SIFSIX-3-Ni膜的制备及氢气分离性质

论文摘要

利用（NH4）2SiF6修饰大孔玻璃基底后,在溶剂热条件下制备了SIFSIX-3-Ni膜,并研究了温度和浓度对制备SIFSIX-3-Ni膜的影响.能谱分析（XPS）结果表明大孔玻璃表面引入了氟元素. SIFSIX-3-Ni膜的粉末X射线衍射（PXRD）峰位置和模拟结果一致,表明成功制备出SIFSIX-3-Ni膜.从扫描电子显微镜（SEM）照片中观察到膜连续均匀,厚度约为20μm.热重分析（TGA）结果表明,活化前的膜没有客体分子.单组分测试结果表明,膜的H2, CO2和N2渗透量分别为6.83×10-6, 7.42×10-7和8.89×10-7mol·m-2·s-1·Pa-1, H2/CO2和H2/N2的理想分离比分别为9.20和7.68.在连续测试5 h后, H2, CO2和N2渗透量基本保持不变,表明SIFSIX-3-Ni膜具有很好的稳定性.

论文目录

• 1 实验部分
•   1.1 试剂与仪器
•   1.2 实验过程
•     1.2.1 SIFSIX-3-Ni粉末的制备
•     1.2.2 载体的处理
•     1.2.3 基底表面的修饰
•     1.2.4 不同条件下SIFSIX-3-Ni膜的制备
•     1.2.5 膜的活化
• 2 结果与讨论
•   2.1 SIFSIX-3-Ni粉末的表征
•   2.2 大孔玻璃基底的表征
•   2.3 不同条件下制备的SIFSIX-3-Ni膜的表征
•   2.4 气体分离性能
• 3 结 论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 穆鑫,姜双双,张舒皓,任浩,孙福兴

关键词: 多晶膜,原位生长法,氢气分离

来源: 高等学校化学学报 2019年09期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 无机化工,有机化工,工业通用技术及设备

单位: 吉林大学化学学院无机合成与制备化学国家重点实验室

基金: 国家自然科学基金(批准号:21871105,21531003)资助~~

分类号: TQ028.8;TQ116.2

页码: 1818-1824

总页数: 7

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