动设置于固定架1上，每个传动轴222均与对应的支撑台3固定连接，并且每个传动轴222的中心轴线均与对应的支撑台3的旋转中心轴线共线；每个齿轮223均固定套设于对应的传动轴222上，且均与同步带221相啮合；电机21固定在固定架1上，且电机21的输出轴与其中一个传动轴222传动连接。另外，传动机构22可以为链传动机构，链传动机构的具体设置可以参见上述同步带传动机构的设置，将同步带221替换为传动链，将齿轮223替换为链轮，其它设置与上述同步带传动机构的设置保持一致。相比链传动机构，同步带传动机构的传动精度更高，可以使多个支撑台3转动的同步性更好。

本实用新型实施例提供的承载台，不但用于基板清洗装置中，也可以用于其它对除尘要求比较高的装置中；该承载台不但可以用于承载用于制作显示面板的基板400，比如阵列基板、衬底基板等，也可以用于承载其它对除尘要求比较高的被承载物，比如电路板。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种基板清洗装置，如图1所示，包括第一方面中所述的承载台100。

由于本实用新型实施例提供的基板清洗装置中所包括的承载台100与第一方面中所述的承载台100相同，所以也解决了相同的技术问题，达到了相同的技术效果。

其中，对基板清洗装置的清洗的类型不做具体限定，比如该基板清洗装置可以通过喷气、吸气的方式来清洗基板400上的颗粒，具体如下：如图1所示，该基板清洗装置还包括清洗头200，清洗头200位于承载台100的上方，且可沿水平方向相对承载台100移动，清洗头200上具有喷气口和吸气口，在对基板400的表面进行清洗的时候，喷气口向基板400喷出清洁气体，吸气口吸气，从而可以对基板400表面上的颗粒进行很好地清除。

为了提高清洗效率，清洗头200上还设有超声波发生器，超声波发生器发出超声波，超声波可带动从喷气口喷出的清洁气体形成细微回流，从而使基板400表面附着的异物颗粒在被超声剥离的同时迅速被气流带离基板400表面，从而提高了该基板清洗装置的清洗效率。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

设计图

一种承载台及基板清洗装置论文和设计

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