论文摘要
本文研究了对ZnO薄膜的光致发光、晶体缺陷、晶粒尺寸和表面形貌的影响。采用PL测试表征材料的缺陷密度,用HR-XRD缺陷显著降低,结晶情况有所改善,晶粒尺寸增大。利用H2O2处理可以降低ZnO薄膜的缺陷态,提高了其在应用中的电学稳定性。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 李博,高晓红,张文通,王天宇,金宝昌
关键词: 射频磁控溅射,薄膜,处理
来源: 电脑知识与技术 2019年08期
年度: 2019
分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备,无线电电子学
单位: 吉林建筑大学电气与计算机学院
基金: 大学生创新创业训练计划项目(201810191050)
分类号: TQ132.41;TB383.2;TN321.5
DOI: 10.14004/j.cnki.ckt.2019.0813
页码: 240-242
总页数: 3
文件大小: 1444K
下载量: 46
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