蚀刻方法论文_王元荪

导读:本文包含了蚀刻方法论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:废液,酸性,离子,径迹,氯化铜,铀矿,硫酸铵。

蚀刻方法论文文献综述

王元荪^[1]（2019）在《电路板酸性蚀刻液电解再生盐酸的方法》一文中研究指出专利申请号:CN201710310370公开号:CN108796545A申请日:2017.05.05公开日:2018.11.13申请人:深圳市憬泰晖科技有限公司本发明涉及一种电路板酸性蚀刻液电解再生盐酸的方法,其特征在于:在电解槽中,阳离子交换膜采用氟磺酸阳离子交换膜,阳极液采用质量比为5%∶15%的硫酸或者质量比(本文来源于《再生资源与循环经济》期刊2019年05期）

^[2]（2019）在《光电含钼蚀刻废液再利用处理方法》一文中研究指出专利申请号:CN201510397109. 8公开号:CN105254095A申请日:2015. 07. 08公开日:2016. 01. 20申请人:中国台湾华钼实业股份有限公司本发明涉及一种光电含钼蚀刻废液再利用处理方法,是将含钼蚀刻废液中的钼离子吸附于阴离子交换树脂内饱和之后进行分离解析作业,所得的分离液含高浓度钼金属离子再利用回收处理,采用的(本文来源于《中国钼业》期刊2019年02期）

^[3]（2018）在《光电含钼蚀刻废液再利用处理方法》一文中研究指出专利申请号:CN201510397109.8公开号:CN105254095A申请日:2015.07.08公开日:2016.01.20申请人:中国台湾华钼实业股份有限公司本发明涉及一种光电含钼蚀刻废液再利用处理方法,是将含钼蚀刻废液中的钼离子吸附于阴离子交换树脂内饱和之后进行分离解析作业,所得的分离液含高浓度钼金属离子再利用回收处理,采用的制程技术包含纯化、除杂、晶析、锻烧等程序制成高纯度及高溶解度触媒级氧化钼、高纯精钼酸、高纯度钼酸钠及钼酸铵等钼盐类产品并将光电产业含钼蚀(本文来源于《中国钼业》期刊2018年02期）

陈水晶^[4]（2017）在《过硫酸铵微蚀刻废液电化学再生方法研究》一文中研究指出随着电子行业的不断发展,微蚀刻废液造成的污染越来越严重。近年来,研究人员对微蚀刻废液的处理方法进行了大量研究,其中电化学再生技术逐渐发展起来,这种方法的优点是节能,污染小,成本低,可以使废液再生。所以本课题将研究使用电化学法来再生过硫酸铵微蚀刻废液。本课题使用电化学法来再生过硫酸铵微蚀刻废液,并重新应用于蚀刻生产中。使用阴极材料将废液中的铜离子降低至5 g/L和使用阳极材料将过硫酸铵升高至120 g/L,满足蚀刻要求,其中通过优化电解条件,探索去除铜离子和再生过硫酸铵的电解时间和最高电流效率。考察多次循环再生蚀刻时,不同循环次数时再生蚀刻废液的蚀刻速率和阴阳极电流效率的变化情况。通过阳离子膜实现同步再生,并对电流密度的优化与蚀刻,比较阴阳极的同步与不同步时各自电流效率。考察使用阴极在不同的电解条件下将废液中的铜离子降低至5 g/L,通过测定铜离子浓度,并比较电解时的电流效率来选择优化条件。最优条件:阴极材料选择铜片,阳极材料选择钛网,过硫酸铵的投加浓度为20 g/L,硫酸铵的投加浓度为98.75 g/L,铜离子的浓度为25 g/L,电流密度为66 m A/cm2,硫酸的体积分数为3%,电解6 h,将废液中的铜离子降低至5 g/L,电流效率可以维持在55%~80%。考察使用阳极在不同的电解条件下将废液中的过硫酸铵升高至120 g/L左右,通过测定过硫酸铵浓度,并比较电解时的电流效率来选择优化条件。最优条件:温度为低温(17°C左右),硫酸铵的投加浓度为140 g/L,KSCN的投加浓度为1.6 g/L,铜离子的投加浓度为5 g/L,硫酸的体积分数为3%,电流密度为300 m A/cm2,有阳离子隔膜Nafion117,电解7 h,过硫酸铵的浓度可以升高至120 g/L左右,电流效率可以维持在50%~75%。多次循环再生蚀刻,在阴极电解法去除铜的最佳条件下将铜离子降低至5 g/L,接着在膜电解法阳极原位产过硫酸铵的最佳条件下将过硫酸铵浓度升高至120 g/L左右,电解完,阴阳极电流效率分别可以维持在55%~90%和40%~70%,然后再用于蚀刻铜片,通过测定蚀刻速率来评价再生蚀刻液的蚀刻效果,经过蚀刻后,可以观察铜片表面明显变粗糙,但随着循环次数的增加,再生效果会变差。同步再生蚀刻,通过隔膜将阴极槽和阳极槽隔开,在阴极电解法去除铜和膜电解法阳极原位产过硫酸铵的最佳条件下,实现阴阳极同步利用,同步时阴极电解法去除铜的电流效率要比不同步时高,而膜电解法阳极原位产过硫酸铵时,同步的电流效率与不同步时相差不大。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2017-12-01）

寸小妮,张洪深^[5]（2015）在《α径迹蚀刻方法及其在砂岩型铀矿中的应用——以HJQ砂岩型铀矿为例》一文中研究指出α径迹蚀刻法是用感光胶片的片基记录放射性元素衰变产生的α粒子所造成的辐射损伤,经化学蚀刻扩大径迹的方法,多应用于铀矿研究,可简便有效地寻找岩石和矿石中颗粒细小的铀矿物并研究铀的分布状况、存在形式等,具有简单易行,灵明度高等优点。以HJQ地区砂岩型铀矿为例,利用α径迹蚀刻法对矿石中铀的分布形式研究,得出铀以分散吸附状态、铀矿物2种形式存在,为研究本地区铀成矿作用具有重要的理论与现实意义。(本文来源于《地下水》期刊2015年05期）

陶栋琦,薄翠梅,易辉^[6]（2015）在《基于多时段MPCA的半导体蚀刻过程监测方法》一文中研究指出针对MPCA方法在具有多时段的间歇过程中的故障监测效果不佳的问题,提出一种新的多时段建模方法,首先根据各时间片上的主元个数不同,对过程进行模糊划分,然后利用K均值算法对样本数据聚类得到精确划分,最后按照划分结果在各阶段建立代表性统计分析模型对整个过程进行监控。将该方法用于半导体蚀刻过程的故障监测,并与MPCA方法进行了比较证明该方法具有良好的监控性能,能够及时准确及时的监测出引起产品质量发生变化的故障。(本文来源于《传感技术学报》期刊2015年06期）

薛克艳^[7]（2015）在《一种利用酸性蚀刻废液制备活性氧化铜粉的方法》一文中研究指出本研究提出了一种利用酸性蚀刻废液制备活性氧化铜粉的方法,主要步骤有除杂、合成碱式氯化铜中间体、氨转生成氢氧化铜、氢氧化铜碱转生成氧化铜、水洗、烘干、煅烧,合成的氧化铜粉的Cu O%大于99.0%,具有较低的杂质含量和较快的溶解速率(小于30 s)。(本文来源于《广东化工》期刊2015年03期）

韩福勇,吴阳东,王永成^[8]（2014）在《PCB酸蚀刻废液制备电镀级硫酸铜方法研究》一文中研究指出研究了利用除杂后酸蚀刻废液与混合碱液反应制备氧化铜,然后利用氧化铜制备电镀级硫酸铜的工艺,探讨了pH和温度对合成氧化铜的影响,pH值和降温时间对硫酸铜产品的影响。在最佳工艺条件下制备出符合行标(HG/T3592-2010)电镀级硫酸铜优等品要求的产品。(本文来源于《广东科技》期刊2014年12期）

^[9]（2014）在《OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法》一文中研究指出专利申请号:CN201110316299.8公开号:CN102392248A申请日:2011.10.18公开日:2012.03.28申请人:绵阳艾萨斯电子材料有限公司本发明公开了一种OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法。该蚀刻液,包括硝酸水溶液、磷酸水溶液、甜菜碱两性表面活性剂和水。其(本文来源于《中国钼业》期刊2014年02期）

刘东,罗红军,朱拓^[10]（2014）在《碱性蚀刻线产能倍增方法的研究和实施》一文中研究指出随着人工、物料等各方面成本的不断攀升,如何降低印制电路板的制造成本升级成为各工厂的头等大事。本文以碱性蚀刻线的产能提升为例,从原料、设备、参数、流程等方面的优化出发,寻求提高产量,降低人工、水、电、房租等固定成本分摊的方法,经过实施优化措施,使得碱性蚀刻线的产能提升一倍左右,综合运作成本大幅下降。(本文来源于《印制电路信息》期刊2014年04期）

蚀刻方法论文开题报告

（1）论文研究背景及目的

此处内容要求：

首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。

写法范例：

专利申请号:CN201510397109. 8公开号:CN105254095A申请日:2015. 07. 08公开日:2016. 01. 20申请人:中国台湾华钼实业股份有限公司本发明涉及一种光电含钼蚀刻废液再利用处理方法,是将含钼蚀刻废液中的钼离子吸附于阴离子交换树脂内饱和之后进行分离解析作业,所得的分离液含高浓度钼金属离子再利用回收处理,采用的

（2）本文研究方法

调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。

观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。

实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。

文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。

实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。

定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。

定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。

跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。

功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。

模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。

蚀刻方法论文参考文献

[1].王元荪.电路板酸性蚀刻液电解再生盐酸的方法[J].再生资源与循环经济.2019

[2]..光电含钼蚀刻废液再利用处理方法[J].中国钼业.2019

[3]..光电含钼蚀刻废液再利用处理方法[J].中国钼业.2018

[4].陈水晶.过硫酸铵微蚀刻废液电化学再生方法研究[D].哈尔滨工业大学.2017

[5].寸小妮,张洪深.α径迹蚀刻方法及其在砂岩型铀矿中的应用——以HJQ砂岩型铀矿为例[J].地下水.2015

[6].陶栋琦,薄翠梅,易辉.基于多时段MPCA的半导体蚀刻过程监测方法[J].传感技术学报.2015

[7].薛克艳.一种利用酸性蚀刻废液制备活性氧化铜粉的方法[J].广东化工.2015

[8].韩福勇,吴阳东,王永成.PCB酸蚀刻废液制备电镀级硫酸铜方法研究[J].广东科技.2014

[9]..OLED用含钼和/或铝金属膜的蚀刻液及其制备方法[J].中国钼业.2014

[10].刘东,罗红军,朱拓.碱性蚀刻线产能倍增方法的研究和实施[J].印制电路信息.2014

论文知识图

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