HIPIMS技术制备CrN及CrAlN涂层的性能

论文摘要

用高能脉冲靶和双极脉冲靶共溅射的方式,采用高功率脉冲磁控溅射技术（HIPIMS）在高速钢基片（W18Cr4V）上制备了CrN涂层和CrAlN涂层（（H+B）CrN、（H+B）CrAlN）;同时采用第四代电弧离子镀技术（ARC evaporators）在高速钢基片上制备了CrN涂层和CrAlN涂层（ARC CrN、ARC CrAlN）。采用划痕试验、X射线衍射、扫描电镜和电化学腐蚀测试等研究了涂层的形貌和性能。结果表明:共溅射制备的涂层膜基结合力更强,临界载荷最高可达到72.2 N,表面晶粒更细小,缺陷少,横截面组织致密;同时该方法制备的CrAlN（（H+B）CrAlN）涂层的高温抗氧化性能最佳;共溅射制备的涂层的耐腐蚀性能比电弧离子镀制备的涂层更好。

论文目录

• 1 试验材料及方法
•   1.1 多层涂层的制备
•   1.2 涂层的表征
• 2 涂层的性能测试与分析
•   2.1 涂层的膜基结合力
•   2.2 涂层的微观结构形貌
•   2.3 涂层的氧化处理
•   2.4 涂层耐蚀性的检测
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 朱宇杰,马景灵,王广欣,秦聪慧,Heinz Rolf Stock

关键词: 高功率脉冲磁控溅射技术,共溅射,膜基结合力,耐腐蚀性

来源: 材料热处理学报 2019年04期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 河南科技大学材料与工程学院,河南科技大学高纯材料研究中心

基金: 河南省自然科学基金培育项目(162300410087)

分类号: TG174.4

DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2018-0480

页码: 127-135

总页数: 9

文件大小: 962K

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