导读:本文包含了多晶硅绒面论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:多晶硅,多坑,反射率,绒面
多晶硅绒面论文文献综述
张发云[1]（2014）在《多晶硅绒面结构光学特性的数值模拟》一文中研究指出基于麦克斯韦方程组和材料本构方程,利用多物理场有限元软件COMSOL Multiphysics 3.5a中的RF模块建立了多坑绒面的有限元模型,并对硅片腐蚀前后的光学特性进行了模拟。研究表明,与硅片腐蚀前相比,腐蚀后(即多坑)绒面反射率较低,功率流y分量较高,具有较好的陷光效果,当波长为800nm时,多坑绒面表面电场z分量的最大值和最小值分别为腐蚀前硅片的3.1倍和2.3倍,而表面磁场y分量两个极值分别为腐蚀前硅片的6倍和6.6倍;通过将模拟结果和实验数据比较可知,多坑模型模拟结果更接近实验值,所获模拟结果可更好地指导实际生产。(本文来源于《材料导报》期刊2014年18期）
钱勇[2]（2013）在《亚硝酸腐蚀的多晶硅绒面结构》一文中研究指出多晶硅太阳电池作为一种低成本、高效率、广泛应用的太阳电池会在未来较长时间内保持主流地位。在目前光伏市场产能过剩，价格下跌背景下，各太阳电池生产厂商均积极采措施，通过各种工艺改进手段提高其多晶硅电池片的转换效率。目前多晶硅电池表面制绒工艺优化是提高电池转化效率的有效方法之一，且成本较低。本论文对多晶硅片的表面结构进行了研究，提出现有工业化生产制绒工艺存在的问题，采用酸腐蚀液调节方法优化多晶硅表面结构，以达到降低多晶硅表面反射率的目的。工业上一般采用酸腐蚀工艺实现多晶硅表面绒面结构，主要是利用酸在多晶硅表面腐蚀是各向同性的，即不同晶面腐蚀速度相同。本文在上海神舟新能源多晶硅电池生产线上，研究了其HF-HNO_3制绒工艺，发现目前工艺技术控制要求高，难度大，获得的多晶硅表面反射率尚不理想。本文通过分析上海神舟新能源的多晶硅电池样品的SEM图，认为普通制绒工艺得到的多晶硅电池表面陷阱坑浅而大，表面反射率高达31.8%以上。本文认为需要对现有的HF-HNO_3配方进行改进，拟使用氧化性较弱的NaNO_2作为氧化剂替代HNO_3。通过实验发现经过HF-NaNO_2腐蚀液腐蚀，可以获得良好的多晶硅电池表面绒面结构，即呈“蚯蚓状”，密度分布均匀、深度较深，表面反射率下降到了23.8%，比现有工艺低了约8%。故实验表明用硝酸纳代替硝酸对多晶硅表面刻蚀，可以获得低表面反射率的绒面。(本文来源于《上海交通大学》期刊2013-06-05）
程泽秀[3]（2012）在《多晶硅绒面制备工艺的研究》一文中研究指出表面织构化的多晶硅片减少了光在太阳电池表面反射损失。多晶硅经过一定表面处理后，其表面呈现凹凸不平的孔洞状表面形态，进而可使可见光在多晶硅表面形成多次的反射，降低表面反射率，增加光的吸收，提高光的转化效率。本文在传统化学酸腐蚀多晶硅工艺的基础上，分别提出采用电化学预腐蚀法和光学掩膜法与化学酸腐蚀工艺结合制备多晶硅绒面，用于提高多晶硅太阳能电池光电转换效率。1)采用HF/HNO_3混合溶液体系对多晶硅片表面进行腐蚀，通过改变溶液组成、配比、腐蚀反应时间以及腐蚀反应温度等工艺，探讨化学酸腐蚀法制备多晶硅绒面的影响因素，通过对比腐蚀前后绒面的表面形貌与反射率，得到化学酸腐蚀法较为适合的工艺参数如下：腐蚀液组成及配比为HF:HNO3:H_2O:CH_3COOH=1:6:3:1(体积比)；腐蚀时间为300s；腐蚀温度为5℃。制得多晶硅绒面，在波长为400~1100nm范围内，平均反射率为18.7%。2)提出利用“二次腐蚀法”制备多晶硅绒面。首先在H_F:CH_3CH_2OH=1:2(体积比)腐蚀溶液中对硅片表面进行电化学预腐蚀，然后采用化学酸腐蚀法进行二次腐蚀，去除多晶硅表面疏松结构，制得高性能的多晶硅绒面。采用扫描电子显微镜观察多晶硅表面腐蚀形貌，具体研究不同电流密度对腐蚀表面的影响，实验结果表明：当电流密度为30mA/cm2、腐蚀时间为300s时，多晶硅表面形成孔洞状的疏松结构；预腐蚀多晶硅片在HF:H_2O_2=4:1化学腐蚀溶液中，在15℃超声波条件下腐蚀60s后，得到较好的绒面，腐蚀坑孔径为2~3μm，坑深为1.5~3μm，制得多晶硅绒面，在波长为400~1100nm范围内，平均反射率为16.4%。3)为提高制备的多晶硅绒面均匀性，尝试利用光学掩膜技术及化学刻蚀技术来制备多晶硅织构化表面。首先利用光刻技术，将掩膜板上的图案通过曝光显影转移到多晶硅表面的正性光刻胶上，再采用化学酸腐蚀工艺对多晶硅片进行刻蚀。得到制备均匀多晶硅绒面，较为适合的工艺参数如下：曝光时间为9s；显影时间为30s；刻蚀液配方为：HF:H_NO3:H_2O:CH_3COOH=1:6:3:1，酸腐蚀时间为90s。制得多晶硅绒面，在波长为400~1100nm范围内，平均反射率为11.0%。通过一系列实验发现：化学酸腐蚀法可制得符合太阳能电池后续制作工艺要求的多晶硅绒面，降低可见光反射率，但化学酸腐蚀反应可控性、稳定性及绒面形貌均匀性都有待提高。本文结合电化学、光刻及化学酸腐蚀技术特点，探索多晶硅制绒工艺，减少化学酸腐蚀时间，提高多晶硅绒面可控性和均匀性。(本文来源于《南昌航空大学》期刊2012-05-01）
林育琼,冯仕猛,王坤霞,裴俊,刘绍军[4]（2011）在《两步酸修饰的多晶硅绒面结构》一文中研究指出本文提出两步法制备多晶硅表面绒面技术,用两次化学腐蚀修饰多晶硅片的表面。实验中首先采用腐蚀液HF/NaNO2/H2O对多晶硅表面进行腐蚀,然后采用腐蚀液HF/HNO3/(NH4)2C2O4/H2O对其表面进一步修饰。通过多晶硅SEM表面形貌图分析,两步法修饰的多晶硅表面有形状如蚯蚓状的腐蚀坑,腐蚀坑的深度和分布密度相对较大。通过反射谱分析了多晶硅片表面陷光效果,并与用其它方法修饰的硅表面陷光效果进行了对比,与传统配方HF/HNO3/H2O获得的多晶硅表面相比,综合平均反射率下降了7%左右。这种方法获得的多晶硅表面能有效收集太阳光,有利于提高太阳能电池的转换效率。(本文来源于《材料科学与工程学报》期刊2011年05期）
林育琼,冯仕猛,王坤霞,顾俊,刘少军[5]（2011）在《含氟表面活性剂对多晶硅绒面微结构的影响》一文中研究指出在酸制绒液中加入含氟表面活性剂,对多晶硅片制绒。然后通过扫描电子显微镜观察多晶硅表面织构,并在此基础上分析含氟表面活性剂对腐蚀效果的影响。实验结果表明:虽然传统酸液对多晶硅制绒是各向同性的,但加入含氟表面活性剂后,酸腐蚀出现各向异性腐蚀特性;由此制备的多晶硅片反射率从25.7%下降到了23.9%,表面出现变形的金字塔、叁角形等,且不同晶面的金字塔和叁角形的大小和倾斜角度不同。最后根据杨氏理论,从界面张力的角度解释了含氟表面活性剂对制绒的影响机理。(本文来源于《材料科学与工程学报》期刊2011年04期）
张妹玉,陈朝[6]（2011）在《两步腐蚀法制备多晶硅绒面》一文中研究指出采用两步化学腐蚀法在多晶硅材料的表面制备了绒面结构,其中两步腐蚀法包括酸-碱两步腐蚀法和酸-酸两步腐蚀法。通过表面形貌SEM和反射谱的测试,详细地研究了不同腐蚀条件和腐蚀溶液制备绒面的形貌和光学特征。实验发现,当腐蚀速率较快时,多晶硅的绒面形貌会出现大量的晶界和针孔效应,并分析了其形成原因。同时,采用酸-碱两步腐蚀法的效果优于酸-酸两步腐蚀法的效果。最后,用PECVD在绒面上沉积SiNx减反射膜,使表面的反射率在600～800nm范围内降到3%左右,达到了良好的减反射效果,得出了最优的绒面制备方案。(本文来源于《半导体光电》期刊2011年02期）
张发云,李水根,李玲,欧阳小芳,刘仪柯[7]（2010）在《光伏专业太阳电池多晶硅绒面创新实验设计》一文中研究指出基于太阳电池多晶硅绒面创新实验设计,阐述了多晶硅绒面形成原理,重点说明了所设计实验的目的和内容。实践证明该实验能够提供学生直接接触光伏领域中主流技术的机会,增强学生对太阳电池制绒工艺环节的感性认识,提高学生的实际动手能力、创新设计能力和新技术的应用能力。(本文来源于《新余高专学报》期刊2010年05期）
孙小娟,张红妹,刘伟,王志国,郎芳[8]（2009）在《多晶硅绒面电池正面电极的研究》一文中研究指出本文主要通过不同银浆在多晶硅片上电性能、欧姆接触的对比,研究多晶硅电池正面电极的结构及特点。正面电极与硅的接触在影响串联电阻和并联电阻方面起着明显的作用,反过来决定太阳电池的电性能。优良的正面电极接触结构通常是正银浆料的化学性质、玻璃体和烧结曲线共同作用、影响的。正银浆料内的玻璃体由银粉扩散进硅的纯度决定,该玻璃体通过其组成成分和银粉与硅之间的厚度来控制串联电阻,并联电阻。(本文来源于《电气技术》期刊2009年08期）
郭志球,柳锡运,沈辉,刘正义[9]（2007）在《各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面》一文中研究指出本文介绍了一系列利用各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面的试验,腐蚀液为硝酸和氢氟酸的混合溶液,添加了醋酸稀释液是为了降低反应速度。通过优化各种参数,获得了腐蚀速度平缓,适合工业生产的多晶硅绒面,绒面分布均匀。随着反应的进行,腐蚀坑由微裂纹状转变为气泡状,经反射率测定表明绒面达到了较好的减反效果。(本文来源于《材料科学与工程学报》期刊2007年01期）
多晶硅绒面论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
多晶硅太阳电池作为一种低成本、高效率、广泛应用的太阳电池会在未来较长时间内保持主流地位。在目前光伏市场产能过剩，价格下跌背景下，各太阳电池生产厂商均积极采措施，通过各种工艺改进手段提高其多晶硅电池片的转换效率。目前多晶硅电池表面制绒工艺优化是提高电池转化效率的有效方法之一，且成本较低。本论文对多晶硅片的表面结构进行了研究，提出现有工业化生产制绒工艺存在的问题，采用酸腐蚀液调节方法优化多晶硅表面结构，以达到降低多晶硅表面反射率的目的。工业上一般采用酸腐蚀工艺实现多晶硅表面绒面结构，主要是利用酸在多晶硅表面腐蚀是各向同性的，即不同晶面腐蚀速度相同。本文在上海神舟新能源多晶硅电池生产线上，研究了其HF-HNO_3制绒工艺，发现目前工艺技术控制要求高，难度大，获得的多晶硅表面反射率尚不理想。本文通过分析上海神舟新能源的多晶硅电池样品的SEM图，认为普通制绒工艺得到的多晶硅电池表面陷阱坑浅而大，表面反射率高达31.8%以上。本文认为需要对现有的HF-HNO_3配方进行改进，拟使用氧化性较弱的NaNO_2作为氧化剂替代HNO_3。通过实验发现经过HF-NaNO_2腐蚀液腐蚀，可以获得良好的多晶硅电池表面绒面结构，即呈“蚯蚓状”，密度分布均匀、深度较深，表面反射率下降到了23.8%，比现有工艺低了约8%。故实验表明用硝酸纳代替硝酸对多晶硅表面刻蚀，可以获得低表面反射率的绒面。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
多晶硅绒面论文参考文献
[1].张发云.多晶硅绒面结构光学特性的数值模拟[J].材料导报.2014
[2].钱勇.亚硝酸腐蚀的多晶硅绒面结构[D].上海交通大学.2013
[3].程泽秀.多晶硅绒面制备工艺的研究[D].南昌航空大学.2012
[4].林育琼,冯仕猛,王坤霞,裴俊,刘绍军.两步酸修饰的多晶硅绒面结构[J].材料科学与工程学报.2011
[5].林育琼,冯仕猛,王坤霞,顾俊,刘少军.含氟表面活性剂对多晶硅绒面微结构的影响[J].材料科学与工程学报.2011
[6].张妹玉,陈朝.两步腐蚀法制备多晶硅绒面[J].半导体光电.2011
[7].张发云,李水根,李玲,欧阳小芳,刘仪柯.光伏专业太阳电池多晶硅绒面创新实验设计[J].新余高专学报.2010
[8].孙小娟,张红妹,刘伟,王志国,郎芳.多晶硅绒面电池正面电极的研究[J].电气技术.2009
[9].郭志球,柳锡运,沈辉,刘正义.各向同性腐蚀法制备多晶硅绒面[J].材料科学与工程学报.2007