电子级多晶硅生产关键工艺控制

电子级多晶硅生产关键工艺控制

论文摘要

围绕生产电子级多晶硅关键工艺控制各环节,研究了如何生产出高品质电子级多晶硅产品。

论文目录

  • 1 电子级多晶硅制备技术
  •   1.1 改良西门子法
  •   1.2 硅烷CVD法
  • 2 电子级多晶硅生产关键工艺要点
  •   2.1 原辅料
  •     2.1.1 三氯氢硅(TCS)
  •     2.1.2 氢气(H2)
  •     2.1.3 氮气(N2)
  •     2.1.4 硅芯
  •     2.1.5 其它备件
  •   2.2 硬件设施
  •   2.3 还原工艺
  •   2.4 其它关键控制环节
  • 3 结语
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 马启坤,赵桂洁,张健雄

    关键词: 电子级,多晶硅,生产工艺

    来源: 云南冶金 2019年04期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,信息科技

    专业: 无机化工,无线电电子学

    单位: 昆明冶金研究院,云南省选冶新技术重点实验室,云南省光电子硅材料制备技术企业重点实验室

    分类号: TN304;TQ127.2

    页码: 76-78

    总页数: 3

    文件大小: 1278K

    下载量: 137

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