全文摘要
本实用新型公开了一种磁控溅射门防下垂辅助装置，涉及防下垂技术领域，包括连接体、辅助装置。连接体左端具有调整体，连接体右端固定在磁控溅射门上。辅助装置固定在磁控溅射设备上，连接体与辅助装置位于相对方向，调整体位于辅助装置内，辅助装置与调整体具有一定间隙，辅助说装置包括复位件，复位件具有导向面，复位件为刚性材料，复位件位于调整体一侧，复位件为弧形。本实用新型在打开或关闭磁控溅射门过程中，使得调整体刚性接触复位件对磁控溅射门进行复位，达到保证金属腔体的密封性的目的。其中，调整体和复位件接触过程极为短暂，只有在磁控溅射门密封时才进行接触，极大减小了调整体和复位件的摩擦，有利于长时间保证金属腔体密封性。
主设计要求
1.磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，包括：连接体，所述连接体一端具有调整体，所述连接体另一端固定在磁控溅射门上；辅助装置，所述调整体位于所述辅助装置内，所述辅助装置与所述调整体具有一定间隙，所述辅助装置包括：复位件，所述复位件具有导向面，所述复位件位于所述调整体一侧。
设计方案
1.磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，包括：
连接体，所述连接体一端具有调整体，所述连接体另一端固定在磁控溅射门上；
辅助装置，所述调整体位于所述辅助装置内，所述辅助装置与所述调整体具有一定间隙，所述辅助装置包括：
复位件，所述复位件具有导向面，所述复位件位于所述调整体一侧。
2.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述连接体为圆柱体。
3.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述调整体为半圆柱体。
4.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中,所述复位件包括：
导柱；
支撑环，所述支撑环连接所述导柱一端；
导向环，所述导向环连接所述导柱另一端。
5.根据权利要求4所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中,所述导柱为圆柱体，所述支撑环与所述导向环均为弧形，所述支撑环的弧度与所述导向环的弧度相同。
6.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述辅助装置还包括：
弹性体，所述弹性体连接所述复位件，所述复位件还包括：
施力柱，所述施力柱一端具有斜面，所述斜面向所述弹性体回缩方向倾斜；通孔，所述通孔连通外界，所述通孔中具有：
受力柱，所述受力柱与所述施力柱的斜面一端相互贴合。
7.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述辅助装置还包括：
活动件，所述活动件位于所述辅助装置外表面。
8.根据权利要求6所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述受力柱与所述施力柱均为圆柱体。
9.根据权利要求1所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述辅助装置还包括：
延伸体，所述延伸体具有滑移槽；
杠杆，所述杠杆一端穿过所述滑移槽，穿过所述滑移槽的所述杠杆一端具有导向体，所述导向体具有斜边，所述杠杆另一端具有挡面；
支柱，所述支柱活动连接所述杠杆。
10.根据权利要求9所述磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，所述磁控溅射门防下垂辅助装置还包括:
导向坡；
示警件，所述示警件位于所述导向坡上，所述示警件一端贴合所述挡面。
11.一种磁控溅射门，其特征在于，具有上述权利要求1-10的防下垂辅助装置。
12.一种磁控溅射设备，其特征在于，具有上述权利要求11的磁控溅射门。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及防下垂技术领域，特别涉及一种磁控溅射门防下垂辅助装置。
背景技术
磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。
各种磁控溅射镀膜工艺都必须在真空室中进行(密闭金属腔体抽真空),密闭金属腔体真空度一般需达10-3<\/sup>Pa～10-5<\/sup>Pa，有的镀膜工艺甚至可能有更高的真空度要求。因此，金属腔体的密封性就显得至关重要。
目前，采用的磁控溅射门材料皆有金属制成，如图1所示，磁控溅射门2具有较重的重量，磁控溅射门2一侧通过铰链3连接到固定体1上，因此，磁控溅射门2大部分重量是向着侧下方，同时迫使铰链3向下。在经过较长一段时间使用开关门后，如图2所示，磁控溅射门2会和固定体1倾向下垂形成V形，从而无法保证磁控溅射门2关上后不影响金属腔体的密封性。
如公告号CN 103343325B的中国专利，公开了一种“磁控溅射门防下垂装置”，包括：支撑块，所述支撑块内部开有台阶孔，所述支撑块上端面靠右侧有一段斜面。使用时，将支撑块固定在磁控溅射室的墙体上。关闭磁控溅射门时，磁控溅射门下端沿着斜面向上移动，从而使门恢复到原来位置，达到密封效果。该技术方案虽然解决了磁控溅射门下垂的问题，但因门(未关闭的门还是处于下垂状态)的重量以及当磁控溅射门高度高于人的手时，人抬手关门使用的力是向下的，这就导致磁控溅射门的下端和斜面需承受很大的压力，在使用一小段时间后，就会导致斜面磨损，甚至导致磁控溅射门磨损。无法保证门在使用一段时间后，磁控溅射门关闭时不影响金属腔体的密封性。
实用新型内容
本实用新型目的之一是解决现有技术中当门下垂后无法长时间保证金属腔体密封性的问题。
本实用新型目的之二是提供一种磁控溅射门防下垂辅助方法。
为达到上述目的之一，本实用新型采用以下技术方案：一种磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，包括：连接体，连接体一端具有调整体，连接体另一端固定在磁控溅射门上；辅助装置，辅助装置固定在磁控溅射设备上，连接体与辅助装置位于相对方向，调整体位于辅助装置内，辅助装置与调整体具有一定间隙，辅助说装置包括：复位件，复位件具有导向面，复位件为刚性材料，复位件位于调整体一侧，复位件为弧形。
在上述技术方案中，本实用新型实施例首先采用打开磁控溅射门的方式，使得连接体受力转动，带动调整体旋转，在此时，旋转一定程度后的调整体脱离与其接触的复位件。之后采用关闭磁控溅射门的方式，连接体受力转动，带动调整体旋转，此时，旋转一定程度后的调整体重新接触复位件；在调整体接触复位件的过程中，当磁控溅射门下垂时，调整体顺着复位件的导向面移动，使得调整体回到原位，调整体受力同时拉住了磁控溅射门，将磁控溅射门拉回原位。
进一步地，在本实用新型实施例中，连接体为圆柱体。
进一步地，在本实用新型实施例中，调整体为半圆柱体。半圆柱调整体的体积有限，当调整体旋转时，能够实现脱离与复位件接触的情况，防止打开磁控溅射门后，因磁控溅射门处于下垂状态，导致调整体或者复位件一直需承受较大的应力，导致调整体或者复位件在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。并且半圆柱调整体具有弧面，有利于调整体旋转时进行应力的导向，防止多边形的调整体与复位件产生摩擦，导致调整体或者复位件在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。
进一步地，在本实用新型实施例中，复位件包括：导柱；支撑环，支撑环连接导柱一端；导向环，导向环连接导柱另一端。调整体旋转接触复位件时，与调整体接触的导向环受到调整体的旋转力，将力传导到导柱中，使得导柱进行旋转降低调整体与导向环产生的摩擦力，进一步降低调整体与复位件的磨损，防止调整体或者复位件在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。
更进一步地，在本实用新型实施例中，导柱为圆柱体，支撑件与导向件均为弧形，支撑件的弧度与导向件的弧度相同。圆柱体的导柱有利于配合调整体旋转方向的力，能够最大化消除调整体与复位件的摩擦力。
进一步地，在本实用新型实施例中，辅助装置还包括：弹性体，弹性体连接复位件，复位件还包括：施力柱，施力柱一端具有斜面，斜面向弹性体回缩方向倾斜；通孔，通孔连通外界，通孔中具有：受力柱，受力柱与施力柱的斜面一端相互贴合。根据磁控溅射门下垂程度，预装载弹性体的受力程度，当磁控溅射门下垂程度较小时，磁控溅射门侧向力较小，不会损坏辅助装置，弹性体不进行回缩，通过复位件的导向面对调整体复位，使得调整体回到原位，调整体受力同时拉住了磁控溅射门，将磁控溅射门拉回原位。当磁控溅射门下垂程度较大时，磁控溅射门侧向力较大，可能会损坏辅助装置，弹性体变形回缩移动，同时施力柱也进行移动推动受力柱，将受力柱顶出辅助装置，达到对工作人员视觉指示的目的(需更换铰链)。
进一步地，在本实用新型实施例中，辅助装置还包括：活动件，活动件位于辅助装置外表面。
更进一步地，在本实用新型实施例中，受力柱与施力柱均为圆柱体。
进一步地，在本实用新型实施例中，辅助装置还包括：延伸体，延伸体具有滑移槽；杠杆，杠杆一端穿过滑移槽，穿过滑移槽的杠杆一端具有导向体，导向体具有斜边，杠杆另一端具有挡面；支柱，支柱活动连接杠杆。
进一步地，在本实用新型实施例中，磁控溅射门防下垂辅助装置还包括:导向坡；示警件，示警件位于导向坡上，示警件一端贴合挡面。
本实用新型的有益效果是：
第一，本实用新型在打开或关闭磁控溅射门过程中，使得调整体刚性接触复位件对磁控溅射门进行复位，达到保证金属腔体的密封性的目的。
第二，本实用新型在打开或关闭磁控溅射门过程中，调整体和复位件接触过程极为短暂，只有在磁控溅射门密封时才进行接触，极大减小了调整体和复位件的摩擦，有利于长时间保证金属腔体密封性。
第三，本实用新型在打开或关闭磁控溅射门过程中，调整体顺着复位件的导向面移动，使得调整体回到原位，有利于调整体旋转时进行应力的导向，防止多边形的调整体与复位件产生摩擦，导致调整体或者复位件在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。
为达到上述目的之二，本实用新型采用以下技术方案：一种磁控溅射门防下垂辅助方法，包括以下步骤：
脱离，打开磁控溅射门，连接体受力转动，带动调整体旋转，此时，旋转一定程度后的调整体脱离与其接触的复位件；
复合，关闭磁控溅射门，连接体受力转动，带动调整体旋转，此时，旋转一定程度后的调整体重新接触复位件；
复位，当磁控溅射门下垂时，调整体接触复位件的过程中，调整体顺着复位件的导向面移动，使得调整体回到原位，调整体受力同时拉住了磁控溅射门，将磁控溅射门拉回原位。
进一步地，在本实用新型实施例中，复位过程中，根据磁控溅射门下垂程度，预装载弹性体的受力程度，当磁控溅射门下垂程度较大导致弹性体变形回缩移动时，同时施力柱也进行移动推动受力柱，将受力柱顶出辅助装置。
更进一步地，在本实用新型实施例中，根据复位需要，转动活动件抵住受力柱进行逆推，迫使弹性体复位，进一步使得调整体复位，最后使得磁控溅射门复位。
进一步地，在本实用新型实施例中，复位过程中，根据磁控溅射门下垂程度，预装载弹性体的受力程度，当磁控溅射门下垂程度较大导致弹性体变形回缩移动时，同时延伸体移动，杠杆的导向体斜边与延伸体接触，斜边受力移动，在支杆的作用下，杠杆的挡面向着斜边相反的方向移动，示警件在自身重力的作用下顺着导向坡移出辅助装置，与地面或者磁控溅射设备发生碰撞产生示警声响。
附图说明
图1为现有技术中磁控溅射门的平面示意图。
图2为现有技术中磁控溅射门下垂示意图。
图3为本实用新型实施例磁控溅射门防下垂辅助装置的平面视图。
图4为本实用新型实施例防下垂辅助装置的结构示意图。
图5为图4的A局部放大图。
图6为本实用新型实施例防下垂辅助装置的三维示意图。
图7为本实用新型实施例防下垂辅助装置的另一三维示意图。
图8为本实用新型实施例防下垂辅助装置的运动示意图。
附图中
1、固定体 2、磁控溅射门 3、铰链
4、连接体 41、调整体 5、辅助装置
51、导向坡 6、间隙 7、复位件
71、导柱 72、支撑环 73、导向环
8、弹性体 9、施力柱 91、延伸体
92、滑移槽 10、受力柱 11、活动件
12、杠杆 121、导向体 122、挡面
13、支柱 14、示警件
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案进行清楚、完整地描述，及优点更加清楚明白，以下结合附图对本实用新型实施例进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，仅仅用以解释本实用新型实施例，并不用于限定本实用新型实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“中”“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“一”、“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”、“第六”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
出于简明和说明的目的，实施例的原理主要通过参考例子来描述。在以下描述中，很多具体细节被提出用以提供对实施例的彻底理解。然而明显的是。对于本领域普通技术人员，这些实施例在实践中可以不限于这些具体细节。在一些实例中，没有详细地描述公知方法和结构，以避免无必要地使这些实施例变得难以理解。另外，所有实施例可以互相结合使用。
实施例一：
如图3、4所示，一种磁控溅射门防下垂辅助装置，其中，包括：连接体4、辅助装置5。连接体4左端具有调整体41，连接体4右端固定在磁控溅射门上。辅助装置5固定在磁控溅射设备上，连接体4与辅助装置5位于相对方向，调整体41位于辅助装置5内，辅助装置5 与调整体41具有一定间隙6，辅助说装置包括复位件7，复位件7具有导向面，复位件7为刚性材料，复位件7位于调整体41一侧，复位件7为弧形。
工作步骤：采用打开磁控溅射门2的方式，使得连接体4受力转动，带动调整体41旋转，在此时，旋转一定程度后的调整体41脱离与其接触的复位件7。之后采用关闭磁控溅射门2 的方式，连接体4受力转动，带动调整体41旋转，此时，旋转一定程度后的调整体41重新接触复位件7。在调整体41接触复位件7的过程中，当磁控溅射门2下垂时，调整体41顺着复位件7的导向面移动，使得调整体41回到原位，调整体41受力同时拉住了磁控溅射门 2，将磁控溅射门2拉回原位。
具体地，如图7所示，连接体4为圆柱体。
具体地，如图7所示，调整体41为半圆柱体。半圆柱调整体41的体积有限，当调整体41旋转时，能够实现脱离与复位件7接触的情况，防止打开磁控溅射门2后，因磁控溅射门 2处于下垂状态，导致调整体41或者复位件7一直需承受较大的应力，导致调整体41或者复位件7在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门2进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。并且半圆柱调整体41具有弧面，有利于调整体41旋转时进行应力的导向，防止多边形的调整体41与复位件7产生摩擦，导致调整体41或者复位件7在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门2进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。
具体地，如图5、6所示，复位件7包括：导柱71、支撑环72、导向环73。支撑环72 连接导柱71右端。导向环73连接导柱71左端。调整体41旋转接触复位件7时，与调整体41接触的导向环73受到调整体41的旋转力，将力传导到导柱71中，使得导柱71进行旋转降低调整体41与导向环73产生的摩擦力，进一步降低调整体41与复位件7的磨损，防止调整体41或者复位件7在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门2进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。
更具体地，如图6-8所示，导柱71为圆柱体，支撑件与导向件均为弧形，支撑件的弧度与导向件的弧度相同。圆柱体的导柱71有利于配合调整体41旋转方向的力，能够最大化消除调整体41与复位件7的摩擦力。
具体地，辅助装置5还包括弹性体8、通孔、活动件11。弹性体8连接复位件7，复位件7还包括施力柱9，施力柱9上端具有斜面，斜面向弹性体8回缩方向倾斜。通孔连通外界，通孔中具有受力柱10，受力柱10下端与施力柱9的斜面上端相互贴合。活动件11位于辅助装置5外表面。根据磁控溅射门2下垂程度，预装载弹性体8的受力程度，当磁控溅射门2下垂程度较小时，磁控溅射门2侧向力较小，不会损坏辅助装置5，弹性体8不进行回缩，通过复位件7的导向面对调整体41复位，使得调整体41回到原位，调整体41受力同时拉住了磁控溅射门2，将磁控溅射门2拉回原位。当磁控溅射门2下垂程度较大时，磁控溅射门2侧向力较大，可能会损坏辅助装置5，弹性体8变形回缩移动，同时施力柱9也进行移动推动受力柱10，将受力柱10顶出辅助装置5，达到对工作人员视觉指示的目的(需更换铰链3)。同时，为防止短时间因各种原因无法及时进行更换铰链3，影响工作时金属腔体的密封性，采用手或工具将受力柱10推回原位，转动活动件11抵住受力柱10，迫使弹性体8 复位，进一步使得调整体41复位，最后使得磁控溅射门2复位，保证金属腔体的密封性。
更具体地，受力柱10与施力柱9均为圆柱体。
具体地，如图6-8所示，辅助装置5还包括延伸体91、杠杆12、支柱13。延伸体91具有滑移槽92。杠杆12右端穿过滑移槽92，穿过滑移槽92的杠杆12右端具有导向体121，导向体121具有斜边，杠杆12左端具有挡面122。支柱13活动连接杠杆12。磁控溅射门防下垂辅助装置还包括导向坡51、示警件14。示警件14位于导向坡51上，示警件14左端贴合挡面122。根据磁控溅射门2下垂程度，预装载弹性体8的受力程度，当磁控溅射门2下垂程度较大导致弹性体8变形回缩移动时，同时延伸体91移动，杠杆12的导向体121斜边与延伸体91接触，斜边受力移动，在支杆的作用下，杠杆12的挡面122向着斜边相反的方向移动，没了挡面122阻挡，示警件14在自身重力的作用下顺着导向坡51移出辅助装置5，与地面或者磁控溅射设备发生碰撞产生示警声响。示警件14提供了工作人员听觉指示，提醒工作人员需更换铰链3，有利于延长磁控溅射门防下垂辅助装置对磁控溅射门2的复位工作，保证了长时间使用过程中金属腔体的密封性。
本实用新型的有益效果是：
第一，本实用新型在打开或关闭磁控溅射门2过程中，使得调整体41刚性接触复位件7 对磁控溅射门2进行复位，达到保证金属腔体的密封性的目的。
第二，本实用新型在打开或关闭磁控溅射门2过程中，调整体41和复位件7接触过程极为短暂，只有在磁控溅射门2密封时才进行接触，极大减小了调整体41和复位件7的摩擦，有利于长时间保证金属腔体密封性。
第三，本实用新型在打开或关闭磁控溅射门2过程中，调整体41顺着复位件7的导向面移动，使得调整体41回到原位，有利于调整体41旋转时进行应力的导向，防止多边形的调整体41与复位件7产生摩擦，导致调整体41或者复位件7在使用一段时间后损坏，使得无法对磁控溅射门2进行复位，无法长时间保证金属腔体密封性。
第四，本实用新型的辅助装置5与调整体41具有一定间隙6，这个间隙6为磁控溅射门 2的下垂移动提供了移动空间，防止磁控溅射门2直接拉动辅助装置5，可能导致辅助装置5 位移，使得无法实现对磁控溅射门2的复位。
一种磁控溅射门防下垂辅助方法，包括以下步骤：
脱离，打开磁控溅射门2，连接体4受力转动，带动调整体41旋转，此时，旋转一定程度后的调整体41脱离与其接触的复位件7。
复合，关闭磁控溅射门2，连接体4受力转动，带动调整体41旋转，此时，旋转一定程度后的调整体41重新接触复位件7。
复位，当磁控溅射门2下垂时，调整体41接触复位件7的过程中，调整体41顺着复位件7的导向面移动，使得调整体41回到原位，调整体41受力同时拉住了磁控溅射门2，将磁控溅射门2拉回原位。
具体地，复位过程中，根据磁控溅射门2下垂程度，预装载弹性体8的受力程度，当磁控溅射门2下垂程度较大导致弹性体8变形回缩移动时，同时施力柱9也进行移动推动受力柱10，将受力柱10顶出辅助装置5。
更具体地，根据复位需要，转动活动件11抵住受力柱10进行逆推，迫使弹性体8复位，进一步使得调整体41复位，最后使得磁控溅射门2复位。
具体地，复位过程中，根据磁控溅射门2下垂程度，预装载弹性体8的受力程度，当磁控溅射门2下垂程度较大导致弹性体8变形回缩移动时，同时延伸体91移动，杠杆12的导向体121斜边与延伸体91接触，斜边受力移动，在支杆的作用下，杠杆12的挡面122向着斜边相反的方向移动，示警件14在自身重力的作用下顺着导向坡51移出辅助装置5，与地面发生碰撞产生示警声响。
实施例二：
一种磁控溅射门，具有实施例一的防下垂辅助装置。
实施例三：
一种磁控溅射设备，具有实施例二的磁控溅射门。
尽管上面对本实用新型说明性的具体实施方式进行了描述，以便于本技术领域的技术人员能够理解本实用新型，但是本实用新型不仅限于具体实施方式的范围，对本技术领域的普通技术人员而言，只要各种变化只要在所附的权利要求限定和确定的本实用新型精神和范围内，一切利用本实用新型构思的实用新型创造均在保护之列。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920088362.9
申请日:2019-01-21
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:32(江苏)
授权编号:CN209555360U
授权时间:20191029
主分类号:C23C 14/35
专利分类号:C23C14/35
范畴分类:25F;
申请人:苏州赛森电子科技有限公司
第一申请人:苏州赛森电子科技有限公司
申请人地址:215600 江苏省苏州市张家港市福新路2号B06一楼赛森电子
发明人:伍志军
第一发明人:伍志军
当前权利人:苏州赛森电子科技有限公司
代理人:高远
代理机构:32261
代理机构编号:苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计