UV/Cl工艺对三氯生的去除与降解机理研究

论文摘要

对UV/Cl高级氧化工艺降解水中广谱抗菌剂三氯生（TCS）进行研究,对比单一UV、单一Cl和UV/Cl工艺对TCS的去除效果.考察UV光强、余氯初始浓度、溶液pH值和氨氮浓度等因素对反应的影响,探究TCS在UV/Cl工艺中的降解机理,评估其生态风险.结果表明,与单一UV、单一Cl相比,TCS在UV/Cl工艺中降解效果较好,反应符合准一级反应动力学,降解速率常数随UV光强、余氯初始浓度增大而增大,随NH4+-N浓度的增加而减小.基于HRMSQ-TOF解析出17种中间产物,提出了降解反应路径.发光细菌毒性分析和ECOSAR预测均表明,TCS在UV/Cl工艺中产生毒性较高的中间产物,随着反应的进行,产生了毒性较低的中间产物,生态环境风险得以减少.

论文目录

• 1 材料与方法
•   1.1 实验试剂
•   1.2 实验装置
•   1.3 实验方法和过程
•   1.4 TCS及其中间产物分析
•   1.5 生态毒性风险评价
• 2 结果与讨论
•   2.1 单一UV、单一Cl、UV/Cl工艺反应动力学
•   2.2 UV光强对降解反应的影响
•   2.3 余氯初始浓度对降解反应的影响
•   2.4 溶液p H值对降解反应的影响
•   2.5 氨氮浓度对降解反应的影响
•   2.6 中间产物与降解机理
•   2.7 生态毒性评价与预测
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 周思琪,李佳琦,杜尔登,李淼,刘翔

关键词: 三氯生,高级氧化工艺,影响因素,降解机理,毒性评价

来源: 中国环境科学 2019年03期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 环境科学与资源利用

单位: 常州大学环境与安全工程学院,清华大学环境学院

基金: 江苏省研究生实践创新计划项目(SJCX18-0960),国家水体污染控制与治理科技重大专项(2017ZX07202-002)

分类号: X703

DOI: 10.19674/j.cnki.issn1000-6923.2019.0120

页码: 1000-1008

总页数: 9

文件大小: 699K

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