导读:本文包含了荧光发射强度论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:荧光,强度,玻色子,缓冲液,阳极,光子,光谱。
荧光发射强度论文文献综述
鄢志丹,孙立东,胡春光,胡小唐,Peter,Zeppenfeld[1]（2012）在《荧光发射强度影响因素及荧光猝灭实验研究》一文中研究指出荧光发射强度在荧光显微术科学观测中至关重要。理论分析了叁大影响荧光发射强度的重要因素:分子吸收激发光光子的能力、荧光量子产量及其荧光饱和与荧光猝灭,指出选择具有大光吸收截面和高量子产量的荧光分子,能有效保证荧光发射强度;确定合理的激发光强度范围,可避免不必要的荧光饱和现象。进一步实验研究了超高真空和大气环境下的荧光猝灭现象,得出超高真空时荧光分子的荧光猝灭现象极不明显,而大气环境可造成荧光光强指数递减的结论。(本文来源于《光谱学与光谱分析》期刊2012年10期）
杜萍,袁兰,吴后男,徐克宁,杨晓改[2]（2009）在《HEPES增强Tb~(3+)和Tb_2Tf的荧光发射峰强度(英文)》一文中研究指出Tb作为镧系元素中少数几个有荧光性质的稀士离子,在荧光方面有很多重要的应用。如Tb被广泛用于与蛋白质钙位点结合的荧光探针,同时也可根据Tb的荧光特性,用荧光方法定量分析Tb-有机配体配合物。本研究发现HEPES(常用的pH缓冲剂)可显着增强Tb在585nm的特征荧光发射峰,同时微弱的增强Tb在490nm和549nm的特征荧光发射峰。一直以来,经常使用Tb在549nm处的特征荧光发射峰定量研究Tb化合物的浓度;然而,本研究却发现在进行此类实验时需要慎重选择实验条件,因为Tb荧光的定量分析结果会随缓冲试剂浓度或者含量的变化而改变。另一方面,Tb 585nm处的特征荧光发射峰的荧光强度与HEPES和Tb离子的浓度都有一定的依赖关系,因此Tb 585nm特征荧光发射峰也有被用于荧光定量分析研究的潜能。(本文来源于《Journal of Chinese Pharmaceutical Sciences》期刊2009年03期）
陈雪亮,巩岩,陈波[3]（2004）在《掠发射X射线荧光强度的实验研究》一文中研究指出文章探讨掠发射 X射线荧光强度与 X射线管阳极高压的关系。依据实验结果 ,掠发射 X射线荧光强度随 X射线管阳极高压的增大而增加 ,因此采用高的 X射线管阳极高压 ,有利于减小 X射线荧光的测量时间 ,提高掠发射 X射线荧光分析的速度(本文来源于《光谱实验室》期刊2004年01期）
何延才,曹立群,陈家光[4]（1984）在《微颗粒体中二次荧光发射强度计算公式》一文中研究指出二次荧光校正计算是微颗粒X射线定量分析中极为困难的问题。本文基于一定物理模型,提出了任意形状、尺寸的多元系颗粒样品二次荧光发射强度计算方法,导出了轴对称旋转体颗粒荧光校正计算公式。若一定能量的电子束垂直入射到多元颗粒表面上,令S_1表示颗粒中元素j所产生的初次特征X射线光子(称X_j光子)的空间分辨率,(本文来源于《自然杂志》期刊1984年10期）
荧光发射强度论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
Tb作为镧系元素中少数几个有荧光性质的稀士离子,在荧光方面有很多重要的应用。如Tb被广泛用于与蛋白质钙位点结合的荧光探针,同时也可根据Tb的荧光特性,用荧光方法定量分析Tb-有机配体配合物。本研究发现HEPES(常用的pH缓冲剂)可显着增强Tb在585nm的特征荧光发射峰,同时微弱的增强Tb在490nm和549nm的特征荧光发射峰。一直以来,经常使用Tb在549nm处的特征荧光发射峰定量研究Tb化合物的浓度;然而,本研究却发现在进行此类实验时需要慎重选择实验条件,因为Tb荧光的定量分析结果会随缓冲试剂浓度或者含量的变化而改变。另一方面,Tb 585nm处的特征荧光发射峰的荧光强度与HEPES和Tb离子的浓度都有一定的依赖关系,因此Tb 585nm特征荧光发射峰也有被用于荧光定量分析研究的潜能。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
荧光发射强度论文参考文献
[1].鄢志丹,孙立东,胡春光,胡小唐,Peter,Zeppenfeld.荧光发射强度影响因素及荧光猝灭实验研究[J].光谱学与光谱分析.2012
[2].杜萍,袁兰,吴后男,徐克宁,杨晓改.HEPES增强Tb~(3+)和Tb_2Tf的荧光发射峰强度(英文)[J].JournalofChinesePharmaceuticalSciences.2009
[3].陈雪亮,巩岩,陈波.掠发射X射线荧光强度的实验研究[J].光谱实验室.2004
[4].何延才,曹立群,陈家光.微颗粒体中二次荧光发射强度计算公式[J].自然杂志.1984
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