论文摘要
目的提高铜互连扩散阻挡层的失效温度。方法采用磁控溅射方法制备了不同氮气流量下的Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系,使用真空退火炉对Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系分别进行600、700、800、900℃的真空退火,并利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)以及透射电子显微镜(TEM)等表征手段对薄膜的组织结构、三维形貌等进行表征。结果不通入氮气时,高熵合金薄膜为非晶状态。随着氮气流量的增加,薄膜的结晶性越来越好,薄膜为FCC结构。随着氮气流量的增加,高熵合金薄膜表面粗糙度呈现下降的趋势,在氮气流量为20%时,高熵合金氮化物薄膜的致密性最好。Cu/AlCrTaTiZrN20/Si薄膜体系的扩散阻挡层结构主要为非晶包裹的纳米晶结构。薄膜在800℃退火后,没有Cu-Si化合物存在,薄膜方阻为0.0937Ω/□;在900℃退火后,Cu/AlCrTaTiZrN20/Si薄膜体系中Si基体部分出现不规则五边形状的大颗晶粒Cu-Si化合物。结论 Al CrTaTiZrNx高熵合金氮化物薄膜的扩散阻挡性能随着氮气流量的增加,呈现先增加后降低的趋势。在氮气流量为20%时,高熵合金氮化物薄膜的扩散阻挡性能最优,800℃高温退火后仍发挥阻挡作用。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 蒋春霞,李荣斌,王馨,聂朝阳,居健
关键词: 高熵合金,退火,热稳定性,扩散阻挡性能,磁控溅射
来源: 表面技术 2019年10期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺
单位: 上海电机学院材料学院,上海电机学院上海大件热制造工程技术研究中心
基金: 国家自然科学基金(51671125),上海闵行领军人才计划~~
分类号: TG174.4;TG139
DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.10.020
页码: 163-171
总页数: 9
文件大小: 2231K
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