全文摘要
本申请提供了一种掩膜板、显示背板、显示面板和显示装置，掩膜板用于显示背板的膜层蒸镀，掩膜板包括第一区域和第二区域；第一区域的位置与显示背板的第一像素密度区域的位置对应；第二区域的位置与显示背板的第二像素密度区域的位置对应；第一像素密度区域的像素密度大于第二像素密度区域的像素密度，第二区域包括遮挡区和开口区，遮挡区的位置与不需要蒸镀膜层的位置对应设置。采用本申请实施例的掩膜板进行膜层蒸镀时，可以在较低像素密度的区域蒸镀出膜层厚度较薄的膜层，能够提高显示区局部位置的透光率，提升全面屏产品特性和视觉体验。
主设计要求
1.一种掩膜板，用于显示背板的膜层蒸镀，其特征在于，包括第一区域和第二区域；所述第一区域在所述显示背板的正投影区域与所述显示背板的第一像素密度区域重叠；所述第二区域在所述显示背板的正投影区域与所述显示背板的第二像素密度区域重叠；所述第一像素密度区域的像素密度大于所述第二像素密度区域的像素密度；所述第二区域包括遮挡区和开口区，所述遮挡区的位置与不需要蒸镀膜层的位置对应设置。
设计方案
1.一种掩膜板，用于显示背板的膜层蒸镀，其特征在于，包括第一区域和第二区域；
所述第一区域在所述显示背板的正投影区域与所述显示背板的第一像素密度区域重叠；
所述第二区域在所述显示背板的正投影区域与所述显示背板的第二像素密度区域重叠；
所述第一像素密度区域的像素密度大于所述第二像素密度区域的像素密度；
所述第二区域包括遮挡区和开口区，所述遮挡区的位置与不需要蒸镀膜层的位置对应设置。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一区域为完全开口区。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述显示背板包括第一功能区和第二功能区，所述第一功能区的位置与红外传感器的设置位置对应，所述第二功能区的位置与摄像头的设置位置对应；
所述开口区包括第一开口区和第二开口区，所述遮挡区包括第一遮挡区和第二遮挡区；
所述第一遮挡区的位置与所述摄像头的位置对应，所述第一开口区的位置与所述红外传感器的位置对应。
4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述第二开口区包括沿第一方向延伸的若干第二开口子区，所述第二遮挡区包括沿第一方向延伸的若干第二遮挡子区；
在第二方向上，所述第二开口子区与所述第二遮挡子区交替分布；所述第一方向与所述第二方向交叉设置。
5.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述开口区包括若干开口子区，所述遮挡区包括第一遮挡区和第二遮挡区，所述第一遮挡区的位置与摄像头的位置对应，所述第二遮挡区包括若干第二遮挡子区；
所述开口子区的位置与像素区的位置对应，相邻所述开口子区之间设置有所述第二遮挡子区。
6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，若干所述开口子区按照矩阵排列方式分布，相邻两行所述开口子区之间设置有一行所述第二遮挡子区，相邻两列所述开口子区之间设置有一列所述第二遮挡子区。
7.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，每一所述开口子区的面积大于对应位置处的所述像素区的面积。
8.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述开口子区的形状为正方形。
9.一种显示背板，其特征在于，包括衬底基板、位于所述衬底基板上的电极层，所述电极层采用如权利要求1-8任一项所述的掩膜板制作形成。
10.根据权利要求9所述的显示背板，其特征在于，所述电极层包括第三区域和第四区域，所述第三区域的位置与所述第一区域的位置对应，所述第四区域的位置与所述第二区域的位置对应；
所述显示背板包括第一功能区，所述第一功能区的位置与红外传感器的设置位置对应；
所述第四区域对应位置处的所述电极层包括第一电极层和第二电极层，所述第一电极层的位置与所述红外传感器的位置对应。
11.根据权利要求10所述的显示背板，其特征在于，所述第二电极层包括沿第一方向延伸的若干第二子电极层，在第二方向上，所述第二子电极层间断分布。
12.根据权利要求10所述的显示背板，其特征在于，所述第二电极层包括矩阵排列的若干第二子电极层，所述第二子电极层的位置与像素区的位置对应。
13.根据权利要求12所述的显示背板，其特征在于，还包括辅助电极，所述辅助电极位于所述电极层靠近所述衬底基板一侧；
每一所述第二子电极层的面积大于对应位置处的所述像素区的面积，相邻的所述第二子电极层通过所述辅助电极导通。
14.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求9-13任一项所述的显示背板。
15.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求14所述的显示面板。
设计说明书
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板、显示背板、显示面板和显示装置。
背景技术
全面屏手机追求视觉上的极致体验，但受限于摄像头及红外传感器设置，全面屏手机发展至今也有一些技术难题，如内置于全面屏显示区内的红外传感器位置处也要正常显示，所以红外传感器位置处存在蒸镀材料，而蒸镀材料会降低透光率，尤其是阴极材料对透光率影响很大，从而会影响红外传感器正常工作。
综上所述，目前全面屏手机红外传感器位置处透光率较低，用户的视觉体验效果较差。
实用新型内容
有鉴于此，本申请的目的旨在提供一种防窥膜及其制作方法、显示模组，用以提高全面屏局部位置的透光率，提升产品特性和视觉体验。
为了实现上述目的，本申请提供以下技术方案：
第一方面，提供一种掩膜板，用于显示背板的膜层蒸镀，包括第一区域和第二区域；
所述第一区域在所述显示背板的正投影区域与所述显示背板的第一像素密度区域重叠；
所述第二区域在所述显示背板的正投影区域与所述显示背板的第二像素密度区域重叠；
所述第一像素密度区域的像素密度大于所述第二像素密度区域的像素密度；
所述第二区域包括遮挡区和开口区，所述遮挡区的位置与不需要蒸镀膜层的位置对应设置。
可选地，所述第一区域为完全开口区。
可选地，所述显示背板包括第一功能区和第二功能区，所述第一功能区的位置与红外传感器的设置位置对应，所述第二功能区的位置与摄像头的设置位置对应；
所述开口区包括第一开口区和第二开口区，所述遮挡区包括第一遮挡区和第二遮挡区；
所述第一遮挡区的位置与所述摄像头的位置对应，所述第一开口区的位置与所述红外传感器的位置对应。
可选地，所述第二开口区包括沿第一方向延伸的若干第二开口子区，所述第二遮挡区包括沿第一方向延伸的若干第二遮挡子区；
在第二方向上，所述第二开口子区与所述第二遮挡子区交替分布；所述第一方向与所述第二方向交叉设置。
可选地，所述开口区包括若干开口子区，所述遮挡区包括第一遮挡区和第二遮挡区，所述第一遮挡区的位置与摄像头的位置对应，所述第二遮挡区包括若干第二遮挡子区；
所述开口子区的位置与像素区的位置对应，相邻所述开口子区之间设置有所述第二遮挡子区。
可选地，若干所述开口子区按照矩阵排列方式分布，相邻两行所述开口子区之间设置有一行所述第二遮挡子区，相邻两列所述开口子区之间设置有一列所述第二遮挡子区。
可选地，每一所述开口子区的面积大于对应位置处的所述像素区的面积。
可选地，所述开口子区的形状为正方形。
第二方面，提供一种显示背板，包括衬底基板、位于所述衬底基板上的电极层，所述电极层采用第一方面提供的掩膜板制作形成。
可选地，所述电极层包括第三区域和第四区域，所述第三区域的位置与所述第一区域的位置对应，所述第四区域的位置与所述第二区域的位置对应；
所述显示背板包括第一功能区，所述第一功能区的位置与红外传感器的设置位置对应；
所述第四区域对应位置处的所述电极层包括第一电极层和第二电极层，所述第一电极层的位置与所述红外传感器的位置对应。
可选地，所述第二电极层包括沿第一方向延伸的若干第二子电极层，在第二方向上，所述第二子电极层间断分布。
可选地，所述第二电极层包括矩阵排列的若干第二子电极层，所述第二子电极层的位置与像素区的位置对应。
可选地，显示背板还包括辅助电极，所述辅助电极位于所述电极层靠近所述衬底基板一侧；
每一所述第二子电极层的面积大于对应位置处的所述像素区的面积，相邻的所述第二子电极层通过所述辅助电极导通。
第三方面，提供一种显示面板，包括第二方面提供的显示背板。
第四方面，提供一种显示装置，包括第三面提供的显示面板。
相比于现有技术，本申请的方案具有以下有益效果：
本申请实施例提供的掩膜板包括第一区域和第二区域，第一区域在显示背板的正投影区域与显示背板的第一像素密度区域重叠；第二区域在显示背板的正投影区域与显示背板的第二像素密度区域重叠；第一像素密度区域的像素密度大于第二像素密度区域的像素密度，第二区域包括遮挡区和开口区；与现有技术采用完全开口的掩膜板进行膜层蒸镀相比，由于本申请实施例的掩膜板包括的第二区域包括遮挡区和开口区，而第二区域的位置与较低像素密度的区域对应，因此，采用本申请实施例的掩膜板进行膜层蒸镀时，可以在较低像素密度的区域蒸镀出膜层厚度较薄的膜层，这样能够提高显示区局部位置的透光率，提升全面屏产品特性和视觉体验。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和\/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是现有技术的全面屏手机的结构示意图；
图2是现有技术对全面屏手机进行膜层蒸镀时采用的第一张掩膜板的结构示意图；
图3是现有技术对全面屏手机进行膜层蒸镀时采用的第二张掩膜板的结构示意图；
图4是本申请提供的一种掩膜板的结构示意图；
图5是本申请提供的另一种掩膜板的结构示意图；
图6是图5中区域50的放大图；
图7是图5中区域50的另一放大图；
图8是图7中区域70的放大图；
图9是本申请提供的一种显示背板的结构示意图；
图10是本申请提供的显示背板局部区域放大图。
附图标记说明：
11-低像素密度区；12-高像素密度区；41-第一区域；42-第二区域；421-遮挡区；422-开口区；50-掩膜板第二区域中的局部区域；51-第一开口区；53-第一遮挡区；
521-第二开口子区；541-第二遮挡子区；55-红色亚像素；56-绿色亚像素；57-蓝色亚像素；70-掩膜板第二区域中的另一局部区域；71-开口子区；72-第二遮挡子区；73-像素区；
91-电极层；92-第三区域；93-第四区域；94-未蒸镀电极层的区域；95-辅助电极。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和\/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和\/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”到另一元件时，它可以直接连接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”可以包括无线连接。这里使用的措辞“和\/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本申请的发明人发现，目前解决全面屏手机红外传感器位置处透光率较低的问题，采用的方法是在显示屏显示区上的不同区域设计不同的像素密度，如图1所示，即红外传感器13所在的屏幕上方为低像素密度，对应图中的低像素密度区11，显示屏主体为高像素密度，对应图中的高像素密度区12。在低像素密度区11，由于像素密度低，掩膜板开孔少，间距大，低像素密度区11蒸镀的材料少，有助于提高透光率。低像素密度区11也需要如高像素密度区12一样正常显示时间、电量、信号强度等功能。
本申请的发明人发现，目前实现不同区域设计不同的像素密度的方法是采用两张掩膜板分开蒸镀低像素密度区11和高像素密度区12，以阴极蒸镀为例，如图2所示，先采用第一张掩膜板(该掩膜板为完全开口掩膜板)在低像素密度区11蒸镀一层较薄的阴极材料，在蒸镀的同时将高像素密度区12挡住不蒸镀，待蒸镀完成后，再换第二张掩膜板(该掩膜板为完全开口掩膜板)在高像素密度区12蒸镀一层正常厚度的阴极材料，如图3所示，在蒸镀的同时将低像素密度区11挡住不蒸镀，这样低像素密度区11的蒸镀材料较薄，透光率较高。
本申请的发明人发现，由于阴极所用为点蒸镀源，因此阴影(shadow)现象较为严重，容易在低像素密度区11和高像素密度区12连接区出现较大的shadow，如：高像素密度区12的shadow会覆盖几行低像素密度区11的像素，低像素密度区11的shadow会覆盖几行高像素密度区12的像素，导致低像素密度区11和高像素密度区12膜厚异常，从而造成显示不良。
另外，本申请的发明人发现，采用两张掩膜板分开蒸镀的方法无法遮挡摄像头14区域，而且两张掩膜板对位的要求更高，会增加成本，也会延长蒸镀的工艺时间，降低产能。
为了解决上述问题，本申请实施例提供了一种新的掩膜板设置方式。
下面结合附图介绍本申请实施例的具体技术方案。
如图4所示，本申请实施例提供的掩膜板，用于显示背板的膜层蒸镀，该掩膜板包括第一区域41和第二区域42；第一区域41在显示背板的正投影区域与显示背板的第一像素密度区域重叠；第二区域42在显示背板的正投影区域与显示背板的第二像素密度区域重叠；第一像素密度区域的像素密度大于第二像素密度区域的像素密度，第二区域42包括遮挡区421和开口区422，遮挡区421的位置与不需要蒸镀膜层的位置对应设置。
具体地，本申请实施例中的掩膜板为金属掩膜板，该掩膜板蒸镀的膜层可以为有机发光显示面板的阴极层。
具体地，本申请实施例的掩膜板与显示背板对位时，第一区域41在显示背板上的正投影区域与高像素密度区12完全重叠；第二区域42在显示背板上的正投影区域与低像素密度区11完全重叠，高像素密度区12与低像素密度区11的具体设置与现有技术类似，这里不再赘述。
具体实施时，遮挡区421的位置可以与摄像头的位置对应设置。
本申请实施例提供的掩膜板包括第一区域41和第二区域42，第一区域41在显示背板的正投影区域与显示背板的第一像素密度区域重叠；第二区域42在显示背板的正投影区域与显示背板的第二像素密度区域重叠；第一像素密度区域的像素密度大于第二像素密度区域的像素密度，第二区域42包括遮挡区421和开口区422；与现有技术采用完全开口的掩膜板进行膜层蒸镀相比，由于本申请实施例的掩膜板包括的第二区域42包括遮挡区421和开口区422，而第二区域42的位置与较低像素密度的区域对应，因此，采用本申请实施例的掩膜板进行膜层蒸镀时，可以在较低像素密度的区域蒸镀出膜层厚度较薄的膜层，这样能够提高显示区局部位置的透光率，提升全面屏产品特性和视觉体验。
可选地，如图4所示，掩膜板第一区域41为完全开口区，第二区域42包括遮挡区421和开口区422，由于本申请实施例的掩膜板包括两个不同的区域，与现有技术相比，采用本申请实施例的掩膜板进行膜层蒸镀时，不会在像素密度不同的区域出现阴影现象，且采用一张掩膜板即可完成整个膜层的蒸镀，降低蒸镀的工艺时间，进而提高产能。当然，在实际设计时，根据实际生产的需要，第一区域41也可以设置遮挡区，本申请实施例仅以第一区域41为完全开口区为例介绍。
可选地，显示背板包括第一功能区和第二功能区，第一功能区的位置与红外传感器的设置位置对应，第二功能区的位置与摄像头的设置位置对应，红外传感器和摄像头的具体设置位置可以参考图1所示；开口区422包括第一开口区和第二开口区，遮挡区421包括第一遮挡区和第二遮挡区；第一遮挡区的位置与摄像头的位置对应，第一开口区的位置与红外传感器的位置对应。第一开口区、第二开口区、第一遮挡区和第二遮挡区的具体设置情况在下面进行具体介绍。
在一些实施例中，如图5和图6所示，图6为图5中区域50的放大图，开口区422包括第一开口区51和第二开口区，遮挡区421包括第一遮挡区53和第二遮挡区；第二开口区包括沿第一方向(如图中的水平方向)延伸的若干第二开口子区521，第二遮挡区包括沿第一方向延伸的若干第二遮挡子区541；在第二方向上(如图中的竖直方向)，第二开口子区521与第二遮挡子区541交替分布；第一方向与第二方向交叉设置。
图6中还示出了与第二开口区的位置对应位置处的部分像素结构，包括红色亚像素55、绿色亚像素56和蓝色亚像素57，红色亚像素55、绿色亚像素56和蓝色亚像素57的具体设置方式与现有技术类似，这里不再赘述。
具体实施时，如图6所示，在第二方向上，第二开口子区521的宽度与第二遮挡子区541的宽度相等。
具体实施时，如图5和图6所示，以阴极蒸镀为例，第一区域41为整面蒸镀区，第二区域42为蒸镀减半区，由于第二区域42不完全蒸镀阴极材料，因此第二区域42的透光率得到提升。另外，第一遮挡区53也可以遮挡摄像头区域，避免摄像头位置蒸镀上阴极材料。
在一些实施例中，如图5、图7和图8所示，图7为图5中区域50的另一放大图，图8为图7中区域70的放大图，开口区422包括若干开口子区71，遮挡区421包括第一遮挡区53和第二遮挡区；第一遮挡区53的位置与摄像头的位置对应，第二遮挡区包括若干第二遮挡子区72；开口子区71的位置与像素区73的位置对应，相邻开口子区71之间设置有第二遮挡子区72。具体地，像素区73的具体设置方式(如：像素区的位置和大小)与现有技术类似，这里不再赘述。
可选地，如图7和图8所示，若干开口子区71按照矩阵排列方式分布，相邻两行开口子区71之间设置有一行第二遮挡子区72，相邻两列开口子区71之间设置有一列第二遮挡子区72。
可选地，如图7和图8所示，每一开口子区71的面积大于对应位置处的像素区的面积，这样能够使得相邻开口子区71位置处蒸镀的膜层(如阴极层)能够通过该膜层下方的导电层导通。
可选地，开口子区71的形状为正方形，具体实施时，可以设置所有开口子区71的面积均相等；当然，在实际设计时，开口子区71的形状还可以设置成其它形状，本申请具体实施例并不对开口子区71的具体形状做限定。
具体实施时，如图7和图8所示，这种设置方式仅在像素区对应位置蒸镀阴极，像素区外的区域不蒸镀阴极，能够进一步缩小蒸镀面积，进一步提高显示区局部位置的透光率，能够使得内置于显示区的红外传感器既可以正常工作，又不影响该区域的显示效果，进一步提升产品特性和视觉体验。
基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种显示背板，如图9所示，包括衬底基板(图中未示出)、位于衬底基板上的电极层91，电极层91采用本实用新型实施例提供的上述掩膜板制作形成，具体地，电极层91可以为阴极层。由于显示背板包括的电极层采用本实用新型实施例提供的上述掩膜板制作形成，因此本申请实施例提供的显示背板具有与掩膜板相同的有益效果，这里不再赘述。
可选地，如图9所示，电极层91包括第三区域92和第四区域93，第三区域92的位置与第一区域41的位置对应，第四区域93的位置与第二区域42的位置对应；即采用本申请实施例提供的掩膜板进行制作时，掩膜板与衬底基板对位后，第一区域41的位置与第三区域92的位置对应，第二区域42的位置与第四区域93的位置对应设置。由于本申请实施例提供的掩膜板的第二区域42包括遮挡区，因此，在遮挡区对应位置处不能蒸镀电极层，即图中区域94未蒸镀上电极层。
可选地，显示背板包括第一功能区，第一功能区的位置与红外传感器的设置位置对应，红外传感器的具体设置位置可以参考图1所示；第四区域93对应位置处的电极层91包括第一电极层和第二电极层，第一电极层的位置与红外传感器的位置对应。
在一种可选的实施方式中，第二电极层包括沿第一方向延伸的若干第二子电极层，在第二方向上，第二子电极层间断分布，第二子电极层的具体位置与掩膜板包括的第二开口子区521的位置对应。
在另一种可选的实施方式中，第二电极层包括矩阵排列的若干第二子电极层，第二子电极层的位置与像素区的位置对应，第二子电极层的具体位置与掩膜板包括的开口子区71的位置对应。
可选地，如图10所示，本申请实施例提供的显示背板还包括辅助电极95，辅助电极95位于电极层91靠近衬底基板一侧，即辅助电极95位于电极层91下方，每一第二子电极层(第二子电极层的具体位置与掩膜板包括的开口子区71的位置对应)的面积大于对应位置处的像素区的面积，相邻的第二子电极层通过辅助电极95导通。
具体实施时，辅助电极95可以为设置在衬底基板上，且设置在电极层91下方的阳极层，辅助电极95的部分区域与第二子电极层部分重叠，使得辅助电极95与蒸镀的第二子电极层更好的连接。
具体实施时，辅助电极95可以选择导电性较佳的金属层，也可以选择透光率较好的透明导电层，如：选择氧化铟锡(ITO)。
基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括本申请实施例提供的上述显示背板。由于显示面板包括本申请实施例提供的上述显示背板，因此本申请实施例提供的显示面板具有与显示背板相同的有益效果，这里不再赘述。
基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本申请实施例提供的上述显示面板。
综上所述，本申请提供的一种掩膜板，具有如下有益效果：
第一、本申请实施例提供的掩膜板包括第一区域和第二区域，第一区域在显示背板的正投影区域与显示背板的第一像素密度区域重叠；第二区域在显示背板的正投影区域与显示背板的第二像素密度区域重叠；第一像素密度区域的像素密度大于第二像素密度区域的像素密度，第二区域包括遮挡区和开口区；与现有技术采用完全开口的掩膜板进行膜层蒸镀相比，由于本申请实施例的掩膜板包括的第二区域包括遮挡区和开口区，而第二区域的位置与较低像素密度的区域对应，因此，采用本申请实施例的掩膜板进行膜层蒸镀时，可以在较低像素密度的区域蒸镀出膜层厚度较薄的膜层，这样能够提高显示区局部位置的透光率，提升全面屏产品特性和视觉体验。
第二、本申请实施例提供的掩膜板第一区域为完全开口区，第二区域包括遮挡区和开口区，由于本申请实施例的掩膜板包括两个不同的区域，与现有技术相比，采用本申请实施例的掩膜板进行膜层蒸镀时，不会在像素密度不同的区域出现阴影现象，且采用一张掩膜板即可完成整个膜层的蒸镀，降低蒸镀的工艺时间，进而提高产能。
以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920300753.2
申请日:2019-03-08
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:11(北京)
授权编号:CN209232823U
授权时间:20190809
主分类号:H01L 51/52
专利分类号:H01L51/52;H01L27/32;C23C14/04
范畴分类:38F;
申请人:京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
第一申请人:京东方科技集团股份有限公司
申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
发明人:杜森;吴建鹏;嵇凤丽
第一发明人:杜森
当前权利人:京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
代理人:张筱宁
代理机构:11330
代理机构编号:北京市立方律师事务所
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计