单一蒸发源膜厚分布的均匀性

论文摘要

基于非余弦膜厚计算公式,提出了利用极坐标简化表征膜厚分布的方法,对单源电子束蒸发的光学薄膜的膜厚均匀性控制进行了研究,同时对修正板的放置位置进行了计算。相对于传统修正板置于蒸发源正上方的方法,采用极坐标法计算得到的修正板位置更有利于控制膜厚分布的均匀性。以蒸发H4和MgF2为例,分别对高、低折射率材料的修正板位置和形状进行计算,并利用这两种材料分别制备单层膜,实测光谱均匀性偏差优于0.3%,证明了所提方法的正确性与可行性。

论文目录

• 1 引 言
• 2 理论分析
• 3 实验结果与讨论
• 4 结 论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 付秀华,赵迪,卢成,马国俊,鲍刚华

关键词: 薄膜,光学镀膜,膜厚均匀性,修正板

来源: 光学学报 2019年12期

年度: 2019

分类: 基础科学,工程科技Ⅱ辑

专业: 物理学,工业通用技术及设备

单位: 长春理工大学光电工程学院

基金: “十三五”装备预研共用技术和领域基金(414xxxx0202)

分类号: O484.41

页码: 425-429

总页数: 5

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