导读:本文包含了光学基片论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献，主要关键词:光学,光子,光栅,表面,原子,布拉格,磁控溅射。
光学基片论文文献综述写法
廖莎莎,李强,廖希,明艳[1]（2019）在《硅基片上光学器件实验设计》一文中研究指出集成光学是光通信的重要发展方向,而硅是最有可能实现大规模集成的材料,所以硅基光学器件在集成光学中具有十分重要的地位。在通信、电子信息、光电信息等相关专业开设硅基集成光学课程是非常有必要的。本文以光学器件设计领域广泛应用的Lumeical软件为例,详细介绍了利用该软件设计片上布拉格光栅的教学环节和步骤。(本文来源于《教育教学论坛》期刊2019年25期）
汤卉,董鹏展,吕杨[2]（2018）在《基片温度对真空蒸镀Ti/LiNbO_3光学薄膜的影响》一文中研究指出利用绿色真空蒸镀技术,在不同LiNbO_3基片温度下制备Ti光学薄膜,研究不同LiNbO_3基片温度对Ti光学薄膜生长过程的影响,结合薄膜生长与原子迁移理论分析影响机理,优化基片温度.对样品表观形貌与薄膜、晶粒择优生长趋向进行分析.研究结果表明:180℃为5组温度中最合适的基片温度.此条件下,钛薄膜表面存在大量细晶,分布均匀,无晶界迁移,晶粒随机生长、尺寸小,无针孔,钛薄膜表面粗糙度(Rq)低,为25.4nm,平整度较理想,为后续钛扩散铌酸锂光耦合器的制备提供了保障.(本文来源于《徐州工程学院学报(自然科学版)》期刊2018年03期）
牛玉宝[3]（2018）在《激光陀螺反射镜基片的光学散射特性研究》一文中研究指出激光陀螺是以塞格纳克(sagnac)效应原理为基础的角加速度计,结构简单,可靠性强,寿命长。但激光陀螺内部反射镜产生的背向散射会产生闭锁效应,严重影响激光陀螺的导航精度。在解决闭锁效应时,中国沿用国外的散射理论,在以激光陀螺反射镜基片为基础的散射问题及光学表面分析代码研究上,国内也鲜有涉及。为降低激光陀螺的闭锁阈值,本课题主要研究了以下几个方面:本文明确了光学元件表面的表征方法,分析传统光学元件表面表征的局限性,对功率谱密度函数进行了介绍,推导出计算离散数据的功率谱密度函数公式,分析了原子力显微镜和轮廓仪在不同空间频率表面信息下的测量误差,得出完整表征元件表面功率谱密度函数的方法。推导出光学散射Beckmann-Kirchoff理论、Harvey-Shack理论和Rayleigh-Rice理论公式,分析入射光波长、表面自相关长度(Autocorrelation Length)和入射角分别对一维、二维散射情况的影响。通过散射测量实验验证散射理论推导结果的正确性,确定适用于激光陀螺反射镜基片的散射模型。分析激光陀螺运行原理,推导引入反射镜背向散射后激光陀螺运行基本公式。结合散射模型编写光学表面分析代码(Optical Surface Analysis Code,OSAC),设计用户界面,简化人机交互。利用光学表面分析代码分析激光陀螺形状、边长、波长以及激光陀螺反射镜形貌对闭锁阈值的影响。同时确定了适用于激光陀螺反射镜基片的光学元件表面质量评价方法。利用背向散射系数值作为评价方法进行表面抛光正交实验,实验材料选用激光陀螺反射镜基片材料,熔石英和微晶玻璃。分别分析抛光盘转速、抛光压力及抛光液浓度对光学元件表面的影响,对抛光工艺参数进行优化,在优化参数下对熔石英和微晶玻璃进行抛光,得到最优(激光闭锁阈值最小)的加工表面。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2018-06-01）
杜书剑[4]（2018）在《硅基片上二维光学相控阵研究》一文中研究指出光学相控阵是一种能够无需机械结构实现精确的自由空间光束偏转的阵列系统,阵列中每个阵元都能独立实现对其辐射的光场进行相位控制,从而控制远场光强分布达到光束扫描效果。随着光子集成领域技术与工艺的不断发展,片上光学相控阵逐渐成为研究热门,并已应用于自由空间板间互联、光探测与测距等应用场景。本文设计了相关硅基光子器件并将其组成系统,经过消除栅瓣算法优化阵元排布之后,实现了大偏转角的二维片上光学相控阵。本文首先调研了国内外片上光学相控阵的研究进展,发现片上光学相控阵逐渐从一维发展到二维,当前实现二维扫描的片上光学相控阵主要采取单波长与多波长入射的两种方案,总结了两方案各自的局限性。其次通过多缝夫琅合费衍射的物理模型对光学相控阵远场成像原理进行了分析,对消除栅瓣的物理过程进行了推导与解释,为解决栅瓣干扰问题提供了思路,并借助二维天线阵列排布模型,推导出了阵列要实现特定角度偏转时,各个阵元所应遵循的相位控制规律。并且研究了一种片上波导器件仿真数值算法:时域有限差分算法,用以指导器件设计与仿真。然后,确定了本文片上光学相控阵系统方案为单波长输入二维微型天线阵列方案,并根据系统方案要求分别设计了微型天线、相位控制器、定向耦合器:天线长宽尺寸<3μm,对于1310nm波长的光输入,向上辐射效率为51%,天线远场3dB发散角达到50°;设计了特殊C形弯曲波导进行热调作为阵元的相位控制器,透过率达到99%;定向耦合器设计合理了的耦合长度从而调节不同位置的定向耦合器的耦合效率,使二维排布的天线阵列辐射能量较为统一。最后,根据消栅瓣算法的指导,选取不同形式的步长函数进行优化阵元间距,在综合考虑压缩栅瓣效果与工艺要求之后,确定步长函数为正弦函数。并且通过选取合适的步长系数,实现了主瓣不偏转时,栅瓣抑制比为-6dB~-7dB;主瓣偏转时,若选择栅瓣抑制比为-3dB时为临界点,总体偏转范围达到了34°×14°。(本文来源于《中国科学院大学(中国科学院西安光学精密机械研究所)》期刊2018-06-01）
张宝武,霍剑锋,饶鹏辉,张明月,刘媛媛[5]（2017）在《基于VirtualLab Fusion的原子光刻基片定位方案的光学系统仿真》一文中研究指出为了探究原子光刻中基片与会聚激光场间距对沉积纳米光栅质量的影响,我们基于VirtualLab Fusion(VLF)平台实现了基片定位控制方案中光学系统的建模和仿真.结果显示:基片在切割会聚激光时将产生直边衍射图像,其轮廓形状和最大值都会随着基片切割激光截面区域大小的变化而变化:虚拟光电探测器上所得到的反射光强度值将随着基片-会聚激光间距的变化给出了倒置的高斯线型,其最低点出现在基片中心和会聚激光场轴线重合时的位置上.当会聚激光场截面恰好被基片阻挡一半时,探测处的强度值降至45.5%.这种光强随基片位置的变化情况为精确地定位基片位置提供了理论支撑.(本文来源于《中国计量大学学报》期刊2017年04期）
徐飞[6]（2017）在《不同基片掺杂氧化锌薄膜光学特性的对比研究》一文中研究指出本论文阐述了不同基片掺杂ZnO薄膜的各种生长技术及原理,在玻璃和硅的衬底上采用磁控溅射的方法沉积ZnO薄膜,并用光谱仪设备分析和表征了它的反射率、光致发光性能。结果显示,相同基底掺杂不同材料ZnO薄膜所对应不同波段的反射率和光致发光性质是不同的。例如,玻璃基底上掺钇ZnO薄膜在紫外线波段反射率较好;硅基底上掺镁ZnO薄膜在紫光波段反射率较好;红光波段掺镁ZnO薄膜所对应的峰的强度最大,所对应的光致发光性能好。(本文来源于《现代制造技术与装备》期刊2017年09期）
陈凤金,苏现军[7]（2016）在《HCFC-141B在光学镀膜基片清洗上的应用》一文中研究指出叙述了HCFC-141B的物理化学特性,阐述了HCFC-141B在光学零件镀膜前的清洗方法。HCFC-141B具有沸点低、去污力强、安全环保、稳定性强等特性,广泛应用于光学零件镀膜前的清洗。(本文来源于《清洗世界》期刊2016年06期）
王敬[8]（2016）在《石墨烯等光学基片表面的盐溶液浸润特性研究》一文中研究指出随着光学技术的发展,光学基片的表面吸附特性尤其是盐溶液的吸附特性的研究具有重要的应用价值。通常的光学基片有金属铝、氟化镁、氟化钙、单晶硅、石英、蓝宝石、锗和硒化锌等。本文利用接触角测量仪分别测量了浓度为5%、10%、15%、20%、25%、30%氯化钠、氯化钾、氯化钙、硫酸钠、硫酸镁溶液和超纯水在不同光学基片表面的接触角。实验表明:(1)在不同材料基片表面的接触角范围是5°~20°,说明经过等离子清洗机充分清洁后,盐溶液都能很好地润湿所选的基片表面,光学基片表现出很强的亲水性;(2)接触角随着盐溶液浓度的增大而增大;(3)接触角随着溶液粘度的增大而增大;(4)氯盐的接触角范围基本都在5°~12°之间;硫酸钠接触角范围是5°~20°而硫酸镁是5°~9°;(5)硒化锌的接触角相对较大且几乎不随盐溶液的浓度变化。石墨烯具有特殊的二维晶体结构和良好的电学光学性质,预期能够极大提升现有光学基片的性能,具有很高的应用潜力。本文使用MS软件计算不同个数水分子吸附在单层石墨烯的吸附特性,计算吸附能和各种光学性质。得到的结论如下所示:第一、水分子在单层石墨烯表面的吸附能很小,并且主要是范德瓦尔斯相互作用,说明这是一种物理吸附;第二、石墨烯是一种具有极高疏水性的平面材料;第叁、水分子在石墨烯表面对石墨烯的电子结构几乎没有作用;第四、吸附不同个数的水分子后对石墨烯的光学性质有一定影响。其中吸附单个水分子后变化并不明显,吸附2或3个水分子后吸收率和光电导率略有下降;折射率和消光率下降不明显,说明吸附水对石墨烯的透明度影响不大;介电函数的实数部分变化趋于平缓,虚数部分有明显下降;能量损失增加。(本文来源于《河南师范大学》期刊2016-05-01）
王超,王多书,李坤,李凯朋[9]（2015）在《光学薄膜基片清洗工艺研究》一文中研究指出在真空镀制光学薄膜过程中,镀膜前基片表面的洁净度对镀制膜层的质量有直接的影响。介绍了基片表面洁净度的评定和检测方法,对光学基片表面污染物的来源、类型及清洗工艺进行了评述。针对实验室的清洗工艺无法满足微小型高性能光学产品的需求问题,通过分析比较,探索出超声波+碱性清洗液清洗、去离子水喷洗和漂洗、氮气干燥洁净的组合,能够成为一种可以满足高性能光学滤光片技术要求的理想工艺。(本文来源于《TFC'15全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》期刊2015-08-21）
巩蕾,吴振森,代少玉,李正军[10]（2015）在《微粗糙光学基片表面与上方冗余粒子的差值场散射特性研究》一文中研究指出基于小波距量法(MOM)研究了微粗糙光学基片表面与上方冗余粒子的差值光散射特性。从基本电场积分方程出发,推导出冗余粒子目标与光学基片微粗糙面的积分方程,得到阻抗矩阵,进而推导出散射耦合场及差值场,给出复合散射模型双站散射截面的计算公式,数值计算并分析了不同入射角度,不同材质的单个及双个冗余缺陷粒子与微粗糙光学基片表面的双站散射截面及差值双站散射截面的散射角分布,给出冗余粒子及微粗糙面的散射贡献及差值场散射角分布。(本文来源于《光学学报》期刊2015年08期）
光学基片论文开题报告范文
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
利用绿色真空蒸镀技术,在不同LiNbO_3基片温度下制备Ti光学薄膜,研究不同LiNbO_3基片温度对Ti光学薄膜生长过程的影响,结合薄膜生长与原子迁移理论分析影响机理,优化基片温度.对样品表观形貌与薄膜、晶粒择优生长趋向进行分析.研究结果表明:180℃为5组温度中最合适的基片温度.此条件下,钛薄膜表面存在大量细晶,分布均匀,无晶界迁移,晶粒随机生长、尺寸小,无针孔,钛薄膜表面粗糙度(Rq)低,为25.4nm,平整度较理想,为后续钛扩散铌酸锂光耦合器的制备提供了保障.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
光学基片论文参考文献
[1].廖莎莎,李强,廖希,明艳.硅基片上光学器件实验设计[J].教育教学论坛.2019
[2].汤卉,董鹏展,吕杨.基片温度对真空蒸镀Ti/LiNbO_3光学薄膜的影响[J].徐州工程学院学报(自然科学版).2018
[3].牛玉宝.激光陀螺反射镜基片的光学散射特性研究[D].哈尔滨工业大学.2018
[4].杜书剑.硅基片上二维光学相控阵研究[D].中国科学院大学(中国科学院西安光学精密机械研究所).2018
[5].张宝武,霍剑锋,饶鹏辉,张明月,刘媛媛.基于VirtualLabFusion的原子光刻基片定位方案的光学系统仿真[J].中国计量大学学报.2017
[6].徐飞.不同基片掺杂氧化锌薄膜光学特性的对比研究[J].现代制造技术与装备.2017
[7].陈凤金,苏现军.HCFC-141B在光学镀膜基片清洗上的应用[J].清洗世界.2016
[8].王敬.石墨烯等光学基片表面的盐溶液浸润特性研究[D].河南师范大学.2016
[9].王超,王多书,李坤,李凯朋.光学薄膜基片清洗工艺研究[C].TFC'15全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2015
[10].巩蕾,吴振森,代少玉,李正军.微粗糙光学基片表面与上方冗余粒子的差值场散射特性研究[J].光学学报.2015