论文摘要
采用电子束热蒸发技术,用不同沉积速率制备了TiO2薄膜。根据透射率谱计算了薄膜的光学带隙,采用椭偏法测量了薄膜的折射率、消光系数及厚度,分析了薄膜内部的电场强度分布,对其激光损伤特性进行了研究。结果表明,在所研究的工艺参数范围内,TiO2薄膜的光学带隙比较稳定,随沉积速率的变化并不显著,其值大小在3.95eV-3.97eV。当沉积速率从0.088nm/s,0.128nm/s增加到0.18nm/s时,薄膜折射率从1.9782,1.9928,升高到2.0021（波长1064nm）,但当沉积速率继续增加到0.327nm/s时,折射率反而降低到1.9663,薄膜的消光系数随着沉积速率的增加单调增加。采用同一高能激光损伤薄膜后,当沉积速率较低时制备薄膜的损伤斑大小基本一致,但以0.327nm/s较高速率制备的薄膜,其损伤斑明显增大。高沉积速率下制备的TiO2薄膜的吸收较大,激光损伤阈值较低。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 徐均琪,李候俊,李绵,王建,苏俊宏,基玛·格拉索夫
关键词: 薄膜,光学带隙,折射率,激光损伤阈值,电场强度
来源: 真空 2019年01期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅱ辑,基础科学
专业: 物理学,工业通用技术及设备
单位: 西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,白俄罗斯国立信息与无线电电子大学
基金: 陕西省国际科技合作与交流计划资助项目(2016KW-036),陕西省教育厅重点实验室科研计划项目(16JS037),陕西省科技厅自然科学基础研究计划(2016JZ025),科技部国际合作资助项目(2013DFR70620)
分类号: O484.41
DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2019.01.08
页码: 39-44
总页数: 6
文件大小: 536K
下载量: 182
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