全文摘要
本实用新型涉及一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，属于碳化硅加工设备技术领域，包括与抛光盘连接的底盘、设置于底盘上的绒毛层、设置在底盘上的一组抛光液喷出孔及一组抛光液回流孔，抛光液喷出孔与抛光液喷涂装置连接，抛光液回流孔与回收装置连接，抛光液回流孔的直径大于碳化硅粉末的直径，抛光液喷出孔、抛光液回流孔在底盘上穿插设置，回收装置借助过滤装置与抛光液喷涂装置连接，利用该抛光垫能够使抛光液均匀分布并有效地防止抛光过程中产生的粉末及抛光液的堵塞，提高抛光效率及抛光质量。
主设计要求
1.一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，包括与抛光盘连接的底盘(1)、设置于底盘(1)上的绒毛层(2)，其特征在于：该抛光垫还包括设置在底盘(1)上的一组抛光液喷出孔(3)及一组抛光液回流孔(4)，所述的抛光液喷出孔(3)与抛光液喷涂装置连接，所述的抛光液回流孔(4)与回收装置连接，抛光液回流孔(4)的直径大于碳化硅粉末的直径。
设计方案
1.一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，包括与抛光盘连接的底盘(1)、设置于底盘(1)上的绒毛层(2)，其特征在于：该抛光垫还包括设置在底盘(1)上的一组抛光液喷出孔(3)及一组抛光液回流孔(4)，所述的抛光液喷出孔(3)与抛光液喷涂装置连接，所述的抛光液回流孔(4)与回收装置连接，抛光液回流孔(4)的直径大于碳化硅粉末的直径。
2.根据权利要求1所述的一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，其特征在于：所述的抛光液喷出孔(3)、抛光液回流孔(4)在底盘(1)上穿插设置。
3.根据权利要求1所述的一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，其特征在于：所述的回收装置借助过滤装置与抛光液喷涂装置连接。
4.根据权利要求1所述的一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，其特征在于：所述的绒毛层(2)上设置有位于相邻抛光液喷出孔(3)、抛光液回流孔(4)之间的回流通道(5)。
设计说明书
技术领域
本实用新型属于碳化硅加工设备技术领域，涉及一种抛光垫，具体地说是一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫。
背景技术
碳化硅作为第三代半导体材料，可用于制作新一代高效节能的电力电子器件，并广泛应用于国民经济的各个领域，碳化硅衬底材料具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性，在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、军工、核能等极端环境应用有着不可替代的优势，市场前景广阔。
目前化学机械抛光中用到的抛光垫是直接贴在抛光盘上，在抛光过程，碳化硅晶片的表面会产生一些碳化硅粉末。由于抛光垫表面是由一些细小的绒毛层组成的，抛光产生的粉末与抛光液的混合物会大量吸附在抛光垫上，从而会导致抛光垫的堵塞。
发明内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，使抛光液均匀分布并能够有效地防止抛光过程中产生的粉末及抛光液的堵塞，提高抛光效率及抛光质量。
本实用新型采用的技术方案是：
一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，包括与抛光盘连接的底盘、设置于底盘上的绒毛层，关键在于，该抛光垫还包括设置在底盘上的一组抛光液喷出孔及一组抛光液回流孔，所述的抛光液喷出孔与抛光液喷涂装置连接，所述的抛光液回流孔与回收装置连接，抛光液回流孔的直径大于碳化硅粉末的直径。
所述的抛光液喷出孔、抛光液回流孔在底盘上穿插设置。
所述的回收装置借助过滤装置与抛光液喷涂装置连接。
所述的绒毛层上设置有位于相邻抛光液喷出孔、抛光液回流孔之间的回流通道。
本实用新型的有益效果是：在抛光垫的底盘上设置抛光液喷出孔和抛光液回流孔，抛光液喷涂装置喷出的抛光液从抛光液喷出孔喷向碳化硅晶片，使抛光垫与碳化硅晶片之间有充足的抛光液，保证抛光效果；抛光进行一段时间后，不断喷出的抛光液将产生的碳化硅粉末冲洗到抛光液回流孔并流入回收装置，有效避免了抛光垫上堆积过多的碳化硅粉末，防止碳化硅晶片表面产生划痕。
附图说明
图1是实施例1的结构示意图。
图2是实施例2的结构示意图。
附图中，1代表底盘，2代表绒毛层，3代表抛光液喷出孔，4代表抛光液回流孔，5、回流通道，箭头代表抛光液的喷出方向。
具体实施方式
本实用新型涉及一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，包括与抛光盘连接的底盘1、设置于底盘1上的绒毛层2，其特征在于：该抛光垫还包括设置在底盘1上的一组抛光液喷出孔3及一组抛光液回流孔4，所述的抛光液喷出孔3与抛光液喷涂装置连接，所述的抛光液回流孔4与回收装置连接，抛光液回流孔4的直径大于碳化硅粉末的直径。
下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步说明。
实施例1，如图1所示，底盘1的为质地较硬的软塑料盘，绒毛层2是由羊毛等绒状物组成的并作为抛光垫的工作面，底盘1上设置有一组与抛光液喷涂装置连接的抛光液喷出孔3和一组与回收装置连接的抛光液回流孔4，抛光液回流孔4的直径大于碳化硅粉末的直径，使碳化硅粉末能够顺利的沿抛光液回流孔4冲走；抛光液喷出孔3、抛光液回流孔4在底盘1上穿插设置，使抛光垫与碳化硅晶片之间的抛光液可以充分并均匀分布，从而有效地提高抛光效率、抛光产量，且抛光液回流孔4与抛光液喷出孔4之间的距离较近，便于带有碳化硅粉末的抛光液流出；抛光进行一段时间之后，抛光产生的碳化硅粉末会出现在抛光垫与碳化硅晶片之间，抛光液喷出孔3喷出的抛光液对碳化硅粉末进行冲洗，使粉末随着抛光盘的旋转流入抛光液回流孔4中，由抛光液回流孔4流入回收装置中，避免了碳化硅粉末在抛光垫与碳化硅晶片之间产生堆积、堵塞，有效防止碳化硅粉末对碳化硅晶片的表面产生划痕，提高产品质量；回收装置借助过滤装置与抛光液喷涂装置连接，流入回收装置中的带有碳化硅粉末的抛光液经过过滤装置的过滤后，洁净的抛光液被补充至抛光液喷涂装置内，实现了抛光液的有效循环。
实施例2与实施例1基本相同，不同之处仅在于，如图2所示，在绒毛层2上设置有位于相邻抛光液喷出孔3、抛光液回流孔4之间的回流通道5，减小绒毛层对喷出后的抛光液阻挡，抛光液对绒毛层2进行冲刷，回流通道5的设置提高了抛光液的流动性，带有碳化硅粉末的抛光液沿回流通道5能够有效回流至抛光液回流孔4中。
本实用新型涉及的一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，利用抛光液喷出孔及抛光液回流孔对抛光产生的碳化硅粉末及时、有效地进行清理，防止碳化硅粉末堵塞在抛光垫与碳化硅晶片之间，提高了碳化硅晶片的产品质量。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920291759.8
申请日:2019-03-07
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:授权编号:CN209615157U
授权时间:20191112
主分类号:B24B 37/20
专利分类号:B24B37/20
范畴分类:26F;
申请人:同辉电子科技股份有限公司
第一申请人:同辉电子科技股份有限公司
申请人地址:050200河北省鹿泉区高新技术开发区昌盛大街21号
发明人:元利勇;曾昊;王玉茹;张珂
第一发明人:元利勇
当前权利人:同辉电子科技股份有限公司
代理人:张建茹
代理机构:13115
代理机构编号:石家庄元汇专利代理事务所（特殊普通合伙）
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计