一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置论文和设计

全文摘要

本实用新型涉及晶片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，利用机械机构完成高度调节；便于判断去蜡液是否完全脱离盛放箱；包括盛放槽、盛放箱和支撑环，盛放槽内部设置有盛放腔，盛放槽顶侧壁连通设置有盛放口，盛放腔内部设置有下蜡液，盛放箱内部设置有放置腔，盛放箱顶侧壁连通设置有放置口；还包括第一锥齿轮、第二锥齿轮、底座、支撑杆、把手、旋转杆、转动杆、螺纹杆、上过渡杆、下过渡杆、限位杆、竖杆、滑动杆和三组滚珠；还包括挤压板、支撑板、弹簧和移动杆，盛放槽右侧壁上半区域连通设置有观察口，观察口处设置有透明板。

主设计要求

1.一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，包括盛放槽(1)、盛放箱(2)和支撑环(3)，盛放槽(1)内部设置有盛放腔，盛放槽(1)顶侧壁连通设置有盛放口，盛放腔内部设置有下蜡液，盛放箱(2)内部设置有放置腔，盛放箱(2)顶侧壁连通设置有放置口，盛放箱(2)外侧壁和底侧壁连通设置有多组进液口，支撑环(3)外侧壁与放置腔内侧壁中央区域连接，支撑环(3)顶侧壁上设置有陶瓷盘(4)，盛放箱(2)顶侧壁上设置有钢丝绳(5)；其特征在于，还包括第一锥齿轮(6)、第二锥齿轮(7)、底座(8)、支撑杆(9)、把手(10)、旋转杆(11)、转动杆(12)、螺纹杆(13)、上过渡杆(14)、下过渡杆(15)、限位杆(16)、竖杆(17)、滑动杆(18)和三组滚珠(19)，所述底座(8)顶侧壁设置有放置槽，放置槽处设置有第一滚珠轴承(20)，所述旋转杆(11)底端插入第一滚珠轴承(20)内部并且与第一滚珠轴承(20)键连接，支撑杆(9)上半区域设置有放置孔，放置孔处设置有第二滚珠轴承(21)，所述转动杆(12)穿过第二滚珠轴承(21)并且与第二滚珠轴承(21)键连接，转动杆(12)左端和右端分别与把手(10)右侧壁和第一锥齿轮(6)左侧壁中央区域连接，旋转杆(11)顶端穿过第二锥齿轮(7)并且与第二锥齿轮(7)键连接，第一锥齿轮(6)与第二锥齿轮(7)咬合，竖杆(17)底端与旋转杆(11)顶端连接，竖杆(17)右侧壁设置有滑动槽，滑动槽内底侧壁设置有下卡槽，滑动槽内顶侧壁设置有上卡槽，并且上卡槽与竖杆(17)顶侧壁连通，上卡槽和下卡槽处分别设置有第三滚珠轴承(22)和第四滚珠轴承(23)，下过渡杆(15)底端插入第四滚珠轴承(23)内部并且与第四滚珠轴承(23)键连接，上过渡杆(14)顶端穿过第三滚珠轴承(22)并且与第三滚珠轴承(22)键连接，滑动杆(18)左半区域设置有调节孔和限位孔，所述螺纹杆(13)螺装穿过调节孔并且螺纹杆(13)顶端和底端分别与上过渡杆(14)底端和下过渡杆(15)顶端连接，所述限位杆(16)穿过限位孔并且限位杆(16)顶端和底端分别与滑动槽内顶侧壁和内底侧壁连接，滑动杆(18)底侧壁右半区域设置有吊钩，所述钢丝绳(5)穿过吊钩，上过渡杆(14)顶端设置有电机(24)，移动杆(28)左侧壁设置有右弧形槽，滑动槽内左侧壁设置有左弧形槽，所述三组滚珠(19)大部分区域均位于右弧形槽内部，三组滚珠(19)左端均插入左弧形槽内部；还包括挤压板(25)、支撑板(26)、弹簧(27)和移动杆(28)，所述盛放槽(1)右侧壁上半区域连通设置有观察口，观察口处设置有透明板(29)，所述支撑板(26)右侧壁与盛放槽(1)内右侧壁上半区域连接，支撑板(26)设置有升降孔，所述移动杆(28)顶端穿过升降孔和弹簧(27)然后与挤压板(25)底侧壁中央区域连接，弹簧(27)顶端和底端分别与挤压板(25)底侧壁和支撑板(26)顶侧壁接触，移动杆(28)右侧壁下半区域设置有多组刷毛(30)。

设计方案

2.如权利要求1所述的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，其特征在于，还包括限位板(31)，所述限位板(31)设置有三组防脱孔，限位板(31)位于右弧形槽内部，三组滚珠(19)左端分别穿过三组防脱孔。

3.如权利要求2所述的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，其特征在于，还包括稳定杆(32)，稳定杆(32)设置有稳定孔，稳定孔处设置有第五滚珠轴承，所述转动杆(12)穿过第五滚珠轴承并且与第五滚珠轴承键连接。

4.如权利要求3所述的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，其特征在于，还包括三组延长杆(33)和转环(34)，所述三组延长杆(33)两端分别与把手(10)外侧壁和转环(34)内侧壁连接。

5.如权利要求4所述的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，其特征在于，所述移动杆(28)和升降孔横向截面形状为相同的四边形。

6.如权利要求5所述的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，其特征在于，所述盛放槽(1)右侧壁连通设置有出液管(35)，出液管(35)上设置有出液阀。

7.如权利要求6所述的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，其特征在于，所述挤压板(25)顶侧壁上设置有软垫。

8.如权利要求7所述的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，其特征在于，还包括锁紧环(36)，锁紧环(36)内侧壁上设置有内螺纹，所述转动杆(12)外侧壁上部分设置有外螺纹，锁紧环(36)螺装至转动杆(12)上，锁紧环(36)与支撑杆(9)接触。

设计说明书

技术领域

本实用新型涉及晶片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置。

背景技术

由于晶片非常薄，在制备晶片时，会将晶片先设置在一个陶瓷盘上，晶片和陶瓷盘之间一般通过蜡连接，在对晶片进行减薄、背面加工等处理后，需要去掉晶片与陶瓷盘之间的蜡(简称下蜡)，使得晶片从陶瓷盘上脱落，再后续处理晶片。

众所周知，碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置是一种用于使晶片与陶瓷盘分离并对晶片进行收集处理的装置，其在晶片生产的领域中得到了广泛的使用；现有的碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置包括盛放槽、盛放箱和支撑环，盛放槽内部设置有盛放腔，盛放槽顶侧壁连通设置有盛放口，盛放腔内部设置有下蜡液，盛放箱内部设置有放置腔，盛放箱顶侧壁连通设置有放置口，盛放箱外侧壁和底侧壁连通设置有多组进液口，支撑环外侧壁与放置腔内侧壁中央区域连接，支撑环顶侧壁上设置有陶瓷盘，盛放箱顶侧壁上设置有钢丝绳；现有的碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置使用时，使用者使用外界起重机通过钢丝绳对盛放箱进行高度调节，使盛放箱出入盛放槽内部，支撑环将陶瓷盘支撑起来，陶瓷盘顶侧壁设有蜡，蜡上设有晶片，盛放箱下落进入去蜡液，去蜡液沿多组进液口进入盛放箱内部，去蜡液将蜡去除，使陶瓷盘与晶片分离，然后使盛放箱向上移动脱离去蜡液，盛放箱内底部去蜡液和蜡沿多组进液口脱离盛放箱，然后对陶瓷盘和晶片进行分拣分离；现有的碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置使用中发现，往往使用起重机对盛放箱进行高度调节，需专人操作，造成成本较高，使用局限性较高；不便于判断去蜡液是否完全脱离盛放箱，使用便捷性较差。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种利用机械机构完成高度调节，降低成本，降低使用局限性；便于判断去蜡液是否完全脱离盛放箱，提高使用便捷性的碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，包括盛放槽、盛放箱和支撑环，盛放槽内部设置有盛放腔，盛放槽顶侧壁连通设置有盛放口，盛放腔内部设置有下蜡液，盛放箱内部设置有放置腔，盛放箱顶侧壁连通设置有放置口，盛放箱外侧壁和底侧壁连通设置有多组进液口，支撑环外侧壁与放置腔内侧壁中央区域连接，支撑环顶侧壁上设置有陶瓷盘，盛放箱顶侧壁上设置有钢丝绳；还包括第一锥齿轮、第二锥齿轮、底座、支撑杆、把手、旋转杆、转动杆、螺纹杆、上过渡杆、下过渡杆、限位杆、竖杆、滑动杆和三组滚珠，所述底座顶侧壁设置有放置槽，放置槽处设置有第一滚珠轴承，所述旋转杆底端插入第一滚珠轴承内部并且与第一滚珠轴承键连接，支撑杆上半区域设置有放置孔，放置孔处设置有第二滚珠轴承，所述转动杆穿过第二滚珠轴承并且与第二滚珠轴承键连接，转动杆左端和右端分别与把手右侧壁和第一锥齿轮左侧壁中央区域连接，旋转杆顶端穿过第二锥齿轮并且与第二锥齿轮键连接，第一锥齿轮与第二锥齿轮咬合，竖杆底端与旋转杆顶端连接，竖杆右侧壁设置有滑动槽，滑动槽内底侧壁设置有下卡槽，滑动槽内顶侧壁设置有上卡槽，并且上卡槽与竖杆顶侧壁连通，上卡槽和下卡槽处分别设置有第三滚珠轴承和第四滚珠轴承，下过渡杆底端插入第四滚珠轴承内部并且与第四滚珠轴承键连接，上过渡杆顶端穿过第三滚珠轴承并且与第三滚珠轴承键连接，滑动杆左半区域设置有调节孔和限位孔，所述螺纹杆螺装穿过调节孔并且螺纹杆顶端和底端分别与上过渡杆底端和下过渡杆顶端连接，所述限位杆穿过限位孔并且限位杆顶端和底端分别与滑动槽内顶侧壁和内底侧壁连接，滑动杆底侧壁右半区域设置有吊钩，所述钢丝绳穿过吊钩，上过渡杆顶端设置有电机，移动杆左侧壁设置有右弧形槽，滑动槽内左侧壁设置有左弧形槽，所述三组滚珠大部分区域均位于右弧形槽内部，三组滚珠左端均插入左弧形槽内部；还包括挤压板、支撑板、弹簧和移动杆，所述盛放槽右侧壁上半区域连通设置有观察口，观察口处设置有透明板，所述支撑板右侧壁与盛放槽内右侧壁上半区域连接，支撑板设置有升降孔，所述移动杆顶端穿过升降孔和弹簧然后与挤压板底侧壁中央区域连接，弹簧顶端和底端分别与挤压板底侧壁和支撑板顶侧壁接触，移动杆右侧壁下半区域设置有多组刷毛。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括限位板，所述限位板设置有三组防脱孔，限位板位于右弧形槽内部，三组滚珠左端分别穿过三组防脱孔。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括稳定杆，稳定杆设置有稳定孔，稳定孔处设置有第五滚珠轴承，所述转动杆穿过第五滚珠轴承并且与第五滚珠轴承键连接。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括三组延长杆和转环，所述三组延长杆两端分别与把手外侧壁和转环内侧壁连接。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，所述移动杆和升降孔横向截面形状为相同的四边形。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，所述盛放槽右侧壁连通设置有出液管，出液管上设置有出液阀。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，所述挤压板顶侧壁上设置有软垫。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括锁紧环，锁紧环内侧壁上设置有内螺纹，所述转动杆外侧壁上部分设置有外螺纹，锁紧环螺装至转动杆上，锁紧环与支撑杆接触。

与现有技术相比本实用新型的有益效果为：支撑杆和底座底端与地面连接，在第一滚珠轴承的作用下，第二锥齿轮、旋转杆和竖杆可转动，旋转把手，在第二滚珠轴承的作用下，转动杆和第一锥齿轮可转动，第一锥齿轮和第二锥齿轮咬合，旋转把手使竖杆转动，将电机通电并且电机可正转和反转，在第三滚珠轴承和第四滚珠轴承的作用下，上过渡杆、下过渡杆和螺纹杆均可自转，螺纹杆螺装穿过滑动杆，三组滚珠进一步限定滑动杆的移动轨迹并且减小摩擦力，电机转动带动滑动杆上下移动，吊环勾住钢丝绳，使用者操作电机通过钢丝绳对盛放箱进行高度调节，使盛放箱出入盛放槽内部，支撑环将陶瓷盘支撑起来，陶瓷盘顶侧壁设有蜡，蜡上设有晶片，盛放箱下落进入去蜡液，去蜡液沿多组进液口进入盛放箱内部，去蜡液将蜡去除，使陶瓷盘与晶片分离，然后使盛放箱向上移动脱离去蜡液，盛放箱内底部去蜡液和蜡沿多组进液口脱离盛放箱，盛放箱上升至一定高度后，旋转把手使盛放箱旋转至合适角度，然后操作电机使盛放箱下落，下落至合适高度后对陶瓷盘和晶片进行分拣分离，利用机械机构完成高度调节，降低成本，降低使用局限性；操作电机使盛放箱底端位于透明板处，通过透明板观察盛放箱去蜡液滴落情况，支撑板与盛放槽固定连接，手动按压挤压板使刷毛将透明板上杂物去除，更有利于观察，松开挤压板后，在弹簧弹力作用下，刷毛和移动杆恢复至初始位置，便于判断去蜡液是否完全脱离盛放箱，提高使用便捷性。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1中A部的局部放大图；

图3是图1中B部的局部放大图；

图4是把手、延长杆和转环的连接示意左视图；

附图中标记：1、盛放槽；2、盛放箱；3、支撑环；4、陶瓷盘；5、钢丝绳；6、第一锥齿轮；7、第二锥齿轮；8、底座；9、支撑杆；10、把手；11、旋转杆；12、转动杆；13、螺纹杆；14、上过渡杆；15、下过渡杆；16、限位杆；17、竖杆；18、滑动杆；19、滚珠；20、第一滚珠轴承；21、第二滚珠轴承；22、第三滚珠轴承；23、第四滚珠轴承；24、电机；25、挤压板；26、支撑板；27、弹簧；28、移动杆；29、透明板；30、刷毛；31、限位板；32、稳定杆；33、延长杆；34、转环；35、出液管；36、锁紧环。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

如图1至图4所示，本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，包括盛放槽1、盛放箱2和支撑环3，盛放槽1内部设置有盛放腔，盛放槽1顶侧壁连通设置有盛放口，盛放腔内部设置有下蜡液，盛放箱2内部设置有放置腔，盛放箱2顶侧壁连通设置有放置口，盛放箱2外侧壁和底侧壁连通设置有多组进液口，支撑环3外侧壁与放置腔内侧壁中央区域连接，支撑环3顶侧壁上设置有陶瓷盘4，盛放箱2顶侧壁上设置有钢丝绳5；还包括第一锥齿轮6、第二锥齿轮7、底座8、支撑杆9、把手10、旋转杆11、转动杆12、螺纹杆13、上过渡杆14、下过渡杆15、限位杆16、竖杆17、滑动杆18和三组滚珠19，底座8顶侧壁设置有放置槽，放置槽处设置有第一滚珠轴承20，旋转杆11底端插入第一滚珠轴承20内部并且与第一滚珠轴承20键连接，支撑杆9上半区域设置有放置孔，放置孔处设置有第二滚珠轴承21，转动杆12穿过第二滚珠轴承21并且与第二滚珠轴承21键连接，转动杆12左端和右端分别与把手10右侧壁和第一锥齿轮6左侧壁中央区域连接，旋转杆11顶端穿过第二锥齿轮7并且与第二锥齿轮7键连接，第一锥齿轮6与第二锥齿轮7咬合，竖杆17底端与旋转杆11顶端连接，竖杆17右侧壁设置有滑动槽，滑动槽内底侧壁设置有下卡槽，滑动槽内顶侧壁设置有上卡槽，并且上卡槽与竖杆17顶侧壁连通，上卡槽和下卡槽处分别设置有第三滚珠轴承22和第四滚珠轴承23，下过渡杆15底端插入第四滚珠轴承23内部并且与第四滚珠轴承23键连接，上过渡杆14顶端穿过第三滚珠轴承22并且与第三滚珠轴承22键连接，滑动杆18左半区域设置有调节孔和限位孔，螺纹杆13螺装穿过调节孔并且螺纹杆13顶端和底端分别与上过渡杆14底端和下过渡杆15顶端连接，限位杆16穿过限位孔并且限位杆16顶端和底端分别与滑动槽内顶侧壁和内底侧壁连接，滑动杆18底侧壁右半区域设置有吊钩，钢丝绳5穿过吊钩，上过渡杆14顶端设置有电机24，移动杆28左侧壁设置有右弧形槽，滑动槽内左侧壁设置有左弧形槽，三组滚珠19大部分区域均位于右弧形槽内部，三组滚珠19左端均插入左弧形槽内部；还包括挤压板25、支撑板26、弹簧27和移动杆28，盛放槽1右侧壁上半区域连通设置有观察口，观察口处设置有透明板29，支撑板26右侧壁与盛放槽1内右侧壁上半区域连接，支撑板26设置有升降孔，移动杆28顶端穿过升降孔和弹簧27然后与挤压板25底侧壁中央区域连接，弹簧27顶端和底端分别与挤压板25底侧壁和支撑板26顶侧壁接触，移动杆28右侧壁下半区域设置有多组刷毛30；支撑杆和底座底端与地面连接，在第一滚珠轴承的作用下，第二锥齿轮、旋转杆和竖杆可转动，旋转把手，在第二滚珠轴承的作用下，转动杆和第一锥齿轮可转动，第一锥齿轮和第二锥齿轮咬合，旋转把手使竖杆转动，将电机通电并且电机可正转和反转，在第三滚珠轴承和第四滚珠轴承的作用下，上过渡杆、下过渡杆和螺纹杆均可自转，螺纹杆螺装穿过滑动杆，三组滚珠进一步限定滑动杆的移动轨迹并且减小摩擦力，电机转动带动滑动杆上下移动，吊环勾住钢丝绳，使用者操作电机通过钢丝绳对盛放箱进行高度调节，使盛放箱出入盛放槽内部，支撑环将陶瓷盘支撑起来，陶瓷盘顶侧壁设有蜡，蜡上设有晶片，盛放箱下落进入去蜡液，去蜡液沿多组进液口进入盛放箱内部，去蜡液将蜡去除，使陶瓷盘与晶片分离，然后使盛放箱向上移动脱离去蜡液，盛放箱内底部去蜡液和蜡沿多组进液口脱离盛放箱，盛放箱上升至一定高度后，旋转把手使盛放箱旋转至合适角度，然后操作电机使盛放箱下落，下落至合适高度后对陶瓷盘和晶片进行分拣分离，利用机械机构完成高度调节，降低成本，降低使用局限性；操作电机使盛放箱底端位于透明板处，通过透明板观察盛放箱去蜡液滴落情况，支撑板与盛放槽固定连接，手动按压挤压板使刷毛将透明板上杂物去除，更有利于观察，松开挤压板后，在弹簧弹力作用下，刷毛和移动杆恢复至初始位置，便于判断去蜡液是否完全脱离盛放箱，提高使用便捷性。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括限位板31，限位板31设置有三组防脱孔，限位板31位于右弧形槽内部，三组滚珠19左端分别穿过三组防脱孔；三组防脱孔将三组滚珠之间的距离限定起来，限位板阻碍三组滚珠发生聚集，提高使用稳定性。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括稳定杆32，稳定杆32设置有稳定孔，稳定孔处设置有第五滚珠轴承，转动杆12穿过第五滚珠轴承并且与第五滚珠轴承键连接；稳定杆底端与地面连接，在第五滚珠轴承的作用下，提高转动杆转动时的稳定性。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括三组延长杆33和转环34，三组延长杆33两端分别与把手10外侧壁和转环34内侧壁连接；三组延长杆将转环和把手连接起来，抓住转环来转动把手，延长力臂，提高使用便捷性。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，移动杆28和升降孔横向截面形状为相同的四边形；移动杆和升降孔横向截面形状为相同的四边形，使多组刷毛角度不发生变化，提高使用稳定性。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，盛放槽1右侧壁连通设置有出液管35，出液管35上设置有出液阀；打开出液阀，使盛放槽内部液体沿出液管流出，对盛放槽内部去蜡液定期进行更换，以保证下蜡效果。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，挤压板25顶侧壁上设置有软垫；直接按压挤压板上的软垫，提高使用舒适性。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，还包括锁紧环36，锁紧环36内侧壁上设置有内螺纹，转动杆12外侧壁上部分设置有外螺纹，锁紧环36螺装至转动杆12上，锁紧环36与支撑杆9接触；转动杆上部分设置有外螺纹，使锁紧环与支撑杆紧密接触，阻碍转动杆转动，再次旋转转动杆时，需首先使锁紧环与支撑杆脱离。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，稳定杆、支撑杆和底座底端与地面连接，在第一滚珠轴承的作用下，第二锥齿轮、旋转杆和竖杆可转动，三组延长杆将转环和把手连接起来，抓住转环来转动把手，旋转把手，在第二滚珠轴承和第五滚珠轴承的作用下，转动杆和第一锥齿轮可转动，转动杆上部分设置有外螺纹，使锁紧环与支撑杆紧密接触，阻碍转动杆转动，再次旋转转动杆时，需首先使锁紧环与支撑杆脱离，第一锥齿轮和第二锥齿轮咬合，旋转把手使竖杆转动，将电机通电并且电机可正转和反转，在第三滚珠轴承和第四滚珠轴承的作用下，上过渡杆、下过渡杆和螺纹杆均可自转，螺纹杆螺装穿过滑动杆，三组滚珠进一步限定滑动杆的移动轨迹并且减小摩擦力，三组防脱孔将三组滚珠之间的距离限定起来，限位板阻碍三组滚珠发生聚集，电机转动带动滑动杆上下移动，吊环勾住钢丝绳，使用者操作电机通过钢丝绳对盛放箱进行高度调节，使盛放箱出入盛放槽内部，支撑环将陶瓷盘支撑起来，陶瓷盘顶侧壁设有蜡，蜡上设有晶片，盛放箱下落进入去蜡液，去蜡液沿多组进液口进入盛放箱内部，去蜡液将蜡去除，使陶瓷盘与晶片分离，然后使盛放箱向上移动脱离去蜡液，盛放箱内底部去蜡液和蜡沿多组进液口脱离盛放箱，盛放箱上升至一定高度后，旋转把手使盛放箱旋转至合适角度，然后操作电机使盛放箱下落，下落至合适高度后对陶瓷盘和晶片进行分拣分离，操作电机使盛放箱底端位于透明板处，通过透明板观察盛放箱去蜡液滴落情况，支撑板与盛放槽固定连接，手动按压挤压板上的软垫使刷毛将透明板上杂物去除，移动杆和升降孔横向截面形状为相同的四边形，使多组刷毛角度不发生变化，松开挤压板后，在弹簧弹力作用下，刷毛和移动杆恢复至初始位置，打开出液阀，使盛放槽内部液体沿出液管流出，。

本实用新型的一种碳化硅晶片研磨工艺用的下蜡装置，涉及到的电机为使用者自行购买，使用方法详见其自带的使用说明书。

本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。本实用新型中所述“第一”、“第二”、“第三”以及类似的表述不代表具体的数量及顺序，仅仅是用于名称的区分。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本实用新型的保护范围。

设计图

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设计说明书

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