导读:本文包含了镀膜工艺参数论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:薄膜,参数,工艺,声阻,速率,真空镀膜,座舱。
镀膜工艺参数论文文献综述
邱党社,于晓燕,周滨,黄凡[1]（2017）在《氮化硅镀膜工艺参数优化》一文中研究指出利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积给定折射率的氮化硅薄膜,通过正交实验法对衬底温度、NH_3流量和射频功率3个对氮化硅薄膜沉积速率影响较大的工艺参数进行全局优化和调整,得到了氮化硅镀膜的最优工艺参数。(本文来源于《湖南文理学院学报(自然科学版)》期刊2017年04期）
刘战合,姬金祖,王晓璐,王菁[2]（2017）在《飞机座舱玻璃铌掺杂ITO镀膜工艺参数选择》一文中研究指出对飞机座舱玻璃镀膜能够有效提高飞机的头向隐身性并能优化座舱光电性能参数。针对座舱玻璃铌掺杂ITO镀膜,重点研究参与溅射的靶材数目、氧气流量等工艺参数对其性能参数的影响规律。结果表明:参与溅射的靶材数目增加,方块电阻快速降低,之后下降斜率变小,趋于定值;透光率振荡变化,且当方块电阻大小稳定后逐渐变小。氧气流量增加时,方块电阻先减小后增加,当氧气流量大于6sccm时,方块电阻迅速增加,透光率振荡后降低。不同基底的铌掺杂ITO薄膜,其方块电阻和透光率变化不大,仅影响真空度等其他工艺过程。各工艺参数对薄膜颜色有一定的制约作用。(本文来源于《航空工程进展》期刊2017年01期）
孔建军[3]（2011）在《真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响》一文中研究指出薄膜镀制是固态的膜层材料在真空条件下蒸发或者溅射,经过气相传输,在基片表面沉积成薄膜。相同的薄膜设计,因操作人员、时间、设备、工艺参数等的不同,结果相差甚大。影响薄膜特性的工艺参数非常多,但对于这些工艺参数的测控却非常有限。举例来说,(本文来源于《国防制造技术》期刊2011年05期）
张松,席曦,李文佳,吴甲奇,顾晓峰[4]（2010）在《酞菁铜蒸发镀膜工艺中膜厚控制参数的确定》一文中研究指出基于目前采用的膜厚仪中缺少必要的有机材料的参数(密度和声阻抗),采用真空蒸镀法,在抛光硅片上蒸镀不同显示值厚度下的酞菁铜薄膜,利用椭偏仪测量其真实膜厚,并使用数学软件MATLAB,结合膜厚仪实时监控原理进行理论计算,拟合得到酞菁铜薄膜的参数——声阻抗Zf=0.01 g/cm3.s,薄膜密度Df=6.68 g/cm3。验证实验结果表明,此参数输入膜厚仪中可以比较精确地控制薄膜厚度,显示值和实际测量值的差距约为3 nm。(本文来源于《半导体技术》期刊2010年11期）
雷彬,J,Mussajew,R,Alijew[5]（2001）在《优化真空渗透镀膜工艺参数》一文中研究指出通过对真空渗透镀膜质量影响因素的分析 ,确定了扩散时间、扩散温度及金属粉末粒度是影响镀膜质量的主要因素。用正交试验法进行了实验 ,并求出了该工艺的最佳参数。(本文来源于《新技术新工艺》期刊2001年01期）
镀膜工艺参数论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
对飞机座舱玻璃镀膜能够有效提高飞机的头向隐身性并能优化座舱光电性能参数。针对座舱玻璃铌掺杂ITO镀膜,重点研究参与溅射的靶材数目、氧气流量等工艺参数对其性能参数的影响规律。结果表明:参与溅射的靶材数目增加,方块电阻快速降低,之后下降斜率变小,趋于定值;透光率振荡变化,且当方块电阻大小稳定后逐渐变小。氧气流量增加时,方块电阻先减小后增加,当氧气流量大于6sccm时,方块电阻迅速增加,透光率振荡后降低。不同基底的铌掺杂ITO薄膜,其方块电阻和透光率变化不大,仅影响真空度等其他工艺过程。各工艺参数对薄膜颜色有一定的制约作用。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
镀膜工艺参数论文参考文献
[1].邱党社,于晓燕,周滨,黄凡.氮化硅镀膜工艺参数优化[J].湖南文理学院学报(自然科学版).2017
[2].刘战合,姬金祖,王晓璐,王菁.飞机座舱玻璃铌掺杂ITO镀膜工艺参数选择[J].航空工程进展.2017
[3].孔建军.真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响[J].国防制造技术.2011
[4].张松,席曦,李文佳,吴甲奇,顾晓峰.酞菁铜蒸发镀膜工艺中膜厚控制参数的确定[J].半导体技术.2010
[5].雷彬,J,Mussajew,R,Alijew.优化真空渗透镀膜工艺参数[J].新技术新工艺.2001
论文知识图
