不同基片生长γ′-Fe4N薄膜的结构及其磁学性能

论文摘要

采用直流磁控溅射方法,保持氩气流量不变,控制氮气的体积分数为10%,12.5%,15%,分别用Si（100）单晶和SrTiO3（100）单晶基片制备Fe-N薄膜.用X射线衍射（XRD）和振动样品磁强计（VSM）等方法对两种不同基片生长Fe-N薄膜的结构及磁学性能进行表征.结果表明:在SrTiO3（100）单晶基片上得到了单相γ′-Fe4N薄膜,与Si（100）基片上的样品相比,SrTiO3（100）更有利于诱导γ′-Fe4N薄膜的取向性生长;当氮气的体积分数约为12.5%时,制备单相γ′-Fe4N薄膜的晶粒结晶度较好,且饱和磁化强度较高,矫顽力比Si（100）为基片获得的Fe-N薄膜样品低,软磁性能较好.

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文章来源

类型: 期刊论文

作者: 刘伟达,陈蕊,王丽丽,李宏广,安涛,张东辉,徐士翀

关键词: 薄膜,基片,微观结构,磁学性能

来源: 吉林大学学报(理学版) 2019年01期

年度: 2019

分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备

单位: 长春大学理学院,核工业工程研究设计有限公司,吉林师范大学功能材料物理与化学教育部重点实验室

基金: 国家自然科学基金(批准号:51302019),吉林省科技厅优秀青年基金(批准号:20180520222JH),吉林省产业技术研究与开发项目(批准号:2018C043-3,2017C052-3),吉林省教育厅“十三五”科学技术研究项目(批准号:JJKH20191195KJ)

分类号: TB383.2

DOI: 10.13413/j.cnki.jdxblxb.2018004

页码: 156-159

总页数: 4

文件大小: 573K

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