论文摘要
本文采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势和局域密度近似方法,优化了立方和六方氮化硼的几何结构,系统地研究了零温高压下立方和六方氮化硼的几何结构、力学、电学以及光学性质.结构与力学性质研究表明:立方氮化硼的结构更加稳定,两种结构的氮化硼均表现出一定的脆性,而六方氮化硼的热稳定性则相对较差;电学性质研究表明:立方氮化硼和六方氮化硼均为间接带隙半导体,且立方氮化硼比六方氮化硼局域性更强;光学性质结果显示:立方氮化硼和六方氮化硼对入射光的通过性都很好,在高能区立方氮化硼对入射光的表现更加敏感.此外,还研究了高温高压下立方氮化硼的热力学性质,并得到其热膨胀系数、热容、德拜温度和格林艾森系数随温度和压力的变化关系.本文的理论研究阐述了高压下立方氮化硼和六方氮化硼的相关性质,为今后的实验研究提供了比较可靠的理论依据.
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 吕常伟,王臣菊,顾建兵
关键词: 氮化硼,电子结构,弹性性质,光学性质
来源: 物理学报 2019年07期
年度: 2019
分类: 基础科学
专业: 物理学
单位: 中原工学院材料与化工学院,河南理工大学计算机科学与技术学院
基金: 国家自然科学基金(批准号:11747062,11747110),河南省教育厅科技攻关项目(批准号:172102210072),河南省高等院校重点科研项目(批准号:17A140014)资助的课题~~
分类号: O469
页码: 238-252
总页数: 15
文件大小: 3306K
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