脉冲偏压对直流磁控溅射沉积MoN薄膜结构及性能的影响

脉冲偏压对直流磁控溅射沉积MoN薄膜结构及性能的影响

论文摘要

MoN薄膜是一种具有潜在应用价值的薄膜材料,但对于其结构和性能的研究还较少。采用直流磁控溅射技术在304不锈钢基体表面沉积MoN薄膜,研究了脉冲偏压对MoN薄膜结构和性能的影响,并系统研究了MoN薄膜在不同摩擦条件下的摩擦磨损行为。采用X射线衍射仪和扫描电镜分析薄膜的晶相结构、晶粒尺寸、表面及断面形貌,采用HMV-2T显微硬度仪测试薄膜的显微硬度。采用UMT-TriboLab多功能摩擦磨损试验机评价薄膜的摩擦磨损性能,并用扫描电镜观察磨损表面,分析其磨损机制。结果表明:脉冲偏压显著影响直流磁控沉积的MoN薄膜的晶相结构、表面形貌、断面结构、硬度和摩擦磨损性能;随脉冲偏压的增大,MoN薄膜的膜厚、硬度都先增大后减小,而薄膜的磨损率却先减小后增大,其中-500 V脉冲偏压下沉积的MoN薄膜具有最高硬度为7731 N/mm2,以及最低的磨损率为5.8×10-7mm3/(N·m)。此外,MoN薄膜在不同载荷和转速的摩擦条件下表现出不同的摩擦学行为。

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 徐星,苏峰华,李助军

关键词: 脉冲偏压,直流磁控溅射,薄膜,摩擦学性能

来源: 中国表面工程 2019年02期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 材料科学,金属学及金属工艺,工业通用技术及设备

单位: 华南理工大学机械与汽车工程学院,广州铁路职业技术学院机械与电子学院

基金: 国家自然科学基金(51775191),中央高校科研业务费(2018ZD29),广东省科技计划项目(2016A010102009)~~

分类号: TG178;TB383.2

页码: 54-62

总页数: 9

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